• セラミック・超硬等、スラッジの処理のお悩み解決 製品画像

    PR洗浄が大変、ろ過装置を導入したいが予算が無いなどの問題も解決!

    セラミック・超硬等、スラッジの処理でお悩みではありませんか? "ワークの小さい穴に切粉が入ってしまうと洗浄が大変" "ろ過装置を導入したいが、高額なため予算が無い"などの問題を 簡易式濾過装置『超硬を完全濾過くん』が解決します! 当製品は、シンプルな構造で設備費用を抑えるほか 既存のタンクにそのまま設置可能。廃液・スラッジの廃棄量の削減、 研削液の補充量削減になります。 ...(つづきを見る

  • 単結晶GaAsウエハ GaAsポリ  製品画像カタログあり

    中国製GaAs 単結晶GaAsウエハ 高純度GaAsポリ

    高純度のGaAsポリ(Poly)をご提供いたします。 又、Φ2”~Φ4”の単結晶GaAsインゴット、ウェハーもご提供いたします。 ...(つづきを見る

  • 500万画素・小型29mm角・高速CameraLink カメラ 製品画像

    高画質で高速フレームレート、CameraLinkインターフェースを採用…

    2/3型CMOSイメージセンサー(SONY/IMX264)を用いた500万画素カメラリンクインターフェース対応カメラです。小型29mm角で、外部トリガ、ROI、サブサンプリング等の機能を搭載。Base Configuration/1tap~3tapの切換えが可能で、500万画素(2448x2048)を35.8fps(3tap時)で高速に読み出します。 FA向け組み込みカメラとして、高画素・...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300S』 製品画像カタログあり

    高品質のALD膜を作り出す!IC部品生産のための特別設計された成膜シス…

    ェハ  ・高アスペクト比サンプル(最大 1:2500) ■処理温度:50~500℃ ■標準処理  ・最小1桁秒までのサイクルタイムで単一ウェハプロセスが可能  ・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル、  ・<1% 1σバッチ内不均一性 (Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE) ■基板の装着  ・...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』 製品画像カタログあり

    高品質のALD膜を作り出す!MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

    ドホルダー)  ・高アスペクト比サンプル(最大1:2500) ■処理温度:50~500℃ ■標準処理  ・最小1桁秒までのサイクルタイムでバッチ処理が可能  ・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル  ・<1% 1σバッチ内不均一性 (Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE) ■基板の装着  ・空...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Rシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    【ラインアップ】 ■R-200 エアオープンタイプ ■R-200 PEALD+真空搬送ロボット ■ロードロック/マニュアルマニピュレーター ■デュアルアーム真空搬送ロボット+R-200 advanced PEALDx3 ■R-200 advanced クラスターツール ■グローブボックス ■エリプソメーター ■R2R ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い...(つづきを見る

  • 原子層堆積装置(ALD装置) R-200 製品画像カタログあり

    サーマル及びプラズマALDの研究ツールに最適!企業・研究機関への実績多…

    孔・未貫通孔)、高アスペクト比サンプル(最大1:2500) ■処理温度 ・50~500℃、プラズマ450℃(ご要望に応じ加熱チャックにより650℃) ■標準工程 ・Al2O3、TiO2、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、ZrO2、AlN、TiN、AlN、Pt及びIrなどのメタル ■基板ローディング ・エアリフターによるマニュアルローディング ・磁気マニピュレーターアームによるロードロック ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじめ、 「P300BV ロードロック/セミオートロ...(つづきを見る

  • 【分析事例】AFMデータ集 製品画像カタログあり

    AFM :原子間力顕微鏡法

    AFMは微細な探針で試料表面を走査し、ナノスケールの凹凸形状を三次元的に計測する手法です。 金属・半導体・酸化物などの材料評価だけでなく、毛髪やコンタクトレンズなどのソフトマテリアルまで幅広い材料を測定可能です。 本資料では、様々な材質のAFM像をご紹介します。...詳しいデータはカタログをご覧ください...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置) P-300BV 製品画像カタログあり

    ALD量産向けの標準品!研究開発から生産への移行にはこの型番をご検討く…

    具は別途作成必要) ・高アスペクト比サンプル(最大1:2500) ■処理温度 ・50~450℃ ■標準工程 ・最小1桁秒(<10秒)までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 ・Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AlN、TiN及びメタル ・<1% 1σ バッチ内NU(Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE) ■基板ローディング ・垂直ローダーに...(つづきを見る

