チェックしたものをまとめて:

  • CVD装置の製品画像ですカタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる(励起状態にする)手法として、熱、プラズマ、光(レーザー、紫外線など)があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置の製品画像ですカタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。...本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作...(つづきを見る

  • CVDクリーニングス終点検知システム Classicの製品画像ですカタログあり

    CVDクリーニングガス大幅削減、パーティクル発生を抑制し生産効率を大幅…

    米国Forth-Rite社のTrace-Rite CVDクリーニングプロセス終点検知システムは半導体・液晶・太陽電池等の電子ディバイスのCVD成膜装置用のコンポーネントシステムです。 CVDチャンバーのクリーニングプロセスをリアルタイムで監視し、プロセスの終点を制御することでクリーニングプロセスの適正化を図り、クリーニングガス消費を大幅に削減するだけではなく、オーバーエッチによるパーティクルの発...(つづきを見る

  • CVDクリーニングプロセス終点検知システムの製品画像ですカタログあり

    CVDクリーニングガス大幅削減、パーティクル発生を抑制し生産効率を大幅…

    米国Forth-Rite社のTrace-Rite CVDクリーニングプロセス終点検知システムは半導体・液晶・太陽電池等の電子ディバイスのCVD成膜装置用のコンポーネントシステムです。 CVDチャンバーのクリーニングプロセスをリアルタイムで監視し、プロセスの終点を制御することでクリーニングプロセスの適正化を図り、クリーニングガス消費を大幅に削減するだけではなく、オーバーエッチによるパーティクルの発...(つづきを見る

  • 減圧CVDコーティング炉 SCT シリーズカタログあり

    一般的なPVD TiAlNコーティングと比較して、切削工具の寿命を2倍…

    革新的な技術を持つスコテック社のCVDコーティング炉は、国内外の工具メーカーから大変注目を集めています。 これまでは実現が困難であった次世代のCVDコーティングを可能とし、切削工具メーカーの重要なパイロット設備としての普及が期待されています。 今までは旋盤用固定工具のインサートではCVDコーティング膜が高く評価される一方で、高温処理による母材へのダメージ、原料ガスへの制限から用途の広がりが...(つづきを見る

  • 粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...【特 徴: ・炉心管の傾斜角度および回転速度の調整により、粉末試料の素性に合わせた導入速度の調整が可能 ・試料導入用回転機構と、CVD処...(つづきを見る

  • カタログあり

    減圧下または常圧下において、基板上に各種のCVD膜を形成する装置です。

    減圧下または常圧下において、基板上に各種のCVD膜を形成する装置です。一般的なCVD装置として広範囲に使用できます。導入ガスの圧力制御は手動式、または自動式のいずれも可能です。 当社では設計から組立まで自社内で一貫して実施している為、品質管理が容易となり、常に安定した高品質を維持することが可能です。また、ご要望に合わせた特注仕様の装置に対応可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログを...(つづきを見る

  • CVDクリーニング終点検知システム Trace-Rite RPSの製品画像ですカタログあり

    CVDクリーニングガス大幅削減、パーティクル発生を抑制し生産効率を大幅…

    米国Forth-Rite社のTrace-Rite RPS CVDクリーニングプロセス終点検知システムは半導体・液晶・太陽電池等の電子ディバイスのCVD成膜装置でのリモートプラズマクリーニング用のプロセス終点検知システムです。 CVDチャンバーのクリーニングプロセスをリアルタイムで監視し、プロセスの終点を制御することでクリーニングプロセスの適正化を図り、クリーニングガス消費を大幅に削減するだけでは...(つづきを見る

  • カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...□■種類&特徴■□ カンタルA-1銭を発熱体として使用した断熱材一体型のモジュールヒーターです。 ○CVD装置向けモジュールヒーター  ・既に超硬チップ用CVDコーティング装置に導入した実績がございます。  ・特に出力の高い...(つづきを見る

  • カタログあり

    高エネルギーを利用して形成!材料そのものを叩き出す、再現性に優れた表面…

    東邦化研株式会社では、イオンプレーティング方式に加えスパッタ法によるコーティングサービスも始めました。 現在スパッタ法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCとさせていただいております。 また、P-CVD(Plasma-Chemical Vapor Deposition)法によるコーティングサービスも始めました。 現在P-CVD法での対応膜種は、DLC(Diamond-Like Carbon...(つづきを見る

  • 高精度 CVDコーティング技術の製品画像ですカタログあり

    高精度CVDコーティング。絶妙の製膜コントロール技術で実現!

