• 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像カタログあり

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Wind...(つづきを見る

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像カタログあり

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の...(つづきを見る

  • □■□【MiniLab-026】R&D用小型真空蒸着装置□■□ 製品画像カタログあり

    小型、省スペース! 研究開発に最適 基礎研究開発専用、抵抗加熱蒸着装置…

    モジュラー組立式「Plug&Play」感覚で、必要なモジュール、コントローラ、コンポーネントを組合せて接続することにより構成される装置です。「MiniLabシリーズ」は、製作範囲が広く、抵抗加熱式蒸着(標準)、EB蒸着、スパッタなど...(つづきを見る

  • DLCスパッタリング装置(TeerCoatings  UDP) 製品画像カタログあり

    DLC(Graphit-iC), MoSTの成膜に最も適した装置です。…

    英国TEER COATINGS社が開発したClosed Field Unbalanced Magnetron Sputter Ion Plating(CFUBMSIP)装置は緻密で高度が高く密着力に優れた膜を形成することができます。 【1】製品ラインナップ UDP6...(つづきを見る

  • バレル型ALD真空成膜ロボット CMVB series 製品画像

    ALD装置とバレル型スパッタ装置の融合

    ・粉体材料や極小部品表面に均一に高品質な成膜が可能 ・平面ではないワーク形状や他の方法では成膜できなかった材料などにも技術応用可能 ...バレル式の室温ALD成膜により、粉体材料や極小部品表面にも均一に機能性膜等のコーティングが可能。 装置開発・販売だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な成膜レシピ、成膜作製等、成膜に関する受託サービスを提供いたします。 ※詳しく...(つづきを見る

  • NCフライス加工/中型精密切削加工品/A5052 製品画像カタログあり

    アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。

    某半導体メーカー様よりご依頼頂き、アルミ材による生産設備部品の製作を承りました。 A5052 アルミ材と言えど、中実のままでは重量増の為、 各所に肉抜きの切削加工を施し軽量化を図る構造となっております。 肉抜きしても歪みも公差ズレも無く、完璧な仕上がりです。 弊社では、この様な中型(500mm前後)~大型(1000mm前後)の 切削加工品のご用命も承れます。 ※詳しくは...(つづきを見る

  • 研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』 製品画像カタログあり

    省スペース化を実現!同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

    『HSK602VTA』は、6基の小型カソードが個別のシャッターと電源を 持ち、同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置です。 リボルバー式4サンプルホルダーを装備しており、一度の真空引きで 4条件の成膜ができます。 また、コンパクト設計により、省スペース化を実現しました。 【特長】 ■コンパクト設計 ■6カソード ■リボルバー式4サンプルホルダーを装備 ■...(つづきを見る

  • 質量ガス分析計 Transpector XPR 3+(プラス) 製品画像カタログあり

    PVD やスパッタリングのプロセスでのウェーハやパネルのリアルタイムの…

    質量範囲 1 ~ 100 amu 質量フィルタータイプ 四重極 最大動作圧 FC または EM 2.6 Pa FC または EM ( Linear operation ...(つづきを見る

  • 高電圧パルス発生器 製品画像カタログあり

    電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

    ・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフローティング回路へ80W電力供給、SPI信号通信。...本電源ユニットは、研究用装置電源の機能として求められている多様な機能を有して...(つづきを見る

  • 大電流用ロータリーコネクタ 製品画像

    最大3000Aの通電が可能!RoHS対応!ロータリーコネクタ、スリップ…

    最大で3000Aの通電が可能なロータリーコネクタです。もちろん、RoHS対応の製品です。スリップリングや水銀を使用したロータリージョイントの置き換えに是非ご検討ください。メッキ装置や溶接機などの大電流をご使用される箇所には特にお勧めです。回転トルクも低く、コンパクトな設計です。...大電流ロータリーコネクタ 極数:1極 電流値:250~3000A 使用温度:0~80℃ 回転トルク:250~...(つづきを見る

  • 【書籍】薄膜の応力・密着性・剥離トラブルハンドブック 製品画像カタログあり

    <Q&A集付> 手元に欲しい一冊!

    9,500円+税 普及価格にてご提供! ★薄膜を取扱ための必携本! ★できるだけ簡単な数式を使用し説明! ★現場トラブルを解決する30以上のQ&A付き! ●表面・界面を評価、分析するポイント! ●現場では聞けない&聞く人がいない ●膜の剥離・剥がれ・割れにはどう対応するの? ●良質の膜とは、その作製法とは! ●薄膜プロセスによる応力の発現機構を理解! ...発刊  2007年1...(つづきを見る

  • 卓上型『真空蒸着装置』&『スパッタリング装置』 製品画像カタログあり

    高機能・コストパフォーマンスに優れたR&D用薄膜実験装置開発に…

    『nanoPVDシリーズ』は、材料研究・新素材開発・電子デバイス開発などの基礎実験・研究開発用に多目的にご使用いただける小型・高性能真空薄膜実験装置です。 nanoPVD-S10Aは、Ф2inchマ...(つづきを見る