  • PLAZMARK(R) ウエハ型 セラミックタイプ 製品画像カタログあり

    ウエハプロセスのプラズマ評価に!面内分布を手軽に可視化。高温プロセスも…

    プラズマ処理効果の評価ツールとして、2014年の発売以来、 お客様の用途に応じてラインアップを拡充してきた「PLAZMARK(R)」。 このたびご要望の多かったウエハプロセス向け製品の第1弾として 『PLAZMARK(R) "ウエハ型" セラミックタイプ』が登場! 電子デバイスのエッチングやアッシングなど、 ウエハプロセスの面内分布等の評価にご利用いただけます。 【特長】 ...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置) P-300F 製品画像カタログあり

    全自動量産の標準品

    エハで50pcs/バッチ ・150mmウエハで50pcs/バッチ ・100mmウエハで50pcs/バッチ ・高アスペクト比サンプル(最大1:2500) ・基板材料:Si、ガラス、クオーツ、SiC、GaN、GaAs、LiNbO3、LiTaO3、InP ■処理温度及び容量 ・50~300℃ ・最大1000ウエハ/24時間@15nm Al2O3膜厚 ■標準工程 ・最小1桁秒(<10秒)までのサイクルタ...(つづきを見る

  • 化合物半導体ウエハ用非接触搬送装置「SAG(InP)型」 製品画像

    化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)を気体供給操作を行い、ウ…

    ◎特徴 1.450℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 2.化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2~4in ウエハ ・Φ2~4inx1/4ウエハ ・Φ2~4inx1/2ウエハ ...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-1000』 製品画像カタログあり

    0.01nmの厚みでコーティング可能!機械部品や医療用インプラントなど…

    『P-1000』は、機械部品、ガラスまたはメタルシート、コイン、ジュエリー、エッチャー装置部品、または医療用インプラントなど、さまざまな3Dオブジェクトのバッチコーティングに適した装置です。 主なアプリケーションには、デバイスの性能や寿命を大幅に向上させるための各種パッシベーションやバリア層などがあります。 またドライエッチングプロセス環境からチャンバーやシャワーヘッド・ノズルなどの部品を...(つづきを見る

  • 循環脱気装置 UDS001A-WT90 製品画像カタログあり

    超音波洗浄の洗浄力を飛躍的にUPさせる!

    超音波洗浄槽内の溶存酸素量を、超音波洗浄に最適な値に安定させ、洗浄力を2倍~5倍にまで高めます。 コストパフォーマンスにも優れ、取付も簡単で大掛かりな工事は必要ありません。...脱気方式 :循環脱気(溶存酸素量3mg/ℓ以下) 水量 :1.2~36ℓ/min(インバーター可変切替) 使用水温 :水又は温水 0~90℃ 筐体サイズ :W250mm×D500mm×H215mm 重量 :13k...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置) P-1000 製品画像カタログあり

    大型部品の量産等に最適!

    P1000システムは、機械部品・ガラス/メタルシート、コイン、ジュエリー、医療用インプラント等、各種の3Dオブジェクトのバッチコーティングに適した設計となっています。 主なアプリケーションとしては、各種デバイスのパッシベーション、バリア層などです。 本システムはイノベーションを提供するアジャイルな設計であり、高品質のALD成膜を実現します。優れた均一性を備え、生産性を最大限に高め、システムのダ...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    PICOSUN JAPAN 株式会社は、ALDの技術開発において40年以上の経験を持つ ALD装置の専業メーカー・フィンランド Picosun Oy社100%出資の日本法人です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術よ...(つづきを見る

  • 基板のダメージを解消!『テープ貼り付け装置の開発・設計・製作』 製品画像

    研削後の基板に対するダメージを軽減。テープ貼付け装置をカスタム設計しま…

    当社は、テープ貼付け装置の開発試作から量産試作、量産まで実績豊富です。付加価値の高いものづくりを通じて、お客様の製造現場に貢献します。 ■製品例 本製品は、サファイア基板とダイシングリングを薄厚化テープで貼りつける半自動マウンターです。特殊機能により、研削後の基板に対するダメージを軽減することが可能です。(共同特許出願中) 詳しくは、電話または当社ホームページを通じて、お気軽にご...(つづきを見る

  • 『PICOSUN デベロップメントサービス』 製品画像カタログあり

    完全なALD製品製造に向けて!コンセプト段階から量産にいたる総合的サー…

    ALDは、プロセスまたは設備にとどまらない一つのソリューションです。 プロセスおよび設備はソリューションの中心ですが、設備のメンテナンスや お客様へのトレーニング、プロセスの最適化、増産、そしてALD化学技術も 忘れてはなりません。 当社ではお客様に対し、コンセプト段階から量産にいたる総合的なサービスを 提供いたします。 お客様は初期テスト段階から開発を当社の研究所と協力ながら...(つづきを見る

