dlc | イプロスものづくり

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

無停電電源装置『KE-0520シリーズ』常時インバータ給電UPS

PR対象機器に絞った瞬停対策に！三相AC200V 5ｋVAの小容量を実現！…

『KE-0500シリーズ』は、三相200V/5kVAの小容量を実現した常時インバータ給電方式のUPS（無停電電源装置）です。工場全体ではなく、重要な機械・設備のみに導入するなどターゲットを絞った瞬停対策が行えます。また蓄電デバイスに「EDLC」を選ぶことで、従来の蓄電池では動作できなかった零下などの低温環境下でもバックアップが可能な点も特長です。【特長】 ■産...

メーカー・取り扱い企業：クズミ電子工業株式会社

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティング

PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングで…

半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を示します。また超硬合金だけでなく、工具鋼上でも下地強化層の採用により高い面圧に対応できます。DLC コーティングは表面が非常に平...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所

静電気対策専用 DLCコーティング『THORスリック』

低温処理による高い被膜密着性と低発塵性！表面抵抗値別製品をラインアップ

ESD対策専用DLC コーティング『THORスリック』は、帯電によって起こるダスト等吸着による生産性低下などの不具合対策に活用できる製品です。低温処理で高い被膜密着性と低発塵性。色調は黒色で、耐摩耗性や耐食性、耐焼付性を有しています。半導体製造前工程のウエハホルダやウエハ搬送アーム、吸着ステージなど幅広い用途でご使用いただけます。【特長】 ■低温処理で高い被膜密着性と低発塵性 ■...

メーカー・取り扱い企業：日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置）水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１５以下に低減（１⇒０．０６）最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能【従来のスパッタリング法】カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、強制的にイオン化率を上げなければなりませんでした。【当社が開発したRAMカソード】４面に対向す...

メーカー・取り扱い企業：京浜ラムテック株式会社

油膜保持性能向上型DLC DP-DLC

DとDのコラボレーション

1/100000mmのマジック、表面加工のプロフェッショナル集団...【製品の特長】 ○油膜保持性能向上型DLC ○ピーニングによるディンプル＋DLCの相乗効果＝油膜保持性能向上 ○アルミボールとの摩擦試験で2倍以上の耐久性 ●その他機能や特長については、カタログをご覧頂くかまたはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社オンワード技研本社

低温高周波励起DLC 成膜装置　CVC series

DLC(Diamond-like carbon）コーティング

高周波と直流負パルスを同時印加・高周波プラズマは反応容器外から供給・直流電圧はアークに直結コンパクトでシンプルデザイン・加熱源をもたない・ワークの設置方向に制限なしグラファイトからDLC まで膜質を連続制御・高周波パワーで反応制御・直流電圧値で密着性制御...【アプリケーション例】・機械的特性　耐摩耗：切削工具、摺動部品　低摩耗：真空部品、エンジ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

DLC成膜（ダイヤモンドライクカーボン）

磨耗に強いダイヤモンドライクカーボンです

ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンド　ライク　カーボン・DLC）膜の優れた特長を広くご活用いただける、表面処理加工を行います。...【特長】・低摩擦係数・対摩耗性・低攻撃性・非溶着性・絶縁性・赤外透化性・生体適合性といった優れた特長があり、各種の摺動部品、切削工具、金型、光学部品、医療用途への展開が期待されています。 ●その他機能や詳細については、カタログをダ...

メーカー・取り扱い企業：東製株式会社

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります・完全自動運転のためコスト低減が可能です・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。【特長】 ■必要...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■立体物に成膜可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社DINOVAC

ヒューズテクノネット　DLC成膜装置

可能性の中でテクノロジーは加速する。

ＤＣＬとは、ダイヤモンドのような性質を持ったカーボン膜の意味です。表面が非常に硬いなどの大きな性質をもっており、工業用材料や加工品など、更に新素材の誕生の期待が持たれています。 ...【特徴】 ○硬い SUSや超合金よりもずっと硬い ○超低摩擦非常に低摩擦係数で超潤滑性 ○耐摩耗性非常に磨耗しにくく磨耗汚染が無い ○耐食性不活性で錆びない ○絶縁性 10E+6～10E+...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

