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50件 - メーカー・取り扱い企業
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【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社
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【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA
PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…
IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...
メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社
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半導体装置に最も適した材料！様々な用途で発揮されるソリッド SiC
ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD技術を応用し開発されました。 半導体装置に最適化され、半導体の可能性を拡げる材料として期待されています。 【特徴】 ○CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品...
メーカー・取り扱い企業： 東海カーボン株式会社
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【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 様々なご提案！
【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】
こんなお困りごとはありませんか？ 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがありコーティングを検討したい ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●コーティングメーカーが...
メーカー・取り扱い企業： ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
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電子グレードCVDダイヤモンド 市場概要
CVD（化学気相成長法）： ダイヤモンド、炭素含有ガス（メタンなど）、水素の混合ガスを、標準大気圧より低い圧力と高温で励起・分解し、プラズマ炭素原子を形成し、基板上に堆積・交互に成長させる。多結晶ダイヤモンド（または、ダイヤモンド単結晶または準単結晶を析出・成長させるための制御された析出・成長条件）。CVDとはChemical Vapor Depositionの略で、化学気相成長法を用いて実験室で...
メーカー・取り扱い企業： YH Research株式会社
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液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術！
『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応（CVD）させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。 当技術は多くの結晶性酸化膜を成膜するのに適しており、これを応用展開 することで、太陽電池や燃料電池、有機デバイスなど様々な用途・産業分野 で利用することができます。 【特長...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社FLOSFIA
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2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社
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市場調査レポート『CVD/ALD/SOD誘電プリカーサ2023』
米国の半導体材料専門の調査会社が、CVD、ALD、SODアプリケーショ…
本レポートは、CVD/ALD誘電体およびSODプリカーサの市場および技術動向に関する情報を提供します。 過去20年間、半導体産業向けのALDおよびCVDプリカーサに関する多くの研究論文や特許が発表されています。レポートでは、新しいプリカーサの開発パスとロードマップ、およびこれらの材料が大量生産（HVM）に参入するための現在のEHSと規制のハードルについて詳述します。あらゆるタイプのプリカーサ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース
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プロセスの安定性を維持！誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置
当社の半導体における、回路形成「CVD(化学蒸着)」についてご紹介します。 化学蒸着は、ウェーハ上に誘電体および金属材料の ナノメートル厚の膜を配置。 このプロセスは非常に高温(800-2000℃)になるため、 デュブリン回転ユニオンで機器を冷却することで、 プロセスの安全性を維持します。 【特長】 ■ウェーハ上に誘電体および金属材料のナノメートル厚の膜を配置 ■デュブ...
メーカー・取り扱い企業： 有限会社デュブリン・ジャパン・リミテッド 本社
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独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱…
超高純度で耐食性及び耐熱性に優れているSiCダミーウェハは、長期のリサイクル使用が可能で、LP-CVD、高温拡散、CMP工程にてご使用頂けます。 ◆コストダウンに貢献 ・長期のリサイクル使用が可能 ・超高純度で耐食性及び耐熱性に優れている ・長期使用頂く事で、シリコンウェハの節約、ダミーウェハの交換や洗浄等管理工数削減につながる 【特徴】 ・高純度（純度はppmレベル）...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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セミコンダクター、ディスプレイ、ソーラー＆LEDに適用するダイシングブ…
当社が取り扱うEHWA社製の『ダイシングブレード』を紹介します。 基板への損傷を最小限に抑えた「CMP PAD CONDITIONER」をはじめ、 低費用で高い生産性を確保できる「CVD CMP PAD CONDITIONER」や 薄いWaferにも対応している「BACK GRINDING WHEEL」などをご用意しています。 【特長】 ■CMP PAD CONDITIONER ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部
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部材の高寿命化､パーティクルの抑制 耐プラズマ材料 Y2O3(イットリ…
半導体製造工程でのドライエッチングやプラズマCVDプロセスでは腐食性の強いハロゲンガスを用いるため、チャンバー付近の部材に耐プラズマ性が要求されます。 耐プラズマ部材を使用することにより、部材の浸食を抑制し、パーティクル発生を低減します。 時田CVDシステムズは、耐プラズマ材料として注目の酸化イットリウム(Y2O3-イットリア)膜をCVD法によって成膜し、ご提供いたします。...【特長】 ○...
メーカー・取り扱い企業： 時田シーブイディーシステムズ株式会社
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TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ
波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…
『TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ...