  • 太陽電池ウェハーカウンター『CSCIII-100C』 製品画像カタログあり

    ウェハー・カウントシステムは太陽ウェハー数を数えます。バーコードシステ…

    当社は各種電子機器の販売・技術サービス・製造支援を中心とする事業を展開しています。今回はそのうちの一つである【太陽電池ウェハーカウンター】をご紹介します。 この機器には、正確な数を計算する為のマルチセグメント・アルゴリズムを使用しています。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。...【主な特徴】 ○太陽光ウェハの枚数をカウント ○バーコードシステムによる簡単なデ...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像カタログあり

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)、グラフェン膜、グラファイト ...(つづきを見る

  • 有限会社ハヤシ精機 事業紹介 製品画像カタログあり

    マシニング加工、5軸マシニングセンター加工によるアルミ、ステンレス等の…

    マシニングセンター)を導入。なお 一層複雑かつ高精度な加工が可能となり、多くのお客様のご要望にお応 えする事が出来ます。 【営業品目】 ■液晶、半導体製造装置部品及びAMHS(Automated Material Handling System)300mm半導体ウエハー無人搬送システム機器部品 ■産業用インクジェットノズルヘッド ■ハイテク産業機械装置部品 ■その他精密機器部品...(つづきを見る

  • Hepco Motion社 高低温/真空対応ベアリング 製品画像カタログあり

    Hepcoの極限温度範囲/真空対応ベアリングは、最も困難な環境に対応す…

    用中に最適な性能を発揮するため特殊グリスを使用。 •直径18〜54mmのベアリングサイズをご用意しております。 •すべてのコンポーネントはステンレス製です。 •Hepco SL2&PRT2 Rangeのステンレス製リニア&曲線スライドに使用できます。...(つづきを見る

  • 富士通セミコンダクター株式会社 事業紹介 製品画像カタログあり

    急速に変化するお客様のニーズにお応えします

    【製品&サービス(半導体)】 ■FRAM(Ferroelectric RAM:強誘電体メモリ) ■ReRAM(Resistive Random Access Memory:抵抗変化型メモリ) ■NRAM ■組み込み機器IoT製品・サービス(富士通エレクトロニクス製品) ■ファウンドリサービス (三重富士通セミコンダクター/...(つづきを見る

  • CO2レーザースクライブ装置/LCMシリーズ 製品画像カタログあり

    ガラスの端面強度向上と劇的なカレット軽減を実現したCO2レーザースクラ…

    断可能で、分断サイズは□1mm程度まで可能です。 (別途プロセス検証必要) ■Hi-CTガラスの分断実績  厚さ:t0.55~t1.1mm  DOL:~27µm  CS値:~750MPa  CT値:~32MPa ■強化ガラス分断後の強度試験結果例  T(mm)、DOL(µm)、CS(MPa)、CT(MPa)、B10(MPa)  T:0.55、DOL:17、CS:654、CT...(つづきを見る

  • FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン 製品画像カタログあり

    汚染物質の少ない高品質・高純度・高抵抗のFZシリコンのご提供が可能です…

    の少なさから、既存のメモリーやDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも幅広く使用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。 ★Prime Grade FZ ingot(即納可能) 納品時にはメーカーのCofCをおつけします。 仕様 方位: (1-1-1) ± 2 deg. 直径(mm) : 101,60 ± 0,20 長さ(m...(つづきを見る

  • 2インチ~8インチまで対応可能 「FZウェーハ」 製品画像カタログあり

    直径2インチから8インチ、高ライフタイム、1万オームを超えるような高抵…

    ハは、パーティクル検査機・IR検査機等に、ハイパワーデバイス用FZウェーハは、サイリスター・IGBT等に、中耐圧用FZウェーハは、IGBT・ダイオード等に利用されています。 *Prime Grade FZ ingot(即納可能) 納品時には実測値の入ったメーカーのCofCをおつけします。 ウェーハへの加工も可能です。 仕様) 仕上げ: as ground 方位: (1-1-1...(つづきを見る

  • 多摩エレクトロニクス株式会社 テスティング 製品画像カタログあり

    テストの生産拠点として超多ピン、高速、ローパワーデバイス等各種半導体製…

    半導体テストの生産工場として培ったテスト技術をベースにクリーンな環境で高精度な判定によるテストを実施し、信頼性の高い製品づくりをサポートします。...【特徴】 ○生産してきた主なテスト製品:LCドライバ、携帯用音源、メモリなど ○テスト内容:TCPファイナルテスト、ウエハテスト、メモリファイナルテスト ○テスティング設備例:A-PM-90Aウエハプローバ、FDC-1000A簡易ファンクション...(つづきを見る

  • 『PICOSUN サポートサービス』 製品画像カタログあり

    定期メンテナンスやプリカーサー納品などのサポートサービスをご提供!