    CVDは「教科書の存在しない」技術 経験に裏打ちされた自信が、品質の差となって表れます。 長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により 他社にマネのできない精度を実現しています 【加工例】 ○膜種:CVD-FTC(TiC) ○表面色:銀色 ○膜硬さ:Hv 3,800 ○膜厚:2〜4μm ○耐熱温度:300℃ ○特徴  膜が非常に硬く、滑り性も良いの...(つづきを見る

  • カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スル...(つづきを見る

  • 液体ソースCVD装置の製品画像です

    液体ソースCVD装置

    ● 独自のセルフバイアス法の採用により高速(3000〜5000Å/min)かつ低ストレスの成膜が可能。(特許出願中) ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。...PD...(つづきを見る

  • リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...【特徴】 ○ 炉心管をモータ駆動で可変の速度で回転可能 ○ 真空CVDモードにおいても回転可能 ○  粉体試料の各種CVD処理に最適。 ●その他機能や詳細はお問い合わせください。...(つづきを見る

  • CVDクリーニング終点検知システムTrace-Rite Miniの製品画像です

    CVDクリーニングガス大幅削減、パーティクル発生を抑制し生産効率を大幅…

    米国Forth-Rite社のTrace-Rite CVDクリーニングプロセス終点検知システムは半導体・液晶・太陽電池等の電子ディバイスのCVD成膜装置用のコンポーネントシステムです。 CVDチャンバーのクリーニングプロセスをリアルタイムで監視し、プロセスの終点を制御することでクリーニングプロセスの適正化を図り、クリーニングガス消費を大幅に削減するだけではなく、オーバーエッチによるパーティクルの発...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置の製品画像です

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    ● 独自のセルフバイアス法の採用により高速(3000〜5000Å/min)かつ低ストレスの成膜が可能。(特許出願中) ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...(つづきを見る

  • 長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...【特徴】 ○ 真空CVDモードおよび大気圧CVDモードを実施できます。 ○ マスフローガス導入システム標準装備 ○ ナノカーボン生成向けCVDプロセスレシピを開示 ●その他機能や詳細はお問い合わせくだ...(つづきを見る

  • カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○1枚からの成膜が可能です。 ○低温CVDは、100℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への...(つづきを見る

  • 低価格 ホットワイヤーCVD装置の製品画像ですカタログあり

    広範な新規応用が可能! 低価格ホットわーやーCVD装置

    ○SiCN膜の特徴  ・透明、絶縁  ・緻密、高耐候  ・高強度・高耐温性  ・耐薬品性(酸・水・等)  ・親水性 ○プロセス特徴  ・低コストプロセス  ・低損傷クリーニング  ・低温かつ大面積  ・非平面基板の処理 ...優れた防錆効果、表面クリーニングが可能な低価格ホットワイヤーCVD装置です。 ◆広範な新規応用が可能◆ ○ユーザー仕様装置  ・特...(つづきを見る

  • CVDコーティング装置の製品画像ですカタログあり

    どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

    中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...どのような形状の品物に対しても 制限なく使用できる、CVDコーティング装置 【特徴】 ○加熱炉一台にコーティングチャンバーを  2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な  自動プロセッサーによって監視され  さらに制御及び調節装置を装...(つづきを見る

  • CVD装置 ELVESS-PE-CVDの製品画像です

    有機ELから半導体、 太陽電池まで様々な用途に活躍

    このPE-CVD装置は、大型ガラス基板に対し、 窒化ケイ素等のガスバリア膜を 低温成膜するために開発されました。 この装置を有機EL製造装置に 実装することにより、有機層蒸着後に バリア膜を真空中にて連続成膜できます。 マスクアライメントは用途により CCDアライメント、メカアライメントが 選択可能で、精度の良いPE-CVD成膜が可能です。 また、スタンドアローンPE-CVD装置...(つづきを見る

  • 単結晶カタログあり

    光学・放熱・機械・電気化学・センサーなどのアプリケーションに最適!

    アイリックス株式会社では、単結晶・多結晶・ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜の『CVD合成ダイヤモンド』を取り扱っております。 ダイヤモンドドームツイーター、腕時計のコンポーネント、MEMS放射線やその他センサー(電離放射線検出器/線量計)、蛍光ビームモニター、ガスセンサー、電気化学(電極)、電気化学検出器、バイオ化学センサーなどの用途に適しています。 【製品種類】 ○単結晶 →サイズ...(つづきを見る

  • カタログあり

    鋳鉄、ダクタイル鋳鉄の粗加工用材種CP1、鋼加工における高速粗加工用材…

    超硬合金母材に耐摩耗性、耐熱性を兼ね備えたCVDコーティング(化学蒸着)を施して耐ハクリ性、耐チッピング性を向上させた、鋼・鋳鉄一般加工用工具材種です。超硬合金母材とCVDコーティングが最高の特性を発揮するよう製品化しています。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...【主な特長】 ○超硬合金母材に耐摩耗性、耐熱性を兼ね備えたCVDコーティング ○鋼・鋳鉄一般加工用工...(つづきを見る

  • カタログあり

    半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC

    ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD技術を応用し開発されました。 半導体装置に最適化され、半導体の可能性を拡げる材料として期待されています。 【特徴】 ○CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品...(つづきを見る

  • カタログあり

    SEMで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング!!

