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PRエッチング工程、CVD工程への使用に。高い熱伝導率の「窒化アルミ」、耐…
当社は、半導体製造の分野における、 熱特性や異物発生防止のニーズに応える特殊セラミック部品を提供しています。 窒化アルミは、最高220W/m・Kの熱伝導率で、最大φ500のプレートを提供可能です。 イットリアは、高い耐プラズマ性を備え、焼結材部品と溶射材をラインアップ。 溶射時には高い密着性により、パーティクル低減のニーズに対応可能です。 【特長】 ■窒化アルミは、半導体装置向...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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CVD装置用真空排気装置(塩素系ガス対応真空ポンプユニット)
熱CVD装置の排気に実績多数。Cl系ガスの排気に特に有効、大量排気と塩…
ケミカルプロセスに多大な実績を持つ真空ポンプ(水封式真空ポンプとメカニカルブースタ)をユニット化。 CVD装置のプロセス特性・ガス種・排気量に合わせてポンプ材質と周辺機器を最適化。 主排気ポンプの水封式真空ポンプを封液循環式とし、循環式封液にアルカリ性溶液を使用し、塩素系ガスの排気と中和を両立。後段のガス処理装置の負荷を大きく削減。 特に表面処理用の熱CVD装置の塩素系ガスの排気系に有効で工...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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