    ーニング、化学材料の納品、設備のメンテナンスや スペアの納品、生産ラインの優先的なサポートを受けることができます。 【サポートサービス】 ■PicoSupport 契約 ■PicoTraining プログラム ■定期メンテナンス・プログラム ■プリカーサー納品サービス ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • サントリー様のCMに当社が作成した治具が使用されました! 製品画像

    サントリー様のCMに当社が製作した治具が使用されました!

    、ぜひ中田製作所にお任せください。 株式会社中田製作所 〒581-0851 大阪府八尾市上尾町5丁目1-15 TEL072-996-8621 FAX072-922-8291 E-mail:info@nakata-ss.co.jp HP:http://www.nakata-ss.co.jp/ ...(つづきを見る

  • 半導体用 ウエハーケース ※中古品だから低コスト!なのに高品質 製品画像カタログあり

    専用ラインでの洗浄後、クリーンパックした状態で出荷するので手間なく使用…

    FOSBタイプの12inchウエハー搬送用ケースのリユース品(リユース品)です。 リユース(中古)品を入念に検品・選別し、使用可能なレベルのケースのみを半導体用ケース専用の洗浄ラインで純水洗浄した後に、 クリーンパック(2重包装)した状態で出荷いたしますので、ご購入後すぐに御使用頂けます。 洗浄後の品質レベルにつきましては、大手半導体メーカーの要求基準をクリアしております。 《品質基準...(つづきを見る

  • 【半導体ダイシング加工課題解決】難削材の切断 製品画像カタログあり

    株式会社塩山製作所が半導体のダイシング加工の課題にお応えします。

    【営業案内】 ○GaAsウェーハの薄型加工 →30μm薄型加工対応に向けたプロセス →80μm凸バンプの薄型加工プロセス →裏面研磨加工及び裏面研磨後の歪層の取り除き →金属膜付け ○チップ出荷品の加工 →...(つづきを見る

  • 太陽電池製造用黒鉛製品 製品画像カタログあり

    再生可能エネルギーの一つとして期待される太陽電池。その製造工程で多くの…

    黒鉛製品・C/Cコンポジット製品・黒鉛シート製品PERMA-FOIL(TM)が使用されています。 ●多結晶シリコンインゴット/ウェハ製造用 多結晶シリコンインゴットを製造する際に使用されるCasting(キャスト)炉では、 当社の等方性黒鉛製品・C/Cコンポジット製品・黒鉛シート製品PERMA-FOIL(TM)・断熱材などが使用されています。 るつぼ・ヒーター・その他各種パーツ...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    ルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・Al2O3/Ta205ナノラミネート ・SiO2 ■光学薄膜 ・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート ■MEMSデバイス ・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ ...(つづきを見る

  • 【半導体ダイシング加工課題解決】加工時間とコストUP 製品画像カタログあり

    株式会社塩山製作所が半導体のダイシング加工の課題にお応えします。

    【営業案内】 ○GaAsウェーハの薄型加工 →30μm薄型加工対応に向けたプロセス →80μm凸バンプの薄型加工プロセス →裏面研磨加工及び裏面研磨後の歪層の取り除き →金属膜付け ○チップ出荷品の加工 →...(つづきを見る

  • 【半導体ダイシング加工課題解決】歩留低下/スループット低下 製品画像カタログあり

    株式会社塩山製作所が半導体のダイシング加工の課題にお応えします。

    【営業案内】 ○GaAsウェーハの薄型加工 →30μm薄型加工対応に向けたプロセス →80μm凸バンプの薄型加工プロセス →裏面研磨加工及び裏面研磨後の歪層の取り除き →金属膜付け ○チップ出荷品の加工 →...(つづきを見る

