水処理薬品『ダイアノールシリーズ』スケールやレジオネラ対策に！

PRプラント配管、クーリングタワー（水冷式冷却塔）などの各スケール(鉄、カ…

『ダイアノールシリーズ』は、様々なクーリングタワーの障害を未然に 防ぐ当社オリジナルの薬品です。 一般にクーリングタワー用冷却水は、熱交換器を通って温められた水を 冷却し循環使用します。クーリングタワーでは、外気から吸い込む塵芥や 酸性物質、スライムという微生物により腐食や汚泥などの障害が発生します。 障害を未然に防ぐためには、防食剤、分散剤などの水処理薬品を水質に合わせ 配合・添加して管理す...

メーカー・取り扱い企業： ダイワ工業株式会社

ポータブル元素分析装置『MH-6000A』【設置工事不要】

PR＜液体の濃度変化にタイムリーに対応＞設置工事不要のため【現場分析/即時…

『MH-6000A』は、液体の濃度変化をタイムリーに管理したい場合や、 現場分析する際にお勧めのポータブル元素分析装置です。 ◇活用現場事例◇ ◎非鉄金属精錬 ◎金属表面処理 ◎飲料製造 ◎水耕栽培 ◎発酵・培養 etc... 小型で工事不要のため、分析ニーズのある場所に配置が可能。 即時分析ができ、DX化に寄与。 また、波長帯と分解能の調整もでき、アルカリ溶液の測定も可能です。 ガス配管...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロエミッション

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（NW25）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

TMPタイプ　真空蒸着装置

簡単操作のTMP排気システム採用！拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸…

【仕様】 [排気装置：SVC-700TMSG] ○排気操作：全自動 ○到達圧力：2×10⁻⁴Pa以下 ○蒸着用電極：2組 ○ガラスベルジャー：内径φ160mm×215mmH ○寸法(W/D/H)：340/460/544mm [蒸着電源：SVC-7PS80] ○ヒーター電源：12V 4...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

コールドカソードゲージ コントローラ　CG-20

堅牢な冷陰極型電離真空計

帯域（4.0×10-7Pa）?（3.0×10-2Pa）の圧力を１レンジで測定できる、コールドカソードゲージコントローラです。...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

蒸着用成膜コントローラー「TMC-13」

【PREVAC社製】6個の水晶振動子のモニターおよび制御が可能です。6…

膜厚用の2系統 0.6bit →アナログ出力が標準装備 ○標準6MHzの水晶振動子に対応し ○Webで使用可能なユニット ○周波数のレンジ：2-6MHz →周波数の制度は0.1Hz ○Rapid SE software と LabVIEW libraries に対応 ○膜圧：0-9999000A まで設定が可能 →分解能：0.1A ○成膜時間：0-9999A/sまで設定が可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」

半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…

研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」

リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデ…

【仕様】 ○到達圧力 6.7×-5Pa以下 ○排気速度 大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源 電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱 MAX150℃　常用100℃ ○膜厚分布 ±1%以内 (バッチ内、バッチ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

高真空蒸着装置『RD-1230』

サイリスタ制御により蒸着電圧及び、電流値の調整が可能！排気操作は全自動…

【仕様】 ■到達圧力：×10^-5Pa台 ※常温・無負荷・脱ガス時 ■排気速度：大気圧から30分で2.0×10^-4Pa ※常温・無負荷・脱ガス時 ■真空室径：φ230mm×240mmH 硬質ガラス ■蒸着機構：抵抗加熱方式 ・...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

卓上型蒸着装置『Mebius』

卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

『Mebius』は、学生向けの実験や教材作りに適した、コンパクトな 蒸着装置です。 電源は一般家庭のAC100V壁コンセントから導入が可能。 チャンバは分割方式により多くの用途に応じたサブチャンバを 搭載可能です。 【概要】 ■蒸発源はタングステンボート2個搭載 ■排気系はターボ分子ポンプ、電磁フォアバルブ、油回転ポンプの組合せ ■操作不要のマルチ真空ゲージ採用により、...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

【仕様】 最大放電出力：6kW (160V, 38A) 動作圧力：1×10-2～1×10-1 Pa (Ar、O2、N2雰囲気中) ※詳細はPDFをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

BS-80020CPPS プラズマソース

無加熱成膜でも密着性が良く、充填密度の高い薄膜が形成できます

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFを...