メーカー・取り扱い企業： トルンプ株式会社
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炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」
高純度、高強度、高耐食性を兼ね備えた半導体製造プロセスに欠かせない半導…
高純度炭化けい素を主成分とするTPSSは、クアーズテック社独自の技術により開発された半導体関連材料です。 半導体熱処理炉用炉芯管をはじめ均熱管、ボート、フォークなどに応用されています。 【材料】 高純度反応焼結炭化ケイ素 TPSS 【特徴】 ・高温から低温プロセスまで幅広いユーザーニーズに対応 ・高純度、高強度、高耐食性 ・高温での使用が可能（～1350℃） ・...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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プログラミング＆デバッグ機能内蔵開発ボード！セキュアで信頼性の高いIo…
『WFI32』ファミリは、2.4GHz 802.11b/g/n 無線モードをサポートする スタンドアロンのWi-Fiモジュールです。 「WFI32E01PE」には、「PIC32MZW1シリーズ」が含まれており、Ethernet, CAN/CAN-FD, USB, CVD Touch 等の豊富なペリフェラルを搭載。 また、Azure、AWS、Google Cloud、プライベートク...
メーカー・取り扱い企業： グローバル電子株式会社
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優れた耐食性と物理特性がラインの信頼性を築きます！
CERASIC常圧焼結SiCセラミックスは耐磨耗・耐食性が要求される機械部品に最適な材料です。 半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められており、高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。 【特徴】 ・高強度 ・高耐摩耗性 ・高耐食性 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...クアーズテック株式会社のCERASIC常圧焼結SiCセラミックスは高温強度...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、...
メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社
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お客様の仕様に合わせ、適した材料・プロセスを選択！ 少量の微細パター…
〔特徴〕 単工程～ワンストップまで要求に応じて承ります ・基板手配 ・・・多種多様な材料に対応 ・成膜 ・・・スパッタ・蒸着・CVD・メッキ等材料準備も充実 ・イオン注入 ・・・60種以上の材料が可能 ・リソグラフィー・・・コンタクトアライナー、ステッパー、EB描画、 ナノインプリントに対応 ・エッチング ・・・ドライ、ウェット、犠牲層エッチング...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
当社は、テストウエハの半導体技術でお客様の技術開発を支援しております。 テストウエハのサービスは、ベアSiウエハ、膜付ウエハ、パターンウエハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック 本社
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結晶シリコン成長時に使用されるドーパント材料のトータルサプライヤーです
当社では、半導体製造工程で使用されるさまざまな材料を提供しております。 P型ドーパント材料のボロン、ガリウム、N型ドーパント材料の赤燐、 アンチモン等を主にご提供いたします。 また、半導体工程において使用されるCVD材料・イオン注入材料等も 取り扱っております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【取扱品目】 ■シリコンドープ材料 ■イオン注入材料 ■CVD・拡...
メーカー・取り扱い企業： ヤマナカ アドバンス マテリアル株式会社
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
当社は先進の半導体技術を背景に、テストウェハのソリューションを提供し、お客様の装置・材料・プロセスの評価・開発を総合的にサポートしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300m...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社フィルテック 本社
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CXコーティング 防水 防湿 生体適合性 無償コートも受付中
防水・防湿、絶縁、生体適合性などの性能を持ち合わせているCXコーティン…
CXコーティングは多機能高性能コーティングとして医療や電子部品の市場の製品を様々な要因から守ることが可能です。 ◆防水・防湿 弊社のラインアップのPPX単層膜とCXコート＋SiO2の積層膜はどれも防水・防湿性能に長けています。特に弊社の技術であるPPXとSiO2を積層することにより、従来のPPX単層膜よりも400~1000倍の性能を持った優れものです。 ◆耐薬品性能 このPPXコーティ...
メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ
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撚り線以外もさまざまな形状が可能！真空装置に使われている産業・医療用コ…
岳石電気は常にお客様の「本当の狙い」「最終的な目的」を理解し、ご要望に 合わせた製造・開発を行ってきました。 「撚り線(ストランド)コイル」は真空スパッタ装置、成膜装置(PVD・CVD)等に 使われている製品で、撚り線以外もさまざまな形状が可能。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【その他のコイル】 ■センサ・分析機器用コイル ■特殊光源用コイル ■電子銃・...
メーカー・取り扱い企業： 岳石電気株式会社
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半導体関連技術の開発/解析を支援する統合プラットフォーム【日本語
半導体および関連技術の開発/解析を高速・高精度で支援する統合プラットフ…
半導体および関連技術の開発/解析を支援する、シュレーディンガーの統合プラットフォームをわかりやすくご紹介いたします。 【製品の概要】 ■量子力学計算による半導体物性の予測と解析 ・電子物性 ・機械特性（弾性定数テンソル、体積弾性率） ・誘電特性 ・反応経路探索 ■半導体成膜プロセス(CVD, ALD, ALE)の最適化 ・量子力学計算と機械学習による新規前駆体の開発 ...