  • 【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch 製品画像カタログあり

    超高温Max1800℃。 あらゆるプロセス環境に対応可能な基板加熱ヒー…

    基板加熱ヒーター (窒化アルミプレート)Max 1800℃ 対応可能サイズ 1〜12inch用、及び最大φ800まで ヒーターエレメント:NiCr線(標準)、トッププレート材質:AlN(窒化アルミ)を採用した超高温・加熱効率に優れた成...(つづきを見る

  • 小型スパッタリング装置 製品画像カタログあり

    コンパクト設計で省スペースを実現!大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

    韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物性研究や製品QCおよびQA、半導体の故障解析などに最適です。 ■詳細はカタログダウンロードより■ ●御問合せ:03-5472-1722 (TEL)...【主な特長】 コンパクト設計により...(つづきを見る

  • 多種金属対応 プログラマブルスパッタコーター 製品画像カタログあり

    Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

    【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ:φ70mm(Max) 〇排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H):360/422/265mm...(つづきを見る

  • 電子顕微鏡試料作製用装置 SC-701Mk II ECO 製品画像カタログあり

    シンプルを追求したコーター ボタン1つで簡単に操作できます

    【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd ○試料サイズ:φ50mm(Max) ○排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min ○スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 ○寸法(W/D/H):160/255/286mm...(つづきを見る

  • 【高イオン電流&低コンタミ】RFイオンソース 製品画像カタログあり

    高イオン電流密度、高純度、高メンテナンス性を備えた、プロセスおよび成膜…

    【製品仕様】 RFMax30 ◆ビーム口径:30mm ◆取付フランジ:ICF114 ◆標準真空側ソース長:290mm ◆真空側直径:57mm ◆対応ガス種:O2、N2、H2、Ar ◆ガス流量:8~10sccm...(つづきを見る

  • カセット 精密機械加工品  製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃ 製品画像カタログあり

    超高温基板加熱ユニットに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    半導体、電子基板、真空成膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:2〜12inch 真空(UHV可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ 基板Zシフト昇降機構(基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式) ◉ 基板回転機構 ◉ RF...(つづきを見る

  • 製作実績【2】/半導体製造装置 関連部品 製品画像カタログあり

    金属部品から樹脂製品まで、半導体製造装置に関わる部品を実績にてご紹介!

    (1)製品搬送プレート(MC703HL) MC703HLは低摩擦係数で滑り特性・摺動性に優れ製品の搬送や スライダー系の用途に用いる事で製品を傷めずに無潤滑で摺動効果を維持できます。 (2)特殊形状加工品(SKD11) 工具鋼材(SKD11)での加工品の製作を承りました。 (3)生産設備部品(A5052) アルミ材(A5052)であっても、中実のままでは重量増の為、各所に肉抜...(つづきを見る

  • 『ロール・ツー・ロール成膜技術』のご紹介 製品画像カタログあり

    フレキシブルエレクトロニクスや光学用多層膜向けの成膜技術!

    【ロール・ツー・ロール成膜装置 ラインアップ】 ■SmartWeb SL ■SmartWeb XL ■SmartWeb WF63 ■SmartWeb WF88 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 樹脂製品 製品画像カタログあり

    お客様の図面によって様々な精密部品加工が対応出来ます。

    ○最小ロット数:1 pcs納期:発注後 15日間 (1pcs 発注時) ○引渡し条件:FOB dalian、CIF、DDU、DDP ○支払い条件:T/T、Paypal ○決済可能な通貨:日本円、米ドル ○その他の条件:仕様書:有 、包装:有 、梱包:有 、製品写真:有 、サンプル提供:有 ...(つづきを見る

  • SRR-W(N)粘着ロール除塵装置 製品画像

    業界を問わずお客様を悩ませてきたメンテナンス時の粘着ロール洗浄をより迅…

    弊社の長年のフィールドサービスの経験から生み出された半自動SRRロールクリーニング装置装置は、メンテナンス時にロールを強制的に回転させる駆動を標準装備した装置です。一般的なチェーンやベルトを使用する駆動と違い、弊社独自の駆動装置により、駆動部の摩耗による粉じんが発生するリスクがありません。従来、1700mm幅の粘着ロールの洗浄に15分ほどかかっていましたが、弊社装置で洗浄すれば約2分で清掃完了!作...(つづきを見る

  • 8インチスパッタコーター SC-708シリーズ 製品画像カタログあり

    大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチ…

    QUICK COATER SC-708シリーズは、SEM観察または分析用大型試料のチャージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時...(つづきを見る

  • 全自動イオンコーター SC-701AT 製品画像カタログあり

    SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

    【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:自動 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H):225/420/320 ...(つづきを見る

