• 3次元局面万能クランプ治具【新製品】 製品画像

    PRエアーロック方式高トルク自動クランプ治具『FELX-CLAMP』生産ラ…

    【新製品情報(2019年2月リリース)】 生産ラインや試作加工で、異型物の固定には専用治具が必要で準備には時間が掛かり、また、保管も大変でした。これらの問題を一挙に解決する画期的な治具がドイツ・Matrix社の3次元曲面万能クランプ治具です。 Matrix製品の中で『X-CLAMPシリーズ』は、特に、高トルクの保持力が必要な生産・加工ラインで使用されます。 しかし、自動でピン形状を固定し...(つづきを見る

  • 3次元局面万能クランプ治具【新製品】 製品画像

    PRエアーロック方式高トルク自動クランプ治具『FELX-CLAMP』生産ラ…

    【新製品情報(2019年2月リリース)】 生産ラインや試作加工で、異型物の固定には専用治具が必要で準備には時間が掛かり、また、保管も大変でした。これらの問題を一挙に解決する画期的な治具がドイツ・Matrix社の3次元曲面万能クランプ治具です。 Matrix製品の中で『X-CLAMPシリーズ』は、特に、高トルクの保持力が必要な生産・加工ラインで使用されます。 しかし、自動でピン形状を固定し...(つづきを見る

  • エアー用フィルター『プレフィルター(標準)』 製品画像カタログあり

    重量法85%捕集!半導体工場、電子光学、ビルなど多重利用施設に適合しま…

    『プレフィルター(標準)』は、半導体工場、半導体機器、電子光学、 製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合するフィルターです。 重量法85%捕集、MEDIUM FILTER前処理用に適用。 【特長】 ■重量法85%捕集 ■MEDIUM FILTER前処理用に適用 ■Panel, Pleat Type ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。......(つづきを見る

  • HEPA フィルター『セパレーター(多風量)』 製品画像カタログあり

    粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集!処理⾵量が多いところに適合

    『セパレーター(多風量)』は、半導体工場、半導体機器、 電子光学関連産業、KGMP、HACCPに適合するフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集。 半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用します。 風速バランスは、偏差20%以内で気流安定、処理風量が 多いところにご使用いただけます。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集 ■半導体、LC...(つづきを見る

  • デプスフィルターベッセル 製品画像カタログあり

    ユーザー様の使用に合わせた特注品も製造可能です

    BECODISC Stacked Disc Cartridge を使用するための濾過機です。BECODISC INTEGRA DISCは、フィルターを固定するための本体下部、蓋と固定するためのV-CLAMPから構成されております。BECODISC Stacked Disc Cartridgeの平ガスケットタイプとダブルO-リングタイプを使用できるようにアダプタ―も容易されております。BECODIS...(つづきを見る

  • ULPA フィルター『セパレーター(標準風量)』 製品画像カタログあり

    粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集!半導体、LCD、製薬などの製…

    『セパレーター(標準風量)』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業、 KGMP、HACCPに適合するフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集、半導体、LCD、製薬などの 製造工程に適用します。 風速バランスは、偏差20%以内で気流が安定致します。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集 ■半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用 ■...(つづきを見る

  • 耐熱HEPAフィルター『セパレーター』 製品画像カタログあり

    150℃、250℃に使用可能!粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集

    『セパレーター』は、半導体、LCDなど電子製造工場のOVEN機器や 製薬業者の滅菌器などの機器に適合する耐熱HEPAフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集。 150℃、250℃に使用可能です。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集 ■半導体、LCD、製薬などの高温工程に適用 ■150℃、250℃に使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧い...(つづきを見る

  • ULPAフィルター『ミニプリーツ』 製品画像カタログあり

    粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集!半導体⼯場におすすめ

    『ミニプリーツ』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業の高清浄度が 要求される所に使用可能なフィルターです。 粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集、Clean RoomのCLASS 100以上の ときに適用します。 【特長】 ■粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集 ■Clean RoomのCLASS 100以上のとき適用 ■GEL–TypeのGasketに適...(つづきを見る

  • HEPAフィルター『ミニプリーツ』 製品画像カタログあり

    粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集!半導体、LCD、製薬などの製…

    『ミニプリーツ』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業などに 使うことができるエアーフィルターです。 粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集。 セパレータータイプの製品に比べ重量が軽く、半導体/LCD製造ラインの FFU/EFU用フィルターに適用可能です。 【特長】 ■粒径0.3㎛の粒子を99.97%以上捕集 ■半導体、LCD、製薬などの製造工程に適用 ■Sep...(つづきを見る

  • ULPAフィルター『セパレーター』 製品画像カタログあり

    粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集、偏差20%以内で気流安定!

    『セパレーター』は、半導体工場、半導体機器、電子光学関連産業の 高清浄度が要求される所に使用可能なフィルターです。 粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集、Clean RoomのCLASS 100以上の ときに適用します。 【特長】 ■粒径0.1㎛の粒子を99.999%以上捕集 ■Clean RoomのCLASS 100以上のとき適用 ■GEL–TypeのGasketに適...(つづきを見る

  • 中性能フィルター『セパレーター/ミニプリーツ』 製品画像カタログあり

    半導体工場をはじめ、電子光学、製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合

    『セパレーター/ミニプリーツ』は、半導体工場、半導体機器、電子光学、 製薬関連産業、ビルなど多重利用施設に適合するフィルターです。 比色法65%、85%、95%の3種類を捕集。 HEPA FILTER前処理用に適用できます。 【特長】 ■比色法65%、85%、95%の3種類の捕集 ■HEPA FILTER前処理用に適用 ■Box Type, Header Type ※詳...(つづきを見る

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