MRI室対応　LED　マグルミナンス＜ITEM2024 出展＞

PR国際医用画像総合展（ITEM2024）に出展します　MRI室対応LED…

当社は、2024年4月12日(金)～14日(日)に開催される 「国際医用画像総合展　ITEM2024」に出展いたします。 【出展製品】 ・MRI室対応LED照明　マグルミナンス ・MRI室対応LED非常用照明　マグルミナンス ・高輝度LED照明　カテックス　他 ※PDFダウンロードよりご覧いただけます。 展示会の詳細は下記基本情報をご覧ください。...【展示会出展情報】 会期：2024年4月...

メーカー・取り扱い企業： 東京計器アビエーション株式会社 ＥＭＣ営業部

LEDダウンライト『IDSシリーズ』

PR力率改善、位相調光可能なLEDダウンライト！AC200V仕様は、お問い…

『IDSシリーズ』は、薄型、軽量のLEDダウンライトです。 力率改善、位相調光が可能で、ノングレア。 色温度は5700K, 5000K, 3500K, 3000Kで、渡り配線ができます。 また開口は、100mm, 125mm, 150mm, 175mm, 210mm, 250mmとなっており、 IDS250は延長枠を使うと開口最大300mmまで、使えます。 【特長】 ■薄...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カネヒロデンシ

超高出力　UV-LED照射器　ALE/1C

最大50W 超高出力。水銀ランプに代わるLED照射器。ＵＶ硬化、半導体…

従来の放電ランプ（水銀ランプ）に代わる、超高出力のLED照射システムです。ALE/1C は制御システム（CSS）と露光システム（ESS）の2 つを接続して使用します。 システムを2 つに分割したことで、装置への統合が容易なコンパクトさと高出力を両立させました。 また、露光システムは、ライトパイプ、ライトガイド等の様々な光学部品と組み合わせてお使いいただくことができます。 水銀ランプ100...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/3

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 ...製品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大15W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・単一波長：365, ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/2

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

ALE/2は従来の放電ランプを上回る高出力、高安定を実現したLED紫外線光源装置です。最大4波長のLEDを内蔵し、複数波長の出力が可能です。また兄弟機のALE1と大きく異なる点は同一波長のモジュールを複数搭載可能なのでI線もしくはG線のみを高強度で出力することが可能となっています。LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 ...製品の特徴 ・超ハイパ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS

■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 　 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 　 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備 ...・装置：露光...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。...・対応基板サイズ 小片 5×5mm～最大φ100mm ※100×100mm対応はオプション ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大８インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。...・対応基板サイズ MABA6 : 小片～最大φ150mm MABA8 : ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡ なお､露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避､ランプハウスが所定の位置に移動し､設定光量露光､自動退避までを...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

ナノインプリント本体[モールドテーブルαβ調整モールド機構 高精度XYθウエハステージ ウエハ湾曲機構及びXYステージ アライメント顕微鏡×2 恒温恒湿器 イオナイザー マスフローコントローラ×4(TFP、CTFP、窒素、ヘリウム)] UV光源 デジタルカメラ モールドサイズ：□22mm, □50mm, □75mm（有効は70～72mm角）　（石英、厚み6.35mm台形） ウエ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

UV-LED照射器【水銀不使用。高出力UVLED】

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 高性能の内部温度管理により、外付けの水冷装置や窒素を必要としません。さらに、機械式シャッターも不要なため、露光時間を 10msec まで短縮できます。 水銀不使用！従来のランプ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/1

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

従来の放電ランプに代わる高出力、高安定のLED光源装置です。 最大5種類のLEDを内蔵できるため、複数の波長の出力が可能です。 また、LEDモジュールは簡単に交換できるため、アプリケーションの変更にも柔軟に対応します。 ...製品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社