    オスミウムコーター HPC-1SW型ホローカソードプラズマCVDは簡易操作を目標にしたオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の生物や無機化合物などの試料でも360°一様にコーティング可能。どのような試料にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○SEMで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティン...(つづきを見る

  • カタログあり

    環境対応型の新商品開発

    CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度・透明保護膜です。...【特徴】 ○耐プラズマ性に優れたイットリア膜で機材表面をカバー ○CVD法で密着性が高い緻密イットリア膜を形成 ○イットリア膜中の不純物含有量は、溶融石英ガラス相当 ○300mmパーツ対応 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...(つづきを見る

  • 三次元LSIへの応用画像です

    高速、低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能!

    12インチウエハー対応量産用トレーカセット式...【特徴】 〇室温~350度程度の低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能 〇高速成膜 〇アスペクト比の大きな段差への成膜が可能 〇液体原料TEOSの使用により、ステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能...(つづきを見る

  • CVD合成ダイヤモンド

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...● 特長 • 熱伝導率    >2000W/m・K • 電気抵抗率   1013 ~1016Ωcm • 摩擦係数    ≃ 0.1 • ヴィカース硬度 10,000 kg/mm2 • 光透過特性...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    ● ステージ径はφ400mm(有効径はφ350mm)あり、□200mm基板の処理が可能。 ● グローブボックスを装備しているため、大気にさらさず安定した環境で成膜が可能。 ● オプションでTEOSや窒化膜用液体ソースなどを用いてプラズマ重合膜の形成が可能。...PD-3802Lは、有機EL用封止膜に最適なシリコン窒化膜などを形成するための大型の研究用ロードロック式プラズマCVD装置で...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    ●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック...(つづきを見る

  • 常温高密度プラズマCVDの製品画像ですカタログあり

    常温、高密度で成膜可能なプラズマCVD

    本装置は減圧炉内で、プラズマ放電により、成膜処理を行う装置です。 装置の構成は、プラズマソース、バイアス可能用ヒーター、真空排気から構成され、各操作はCPUコントロールで管理し、クラスタツール対応する事が出来ます。 【特長】 ◆大面積(将来の基板寸法550×670mm)の均一成膜が可能です ◆高密度プラズマによる低ダメージの為、常温(基板温度40〜60℃)で成膜可能です ◆プラス...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    ● トレーカセット方式を採用。   1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。   2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。   1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。   2. コンタミネーションの影響回避やウエハー表面の酸化を防止。 ● 納入実績の豊富なPD...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置の製品画像です

    プラズマCVD装置

    ● 大面積のトレー(φ380mm)により一度に大量の処理が可能。 ● 独自のシャワー電極構造により均一性に優れた成膜が可能。 ● ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ● 各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...PD-3800Lは、各種シリコン系薄膜(SiO2、Si3N4等)を量産規模で形成するためのロードロック式プラズマCVD装置です。本装置で...(つづきを見る

  • グラフェン開発用小型熱CVD 装置 SFCV シリーズカタログあり

    大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

    少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、 同時に大幅なコストダウンを実現しました。 また、従来小型では困難とされてきた5~100Pa での圧力コントロール機能を備え、 より多様な処理パターンに対応可能としました。 さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、 大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。 詳しくは、カタログをダウンロ...(つづきを見る

  • 拡散炉・CVD炉用高温断熱材 断熱リングの製品画像ですカタログあり

    拡散炉・CVD装置の断熱材、『断熱リング』

    【特徴】 ・外皮材及び縫糸は高耐熱性アルミナ長繊維を使用し、長寿命。 ・外皮材組成はAL2O3 72%、SIO2 28%からなり、  繊維は直径7μと細く柔軟性に優れています。 ・酸化ホウ素を含有しないアルミナ長繊維を仕様した  断熱リングは特許製品 ・石英チューブや炭化ケイ素チューブの形状に合わせて  加工します ・ニチビ二しかない高グレード品として、  さらに...(つづきを見る