  • 【半導体ダイシング加工課題解決】裏面チッピング/抗折強度アップ 製品画像カタログあり

    株式会社塩山製作所が半導体のダイシング加工の課題にお応えします。

    【営業案内】 ○GaAsウェーハの薄型加工 →30μm薄型加工対応に向けたプロセス →80μm凸バンプの薄型加工プロセス →裏面研磨加工及び裏面研磨後の歪層の取り除き →金属膜付け ○チップ出荷品の加工 →...(つづきを見る

  • 気体垂直噴流方式ベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」 製品画像

    気流の摩擦損失を減じた気体垂直噴流方式を採用したベルヌーイチャックド「…

    ソーラーリサーチ研究所が発明・開発したベルヌーイチャック「フロートチャック」は、 1.負圧発生機構には   a.エゼクタ効果   b.ベルヌーイ効果   c.コアンダー効果 2.正圧発生機構には   a.ホバークラフト効果   b..基体流クッション効果 を有しております。  上記 効果を効率...(つづきを見る

  • 『PLマッピング装置』 製品画像カタログあり

    フルオートメーション化可能!充実したマッピングができる装置

    【本体仕様】 ■型式:YWafer Mapper GS4 ■測定ウェハサイズ:2,3,4インチウェハ(オプションとして1/4切断対応可能) ■測定ウェハ搬送:マニュアル搬送(標準)、自動搬送(オプション) ■マッピング間...(つづきを見る

  • 『蛍光体ウェハーマッピング装置 YB4』 製品画像カタログあり

    測定範囲最大4インチ!高速、高密度でのマッピングが可能な装置

    【本体仕様】 ■型式:YWafer Mapper YB4 ■測定範囲:最大φ4インチ、100×100mm ■マッピング間隔:0.04mm~ ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • ウエハーセンス サイバーオプティクス製 製造装置改善用測定センサ 製品画像カタログあり

    ウエハーセンスは装置改善に最適な測定器です。客観的な測定を行い、改善効…

    ウエハーセンス(サイバーオプティクス(CyberOptic) 社)のはプロセス装置の調整を効率良く行う便利な測定ツールです。客観的で信頼性の高いデータをベースに高精度な装置セットアップを行う事が可能です。ワイヤレスでウエハライク形状、真空中でも使えるので、誰でも簡単に再現性のある結果を提供します。ロボットティーチングを行うカメラウエハー、シャワーヘッド調整を行うギャップ測定ウエハー、あらゆる装置の...(つづきを見る

  • ザイコストア (コアスタッフ) 製品画像

    半導体・電子部品・モジュール製品の通販サイト 「ザイコストア」

    便   →BOM提供で、試作部品を一括調達 部品を販売したい方向け  ・一括買取  ・委託販売・情報掲載希望  ・倉庫受託業    など 詳しくはこちら→https://www.zaikostore.com/zaikostore/jsp/info/about.jsp...(つづきを見る

  • 【分析事例】セラミックス材料に含まれる微量金属の価数評価 製品画像カタログあり

    ppmオーダーの微量金属も評価可能です

    各種材料の特性を設計・制御するにあたって、母材に微量含まれている元素の種類や量、またそれらの存在状態を明らかにするのは非常に重要です。このうち元素の種類や量に関してはSIMS(二次イオン質量分析法)やICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析法)などによって評価可能ですが、価数・化学結合状態などといった存在状態の評価には放射光を用いたXAFS(X線吸収微細構造)測定が有効です。本資料では測定例としてセ...(つづきを見る

  • 高性能のまま低価格を実現!『単結晶育成引上工程用ロードセル』 製品画像カタログあり

    【CZ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量…

    単結晶育成時の初期工程と自動直径制御(ADC)に使用される高性能ロードセルです。 回転しながら成長する単結晶の重量を正確に安定した電気出力に変換します。 チョクラルスキー(CZ)法による引上げ装置の重要なセンサとして使用できるよう、ロードセル検出部には独特の荷重センサを用いました。 ロードセルの使用温度範囲では補償回路の働きにより、ロードセル自体では冷却用の不活性ガスを必要としません。 ...(つづきを見る

  • 気体垂直気体噴流方式のベルヌーイチャック 製品画像

    空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック

    新機構「気体垂直噴流方式」を採用しております。、気体垂直噴流方式はクッション室にノズルより噴出する気体流を垂直気体噴流させることり、クッション室内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型より大幅に懸垂能力を増加させることで、保持安定元が増し、衝撃に強く、気体消費量をほぼ半減させました。「フロートチャック」は、気体を噴出することによりエゼクタ効果及びベルヌーイ効果による負圧と圧力式...(つづきを見る

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