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PRR37タイプ液体用 R37_0002A!ゴム部品は、主にEPDMをご用…
低騒音で低脈動の小型DCダイヤフラムポンプです。 低騒音、低脈動、小型、軽量、自吸式。 ゴム部品は、主にEPDMをご用意しています。 様々な用途で採用いただいております。 【仕様】 ■素材:樹脂、ゴム、組立品 ■ロット:1,000~10,000個 ■業界:自動車(量産)、弱電・家電、医療機器、飲料ディスペンサー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合...
メーカー・取り扱い企業: 多田プラスチック工業株式会社
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PR水銀レスで長寿命を実現! 低ノイズ、低回転トルク、短納期・低コストに…
スリップリングの弱点克服! 『単極50Aスリップリング』は、水銀未使用、独自の遊星運動式スリップリングです。世界的にも類似製品のない弊社オリジナルの製品です。 スリップリングのような摺動による通電と異なり、ローラーベアリングのような転がりによる回転通電方式の製品です。 動画を参照ください。 大電流をコンパクトに回転接続可能。 水銀レス、低ノイズ、低回転トルク、長寿命を実現しました。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヒサワ技研
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
*DCスパッタのみ) ・蒸着範囲:Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系:ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ(ロータリー、又はドライスクロールポンプ) ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作(’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃! 還元雰囲…
タングステン(メタル炉) ・断熱材:グラファイトフェルト材(カーボン炉), タングステン/モリブデン(メタル炉) ・温度制御:デジタルプログラム調節計、C熱電対 ・到達真空度:1x10-2Pascal(*但し空炉の場合) ・電源仕様:AC200V 50/60HZ 三相 6KVA ・冷却水:3L/min, 0.4Mpa 25〜30℃ ◆コントロールボックス仕様◆ ・プログラム温...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装…
研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス!nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
3, 4inch x 2) ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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半導体など各種材料に!数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間でアニーリング可…
ング処理等に使用 ○CIS、CIGS等のソーラーセル(フレキシブル、ガラス基板等)の ヘテロエピレーヤーの膜質向上 ○ITO等の透明導電性酸化膜の改質(フレキシブル、ガラス基板等) ○a-Si、Poly Siの結晶性の向上 ○インクジェットによる半導体材料、超薄金属膜、シリコンナノ粒子のアニーリング処理 ○Si、Ge、Sn等のナノクリスタルの形成 ○ローカルメルティング-再結...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
Max2900℃(カーボン炉)、Max2400℃(メタル炉) ・有効加熱エリア 70 x 70 x1 00mm 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。
法 W1700mm×D900mm×H1700mm ○装置重量 約1200kg [所要諸元] ○所要電力量 3相,200V,22.4KVA (64.7A) ○所要水量 入圧:0.3~0.4MPa 差圧:0.2MPa以上 水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事) 流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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