メーカー・取り扱い企業： シュレーディンガー株式会社
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PPX（ポリパラキシリレン）コーティングの磁石への適用 耐水耐湿
日経ニュースでも取り上げられた、錆びやすいマグネットが全く錆びない！防…
Coat-X Japanでは、電子機器の保護や埋め込み型機器の生体適合およびデバイスの保護を目的とし開発されたPPX（ポリパラキシリレン）コーティングを提供しています。 今回は磁石への適用例を紹介します。 ◆水に弱い材料でも完全に水をシャットアウト！ ◆錆びやすいネオジウム磁石も新品同様の外観！ ◆CVDコーティングで、複雑形状でも均一なコーティング！ ◆形を変えない極薄コー...
メーカー・取り扱い企業： オーエスジー株式会社グループ
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高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結…
ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結体です。 【特徴】 ・各種産業用構造部品として幅広く利用 ・吸水率が0.01％以下と非常に緻密な焼結体 ・優れた電気絶縁性、高強度、耐摩耗性などの特性 ・半導体やFPD製造用部材としての用途が拡がっている ・酸・アルカリやハロゲンプラズマに対して高い耐食性を有する 【ADSの用途】 ・エッチング、アッシン...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行
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優れた耐熱性と高い証明制度の提供で、ラボの生産性と信頼性を飛躍的に向上…
大学研究室、開発ラボ、医療機関、研究者様ご必見！ 微量元素を測定するためのグラファイト チューブ テクノロジー (GF-AAS) は、一般的な分析プロセスの中で最も高い証拠精度を提供します。 Schunk Carbon Technology は、原子吸光分光法(AAS) 用のグラファイト製コンポーネント、チューブ、キュベット、および CVD 熱分解炭素コーティング技術の開発と製造において長...
メーカー・取り扱い企業： シュンク・カーボン・テクノロジー・ジャパン株式会社
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均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング
「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として改良されています。 ミラー磁場を利用したプラズマ閉じ込め方式をスパッタに利用するのはとても有効で、スパッタ利用のためにその形態を大きく変える必要がなくターゲットを2枚対向さ...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ
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機能性・信頼性・作業性バツグン！1台で2つの工法に対応する幹線絶縁器材
『ナイスブランチ』は、ビル・マンション・ホテル・工場など、 幹線ケーブル等の低圧配線（屋内・屋外）の分岐接続（直線接続・分岐接続） に使用する幹線絶縁器材です。 一つの製品でレジン注入工法、絶縁カバー工法に対応できます。 分岐ケーブルサイズの接続変更が生じても再利用が可能です。 硬質樹脂を採用しているため、より安心・安全です。 【特長】 ■一つの製品でレジン注入工法、絶縁...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社浅田電機商会 東京支店
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１枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能
PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○１枚からの成膜が可能 ○異形サイズの基板への成膜も対応可能 ○樹脂、フィルムなどの材質への成膜も可...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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液相・気相コーティングに関わらず多様な工法でお客様のニーズを全方位でカ…
『連続プロセス』で工法の違うプロセスもワンストップで対応可能。 生産工程を飛躍的に向上させます！ 多様なプロセス・膜種・膜厚が可能 ■ドライ ・スパッタ ・蒸着 ・CVD ・ALD ・DLC ■ウェット ・ディップ ・スプレー ・印刷、転写 ・ダイコーター ・ディスペンサー 装置開発だけでなく、プロセス開発・装置調整、最適な冶具提案、最適な...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス
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柔らかい・曲がる・止まるから、作業時間短縮・労力低減・安全作業を実現し…
ケーブル敷設作業の負荷を軽減するために！ 従来品よりも作業時間短縮、労力低減、安全作業の三拍子揃った優れものです。 硬いCV(CVT)ケーブル、狭い盤内での結線作業大変ですよね。 跳ね返ってクセがつかない、抑えようにも狭くて… 住電HSTケーブルのCVは導体加工方法を見直すことで、やわらかいケーブルになりました。反発率は従来品の45%以下。軽い力で思い通りに曲がります。抜群のくせ付...
メーカー・取り扱い企業： 光昭株式会社
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半導体前駆体市場の概要
半導体前駆体は、半導体薄膜堆積プロセスの中核となる製造材料である。これらは高いバリアと高い成長性を持つ。半導体製造プロセスで使用され、ターゲット元素を運ぶ。気体または揮発性の液体であり、化学的および熱的安定性を有し、対応する反応性または物理的特性を有する。薄膜、フォトリソグラフィ、相互接続、ドーピング技術などを含む半導体製造プロセスにおいて、前駆体は主に蒸着（物理蒸着PVD、化学蒸着CVD、原子蒸...
メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
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光導波路ウェハ受託製造及び各種ウェハ受託加工サービス！世界トップクラス…
NTTグループが保有する世界トップクラスの石英系光導波路製造技術をフル活用し、光導波路ウェハ受託製造及び各種ウェハ受託加工サービスを提供致します。 6インチ(150mm)ラインを用い、ガラス成膜、微細エッチング加工、メタル成膜・加工など、工程ごとの個別受託も対応致します。 試作品から量産品まで、お客様のご要望に応じて幅広く対応いたします。 【サービス紹介】 ■お客様の回路設計情報に基づ...
メーカー・取り扱い企業： NTTデバイスオプテック株式会社
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ダイヤモンドを成膜してみませんか？試作から量産まで対応！導電性ダイヤモ…
ダイヤモンドは絶縁体ですが、ホウ素をドープすることで導電性を付加することができます。 ダイヤモンドの化学的安定性・強度を保持したまま、大面積へ均一に導電性ダイヤモンドを成膜いたします。 ダイヤモンド電極は電位窓が広いので、酸化・還元反応により難分解性物質の分解や、合成が可能になります。 市水（水道水）をダイヤモンド電極で電気分解することにより直接高濃度のオゾン水を作ることができま...
メーカー・取り扱い企業： 松尾産業株式会社 東京支店
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半導体産業の高誘電/ALD金属前駆体（プリカーサ）市場を詳細に調査・分…
米国の半導体材料専門の調査会社テクセット社の調査レポート「高誘電材料とALD金属前駆体（プリカーサー）2023-2024」は、高誘電金属酸化物、バリア層、金属配線、キャッピング層などを含むCVD、ALDアプリケーションに対応した有機および無機前駆体の市場および技術動向情報を提供しています。 【掲載内容（抜粋）】 ■エグゼクティブサマリー ■調査範囲、目的、メソドロジー ■半導体産業市場...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社データリソース
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最小ロット1.000Mから対応！低価格にて各種ケーブル販売できます！
産業機械の設計、省力化装置の開発、製作の全工程を自社にて行う イトデンエンジニアリングでは、低価格にて各種ケーブルを販売しています。 「600V HCV 3.5SQ」や「1500V PVCC 3.55Q」を取り扱っており、 電線の色は黒色と黒色に白ライン入の2パターンございます。 この他にも、600V ビニル絶縁電線(IV)、架線ポリエチレン 絶縁ビニルシースケーブル(CVT.C...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社イトデンエンジニアリング
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透過波長域0.37～13.5㎛
1_硫化亜鉛、マルチスペクトル硫化亜鉛の2種をご用意しております。 2_光学用品、レンズ、ドーム、蒸着材料をご提供可能です。 3_化学気相成長法（CVD)により製造しております。 ...【基本情報】 ・可視光から赤外の波長帯での透過率が高いため、可視光・近赤外分光法（NIR）、短波赤外（SWIR)、中波長赤外（MWIR）、長波赤外（LWIR）などの様々な用途に使用可能です。 ・セレン化亜...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウイング
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３次元実装サービス（TSV技術等による実装サービス）
MEMSの部分工程請負、全体開発試作から量産ファンダリまで幅広く対応します。 ２インチや異型の基板から12インチ(300mm)のMEMSラインのネットワークによりあらゆるご要望に対応。 １枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス スパッタ法で４，...
メーカー・取り扱い企業： 日本MEMS株式会社
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220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透…
・広い透過帯域での高い透過率 ・高硬度 ・高い熱伝導性（銅の約5倍） ・絶縁性 ・化学的安定性（硫酸や硝酸等の酸性サンプルも測定可能） ・高い耐放射線性...CVDダイヤモンド（単結晶・多結晶）は220nmからテラヘルツ・ミリ波・マイクロ波までの非常に広い波長帯を透過する物質です。 また、優れた硬度・熱伝導性・化学的安定性・耐磨耗性をもち、他の物質では耐えられない過酷な環境で光学的観察...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイ・アール・システム
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新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供…
当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材を実現。 新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に対応します。 【製品例】 ■チューブ ■フランジ ■大型フラン...
メーカー・取り扱い企業： 東ソー・クォーツ株式会社
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透過波長域0.37～13.5㎛
1_最適なコストでCO2レーザー製造業者様、レーザー製品販売業者様、及びエンドユーザー様にご満足頂いております。 2_CVD（化学気相成長法）によりレーザー用グレードの製品となっております。 3_大経口のレンズ及びドーム型の制作も可能です。 ...・ブランクの状態でも高い透過率があり、ARコートで95％以上の高透過を実現いたします。 ・屈折率2.4028＠10.6㎛。 ・CO2レーザーに...
メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウイング
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ALD（アトミックレイヤーデポジション） アプリケーション例
ALD（アトミックレイヤーデポジション） アプリケーション例を写真付き…
当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ...
メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社
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低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…
PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○１枚からの成膜が可能です。 ○低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への...
メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社
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