【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

プラズマCVD装置『PD-270STLC／PD-2201LC』

引張り～圧縮の応力制御が可能！スペースに合わせて柔軟に設置できます

サムコ株式会社では、プラズマCVD装置である『PD-270STLC／PD-2201LC』を 取り扱っております。 「PD-270STLC」は、上部、中部、底部とカバレッジ性良く成膜が可能。 また「PD-2201LC」は、トレイ搬送による小径ウエハの複数枚同時成膜から、 ウエハ枚葉処理による高均一な成膜まで、お客様の要望に応じて幅広く 対応できます。 【特長】 <PD-27...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車部品の表面処理用途に豊富な実績を持っており、多くの用途に採用。 また新開発のアーク放電式マグネ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

最新の技術　ラボ・学校教育用　ナノチューブ生成機

CVD方式、アーク放電式の二つのシステムを用意しました。

最新の技術　ラボ・学校教育用　ナノチューブ生成機は小規模生産用ラボ器で2～3時間の授業時間中に準備からナノチューブの製造まで特別な技術を要しないで簡単短時間に生成できます。学生や初心者が安全に作業できるように配慮した設計で一般的なCVD方式のほかに短時間で生成が可能で品質の良いアーク放電式の二つのシステムを用意しました。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【特徴】 ○小規模...

メーカー・取り扱い企業： エイアールブイ株式会社

温水循環装置【KCTシリーズ】

高い精度と安定性を持った温水循環装置 清水を使う加熱タイプの温調機で…

◆◆タッチパネル採用により操作性・視認性向上◆◆ ◆◆MODBUS通信、SPI通信を標準装備◆◆ 使用温度範囲：MAX95℃、120℃、160℃、180℃ 媒体：清水 流量：200ℓ/分、350ℓ/分、600ℓ/分 昇温効率が高く、昇温時間が大幅に短縮 高い精度と安定性を持った温水循環装置 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...【特長】 ○汎用温水循環...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

ＨＰＣ－２０フルオートオスミウムコーター

高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あら…

電子顕微鏡観察用前処理のための新型オスミウムコーター。 これまで人の手によるオペレーションの難しかった部分を完全自動化。より安全に、より簡単にオペレーションできる、オスミウムコーティングの新次元。 タッチパネルを搭載し、簡単で明快な操作を実現しました。誰でも簡単に、電子顕微鏡用導電膜を成膜可能。 また、多彩なオプションもご用意。安全面や機能を拡張します。 徹底的にこだわり抜いた装置ですが、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

オスミウムコーターＨＰＣ－１ＳＷ

ＳＥＭで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング！！

オスミウムコーターＨＰＣ－１ＳＷホローカソードプラズマＣＶＤは簡易操作を目標にしたオスミウムコーティング専用機です。複雑な形状の生物や無機化合物などの試料でも一様にコーティング可能。どのような試料にも極めて薄いコーティングで導電性を与えることができます。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○ＳＥＭで観察する試料のチャージ防止にはオスミウムコーティング！！ ○...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社真空デバイス

卓上オゾン排気ドラフト

卓上ドラフト内にUV/O3 装置やプラズマ装置を設置することで、オゾン…

装置のサイズや排気オゾン濃度や必要排気風量に応じたカスタム仕様、受注製作品。 詳細お問い合わせください。...環境仕様 ・ 設置環境温度 1515°以上6060°以下 ・ 入り側オゾン濃度 1000ppm 以下。※ ・ 流入ガスは結露無きドライガスの事。 ・ 排気配管部材は耐腐食性部材を使用の事。 ・ 作業環境の換気は適切に行ってください。 ・ 設置場所は振動無きこと 使用上の注意 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エキシマ 横浜ラボ

ロードロック式プラズマALD装置『AD-230LP』

有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜しま…

『AD-230LP』は、原子レベルの膜厚制御が可能なALD装置です。 有機金属原料および酸化剤を交互に反応室に供給し、表面反応のみで成膜。 ロードロック室を有し、反応室を大気開放することがないため、再現性に 優れた成膜が可能です。 また、容量結合プラズマ(CCP)方式を採用することで、反応室容積を最小化 しており、ガスのパージ時間を短縮し、1サイクルを高速化します。 【特長...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社