  • 耐プラズマ表面処理 CVDイットリアの製品画像ですカタログあり

    CVDイットリアは耐プラズマ性に優れた高純度保護膜です。

    CVDイットリア」は、耐プラズマ性に優れた透明性保護膜です。 密着性が高い緻密膜ですので、プラズマ処理プロセス(F系、Cl系) で使用されるウィンドウ類の保護膜として有効です。...【特徴】 ○耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー ○CVD法で密着性が高い緻密イットリア膜を形成 ○イットリア膜中の不純物含有量:Na,Cu,Fe,Al<0.2wt ppm ○300mmパー...(つづきを見る

  • カタログあり

    金型部品・精密加工部品「高精度CVD絞りパンチ(超硬合金G3)」 ※製…

    「高精度CVD絞りパンチ(超硬合金G3)」は、耐久性・精度・安全性を考慮し、トータルコスト削減に貢献した金型部品・精密加工部品です。 【精密加工部品の製作事例(一部を紹介)】 ■プレス金型用部品 ■鍛造用金型部品 ■射出成形用金型部品 ■ダイカスト用部品 ■各種表面処理 ※対象材種:超硬合金・鋼(プリハードン鋼・SKS・SKD・SKH・粉末ハイス) ※詳しくはダウンロードよ...(つづきを見る

  • カタログあり

    金型部品・精密加工部品「焼嵌めCVD絞りダイ(超硬合金G4+SNCM4…

    「焼嵌めCVD絞りダイ(超硬合金G4+SNCM439)」は、耐久性・精度・安全性を考慮し、トータルコスト削減に貢献した金型部品・精密加工部品です。 【精密加工部品の製作事例(一部を紹介)】 ■プレス金型用部品 ■鍛造用金型部品 ■射出成形用金型部品 ■ダイカスト用部品 ■各種表面処理 ※対象材種:超硬合金・鋼(プリハードン鋼・SKS・SKD・SKH・粉末ハイス) ※詳しくは...(つづきを見る

  • カタログあり

    SEMで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング!!

    オスミウムコーター HPC-30W型ホローカソードプラズマCVDは研究者向けの微調整を可能にしたオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の生物や無機化合物などの試料でも360°一様にコーティング可能。どのような試料(例:球体)にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○SEMで観察する試料のチャージ防止に...(つづきを見る

  • カタログあり

    SEMで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング!!

    オスミウムコーター HPC-220型ホローカソードプラズマCVDは8インチウェハー/レチクルに使用可能なオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の工程やアスペクト比の高い試料でも孔底までコーティング可能。レジスト(感光材)にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○SEMで観察する試料のチャージ防止にはオ...(つづきを見る

  • CVDセラミックコーティング TiC/TiCN/TiNの製品画像です

    苛酷な条件下にも耐えるセラミックコーティング

    CVD法(化学蒸着法)は、高温炉に各種化合物をガス状で供給し、 処理物表面に超硬質のセラミック化合物を化学的にコーティングさせるプロセスです。 熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、 高温度(900~1100℃)で単層又は多層コーティングし、 得られた高硬度、高密着力セラミック膜により素材の性能を飛躍的に向上させます。...【特徴】 ◯複層多重被膜  炭化物(TiC)、窒化物(T...(つづきを見る

  • カタログあり

    高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

    CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。 【特長】 ■高硬度 ■優れた耐熱性 ■優れた耐磨耗性 ■半導体特性を有する ■半導体装置部品等にも適応可能 ※詳しくはカタロ...(つづきを見る

  • カタログあり

    特殊表面処理により、超平滑表面を実現しました。

    鋼加工用イノベーティブCVDコーティング 「CA55シリーズ」は、特殊表面処理(PICA技術;Physical Innovation for CoatingAdvantage)により、超平滑表面を実現しました。 自動車産業、建設機械産業、金型産業等、世界のものづくりの現場で不可欠な切削工具。 京セラは切削工具を通じ、高能率・高精度加工でお客様の生産性向上に貢献します。 【特徴】 ○鋼加工...(つづきを見る

  • CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...【特徴】 ○四十極質量分析計 ○差動排気用高真空システム ○抽出データ管理用パソコン...(つづきを見る

  • CVD装置用ガスボックスの製品画像ですカタログあり

    CVD装置用ガスボックス

    弊社の業務内容としては、 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や 特殊材料ガス配管工事などです。 【製品事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造を行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタログダウ...(つづきを見る

チェックしたものをまとめて:

595件中1〜45件を表示中

表示件数
45件

おすすめ関連情報

分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]