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制御弁、コントロールバルブ用 NDXデジタルスマートポジショナー
PR【TIIS防爆検定合格品】簡単取付け構造、自動校正、大容量スプールで低…
バルメット社では回転弁(ボール/バタフライ)・グローブ弁・スマートデジタル製品の 幅広いラインナップを揃えております。 <特長> ーコンパクト設計 ーフィードバックレバーリンケージ不要 ー誤動作防止用前面に蓋を用意 ー簡単取付け構造 ーオートキャリブレーション ー前面設置操作パネル ー非接触構造でレバー類の磨耗や位置ずれの回避 ー大容量スプールのため低空気消費量 スプール容量80Nm3/h、 ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンコントロールス 「Japan Controls Co. Ltd.」株式会社 東京本社
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分光分析・スペクトルイメージング向け/広帯域VNIR LED光源
PR熱影響を抑え分析精度向上とメンテナンスコスト削減に貢献。任意のスペクト…
当社では、分光分析・スペクトルイメージング向けの『広帯域VNIR LED光源』を開発しています。 放射熱量が少なく、熱による被照射物の吸収スペクトルの変化を抑えた照射が可能なほか、 製品寿命が長いため、メンテナンスの手間やコストを抑えて使用できます。 また、単一の光源で広帯域スペクトルに対応。(任意のスペクトルにカスタマイズ可能) 波長ごとの光軸のズレや波長強度のムラが少なく、センシング・分析...
メーカー・取り扱い企業: パナソニック株式会社 エレクトリックワークス社 知的財産センター
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同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…
製品の特徴 ・超ハイパワーUV出力:最大80W(単一波長でも可) ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・365nm/385nm/405nm/435nm ・フィードバックコントロール制御による出力維持 ・純正の冷却システムを併せてご提供。既存システムへの統合可。...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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最大4インチ角基板対応 手動露光機
ョン ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション:フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照...
メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社
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研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置
【描画モードの一例】 ■描画モード:HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド(nm):5 ■最小描画サイズ(μm):0.3 ■エッジラフネス(3σ、nm):50 ■CD均一性(3σ、nm):60 ■重ね合わせ精度(3σ、nm):500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…
・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム プロキシミティ露光ギャップ: 1~300μm オプションフラッド露光分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ...
メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社
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高速高解像度レーザー露光装置
rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] : 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] : 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]: 40 ■CD均一性 [3σ、nm] : 60 ■レジストレーション [3σ、nm]: 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』
【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30nm(QXモード) ■オーバーレイ: 30...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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高速パターン・ジェネレータ
【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] : 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] : 40 ■CD均一性 [3σ、nm] : 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] : 225 ■対応基板サイズ :~最大1,400mm角 ...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…
品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大15W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・単一波長:365, 385, 395, 405, 435 nm ・複数波長:365および405nm ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存システムへの統合が容易 ...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…
ラス基板(厚み0.55~1.2 mm) 加圧力:10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源(365nm Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上) アライメント精度: プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出)、 精密アライメント100nm以下(モアレ検出) アライメント用精密XYステ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ライズワン
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6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ
Yの自由曲線 ・X-Yストローク:60ー30mm ・Zストローク:6ー10mm ・Θストローク:360° ・Tilt X - Tilt Yストローク:±3ー±18° ・分解能:直動: 5nm, 角度: <0.04秒 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: オーテックス株式会社
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プロダクション向け高性能マスクレスアライナー
最大露光面積:300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…
製品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションでVIS(470、520、620、660、690nm)、 NIR(730、770、810、850、970nm)など幅広い波長領域からLEDを選択...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…
製品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションで可視光、近赤外の波長領域からLEDを選択することも可能です。) ・閉ループ制御による出力 ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存シス...
メーカー・取り扱い企業: ケイエルブイ株式会社
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