メーカー・取り扱い企業： アズサイエンス株式会社 松本本社

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、 大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。 また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、 綺麗な環境での使用は困難となっている。...◆◇◆対処法◆◇◆ ...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

3, 4inch x 2） ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

開発・製造レポート『溶剤蒸気発生装置』

温水でフラスコに入っている有機溶剤を蒸発させる装置の開発概要をご紹介し…

20年以上前の設備が老朽化のため、新規更新をしたいが当時のメーカーが 不明のため困っている。既存の装置を今の技術に置き換えて製作する事は 可能か、とお客様からご要望をお受けいたしました。 そこで、既存品がどのような動きで、どのような規格・仕様なのかを お調べして「溶剤蒸気発生装置」を新規製作。 タッチパネルなどを用い操作性の向上や試験機のダウンサイズ、サンプルの 装着方法やメン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンメック

卓上型蒸着装置『Meius Light』

学生向けの実験や教材作りに！卓上で簡単に使えるコンパクトな蒸着装置

m 1枚（多種サイズの設計対応可能） ■蒸発源：抵抗加熱方式・切り替え式・AC10V 100A ■重量：約18kg（卓上チャンバのみ 制御BOXは除く） ■チャンバベント：導入圧力0.02Mpa以下（大気解放） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： テクノウェーブ株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング プラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉寸法：804(W) x 530(D) x 600(H)mm ◉重量：40kg〜70kg（装置構成による） ◉優れた基本性能 ・到達真空度 5x10-5Pascal ・高性能ターボ分子ポンプ搭載 ・〜Φ4inch基板 ◉蒸着源 ・金属蒸着源 TE x 最大2基 ・有機蒸着源 LTE x 最大4基（抵抗加熱TEと混在の場合、2基まで） ◉7"...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

【装置構成事例】 *Chamber-1. MiniLab-E080A（蒸着装置） ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A（ス...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&amp;Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&amp;D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD, PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【アルミ精密部品】プレート

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会…

=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=- フィリール株式会社　 営業部　出水　義一　（demizu yoshikazu） 〒570-0043 大阪府守口市南寺方東通6丁目11-12 TEL：06-7493-8864　FAX：06-7493-8871 携帯：070-3885-7735 E-mail:...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

パッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【大阪　アルミ加工　旋盤　マシニング】

アルミ加工　アルマイト処理　大阪【コストダウンはフィリール株式会社にお…

=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=- フィリール株式会社　 営業部　出水　義一　（demizu yoshikazu） 〒570-0043 大阪府守口市南寺方東通6丁目11-12 TEL：06-7493-8864　FAX：06-7493-8871 携帯：070-3885-7735 E-mail:...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

カフマン　グリッドレス(エンドホール型)　イオンソース

カフマングリッドレスイオンソース一式

The compact low profi le eH series of broad beam ion sources are available in different sizes which covers b...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

大型高真空蒸着装置

精密品から海上輸送の大型構造物まで、非鉄金属加工のスペシャリスト！

の開発とその技術集約的な生産体制づくりに取り組んでいます。私たちは、「特異性のある、誇れる仕事を達成して行くこと」こそが企業の存在理由であり、また、私たちをよりよく生かす道だと信じています。A leading company of nonferrous technology－worldwide.　次なる世代へ向けて、赤星工業が目指す新しい企業像です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 赤星工業株式会社

3源抵抗加熱蒸着装置

EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備…

当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社