プラズマイオン注入成膜装置　PBII-R1000

生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。

プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。詳し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社栗田製作所本社・京都事業部

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

『CARBOZEN　ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業：パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

再研磨・再コーティングによって切れ味を蘇らせ、コストダウンに貢献

再研磨・再コーティングによって切れ味を蘇らせ、コストダウンに貢献します…

当社の、再研磨についてご紹介します。 1ケ・1本からでも、表面処理(コーティング)だけの依頼も承ります。表面処理(コーティング)につきましては、TIALN/TIN/DLC/TiCN等対応出来きますので、再研磨が可能か不可能か迷われているお客様、どうぞお気軽にご相談下さい。【特長】 ■1ケ・1本からでも可能 ■表面処理(コーティング)だけの依頼もできる ■TIAL...

メーカー・取り扱い企業：有限会社ワールドツール

半導体モールド金型用セルテスXコーティング

先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。

半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された２～５μｍの窒化クロム被膜（CrxNy）はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再コーティング加工も可能です。詳しくはカタログをダウン...

メーカー・取り扱い企業：ナノコート・ティーエス株式会社石川事業所

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。安定の…

硬質膜・表面処理用途で実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜形成装置を赤外線光学用途に展開。９０％以上の高い透過率を持つＤＬＣ膜を基板両面に一括形成硬質・高い透過率のＤＬＣ膜を高い生産性で実現。 ...独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備自公転機構によるハイレート全面成膜機構各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

プラティット社回転円筒カソード式PVDコーティング炉

合金ターゲット不要皮膜をソフトウェアで制御

・ソフトウェアで皮膜組成を最適化・アークとスパッタリングの同時蒸着が可能・DLC、酸化物、スパッタリングに対応する最高の自由度...一般的なPVD炉は、ターゲット通りの組成比率でコーティング処理を行います。一方、プラティットは純金属の回転円筒カソードを利用し、皮膜の組成比をソフトウェアで自由に制御します。新しい合金材料の開発や納期の煩わしさから解放され、市場の動向に短期間で対応し、...

メーカー・取り扱い企業：ＹＫＴ株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...

メーカー・取り扱い企業：芝浦メカトロニクス株式会社

省力化装置

省力化装置のことなら、当社におまかせ

当社は、半導体製造装置・省力化装置の装置製造部門と、機械 (ディフェンス)部品等を加工製造する加工部門の両輪で事業を展開しています。なかでも半導体製造設備装置については多種多様な装置を開発設計、製造、検査、納品、据付の工程をこなしてきた実績があり、その生産技術については、高い評価をいただいております。ご要望の際はお気軽にお問合せ下さい。【事業内容】 ■半導体...

メーカー・取り扱い企業：大栄精工株式会社

【展示会出展】レンズ研磨機と平面形状測定装置のご紹介

さまざまな光学面にも対応可能なレンズ研磨機や、平面形状を裏面の影響を受…

4月19日（水）～21日（金）の3日間、「OPIE‘2023レンズ設計・製造展」に出展いたします。新しい技術を弊社よりものづくりに貢献すべく、超精密の中枢を担う光学関係のお客様に役立つ製品のご紹介をさせて頂きます。省人化、自動化、効率化、生産性向上と多様なテーマを必要とされるお客様に向けて、弊社で新しい技術の提案と、貢献をさせていただきたいと思います。【展示会概要】 ■OPIE2023レン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マブチ・エスアンドティー

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオンエッチング(RIE)となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■300×300mm、450×450mm、750×750...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

独自技術のスパッタリング成膜でハイレベルなDLC成膜を実現！

DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率：…

RAM CATHODE（4面対向式カソード）により、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能【従来のスパッタリング法】カーボンのイオン化率が低い為、ta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、強制的にイオン化率を上げなければなりませんでした。【当社が開発したRAMカソード】４面に対向するターゲットを配...

メーカー・取り扱い企業：京浜ラムテック株式会社