  • 多種金属対応!業界最小クラスの超コンパクトコーターです。 製品画像カタログあり

    Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

    【仕様】 ○ターゲットサイズ:φ49mm/t0.5mm(Max) ○適用可能ターゲット:Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al ○試料サイズ:φ50mm(Max) ○排気操作:手動式 ○スパッタ方式:DCマグ...(つづきを見る

  • 手軽に電極膜作製 デスクトップコンパクトコーター 製品画像カタログあり

    40年以上のロングセラーモデル 手軽に電極膜作製ができるデスクトップ…

    【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd/Ag 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:手動式 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DC/平行平板型 〇寸法(W/D/H):160/326/286mm ...(つづきを見る

  • マグネトロンスパッタコーター SC-701MC 製品画像カタログあり

    イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

    【仕様】 〇ターゲットサイズ:φ49mm 〇適用可能ターゲット:Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ:φ50mm(Max) 〇排気操作:自動 〇排気装置:直結型ロータリーポンプ 20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式:DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H):225/420/320mm...(つづきを見る

  • Roll to Roll Sputtering System 製品画像カタログあり

    Flexible Display用など機能性Film製造用Coatin…

    Roll to Roll Sputter SystemはFlexible Display用フィルムなど機能性フィルム製造用コーティング装備で薄いフィルムにコーティング膜の厚さを維持しながら高速コーティングができます。 ...(つづきを見る

  • 表面処理・精密洗浄事業 再生・精密洗浄 製品画像

    個々のプロセスに最適な表面処理!精密・洗浄のご提案

    イアイスブラスト洗浄  ・アルマイト処理部品の洗浄に最適  ・サーマルショック及び昇華時の膨張エネルギーによって付着物を除去  ・ルマイトへのダメージを最小限に抑制 ○セラミック洗浄(Rehabilitate Ceramics)  ・セラミック部品に付着したフッ化物や取れにくい黄ばみを除去 ●詳しくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • In-Line Sputtering System 製品画像カタログあり

    平板ガラス基板の上に薄膜をコーティングする装備

    • System Type : Vertical & Horizontal Type • Substrate Size : Customer request ( Generally Glass ) • Target ...(つづきを見る

  • アドバンスドエナジー社製 プラズマ用各種電源 製品画像

    アドバンスドエナジー社製DC電源、LF電源、MF電源、RF電源、パルス…

    す。 また、コーティングや表面装飾等の一般産業分野でも、世界的に高い評価を得ています。 小型軽量で耐久性に優れたCESERシリーズRF電源、スパッタ用DC電源のスタンダードとも呼べるPinnacleシリーズDC電源を始め、豊富なラインアップの中からご希望の出力波形と出力電力にマッチした、最適な一台をご提案します。 インピーダンス整合器のご相談は、当社までお気軽にご連絡ください。 ...(つづきを見る

  • 【大学・研究機関向け】研究・開発用真空装置 製品画像カタログあり

    各種オプションを御用意!御要望の仕様にカスタマイズ!装置導入検討ための…

    Pプラズマエッチング装置(深堀りエッチング) ■ アーク放電型イオンプレーティング装置(イオン窒化、TiN、TiC等) ■ 真空はんだ付け装置(パワーデバイス向け接合-信頼度No.1) ■ Vapor Phase Reflow Soldering (新技術) など ※詳しくはお問合せいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。 ...(つづきを見る

  • 真空続き手・製品多様-アダプタシリーズ 製品画像カタログあり

    製品多様真空部品-アダッブタシリーズ

    真空配管や真空装置などによく使用される真空継手の一種です。 それらの製品は変換フランジアダッブタ、ストレス変換フランジアダッブタ、VCRメス、オスアダッブタ、Swagelog接続のメス、オスアダッブタを含めています。規格品を提供可能以外に客先のニーズを応じて特製品を提供できます。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」 製品画像カタログあり

    膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。

    【性能】 ○膜厚分布 トレイ内 ±1.2% トレイ間 ±1.5% ○ターゲット使用効率 44%(最大) ○タクト 3分/サイクル  ※1枚目を除く ○到達圧力 仕込室 1.0×10^-3Pa以下 SP室 1.0×10^-3Pa以下 ○排気時間 仕込室 2.0×10^-2Pa迄 3分以内       SP室 1.2×10^-2Pa迄 10分以内 ○基板加熱温度 150℃以上を確認 ...(つづきを見る

  • Aera PI-980 プレッシャーインセンシティブMFC 製品画像カタログあり

    明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

    す。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度センサならびに当社独自のNeuralStep制御技術を一体化することによって、従来型の製品に使われていたハイコストなガスパネル部品の必要性を減少します。また、マルチガス・マルチレンジ機能により、予備在庫の必要性が劇的に減り、コスト効...(つづきを見る

  • Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ 製品画像カタログあり

    経済性に優れた高精度ラバーシール

    特長 ・高速応答性 ─ 設定値入力後2秒未満で流量安定 ・エラストマー(ゴム)シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm~200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec(He)以下...(つづきを見る

  • Batch Type Sputtering System 製品画像カタログあり

    一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式

    Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。 ...(つづきを見る

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