無機防汚コーティング剤『エクセルピュア』による気化冷却効果

PR親水性による水膜形成で気化冷却を促進。空調室外機や屋根の散水冷却などに…

『エクセルピュア』は、アクリル、ポリカーボネート、PET、 ガラスなどの基材表面に超親水被膜を形成するコーティング剤です。 親水性により、被膜表面に付着した水分が薄い水膜を形成し、 水分の蒸発が促進されることで気化冷却効果が生まれ、 施工部分の冷却効率が改善されます。 ★PDFダウンロード”より、本製品のカタログのほか 　散水後の表面温度観察結果をまとめた資料をスグにご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 中央自動車工業株式会社 営業開発部　営業推進グループ

コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

産業用 266nm パルスレーザー　0.5W-3Wモデル

産業用 微細加工用レーザー (Advanced Optowave Corp.社製)は、電子部品や半導体製造用途向けに多くの生産現場で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

面粗さRa1nm【精密研磨/ 鏡面加工】【ラッピング】

◆面粗さ　Ra1nm以下◆

ティ・ディ・シーでは研磨・ポリッシュ・CMPなどの高度技術によって究極の面粗さを実現します。 面粗さRa1 nm以下をほぼ全ての材質で達成可能です！！ ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ティ・ディ・シー

DUV CW深紫外半導体レーザーシステム

193 nm, 213 nm, 244 nm, 257 nm, 266…

ーシステムはリソグラフィー、光学テスト＆検査、ホログラフィーを含む多くの要求の厳しいアプリケーションにとって理想的な単一周波数レーザー光源です。 本レーザシステムはFHG発生技術を用いて193nmまでのDUV波長をCW発振することが可能です。半導体レーザーをベースとしたオールソリッドデザインを採用することで電気/光変換効率、装置サイズ、寿命、消耗品コストなど多くの点に関して一般的に使用されて...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

【パターンウェハ】CD 50nm STI Pattern

200mm 300mm にて対応可能！　対応膜種はご希望によりご相談く…

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

量子ドットレーザー

温度による出力変動が小さい特長を持っており、様々な分野への展開が可能！…

【積層構造例】 ■p＋-GaAs（～200nm～） ■p-AlGaAs（～2000nm～） ■（GaAs/InAs-QD）×N（300～500nm） ■n-AlGaAs（～2000nm～） ■n-GaAs（～200nm～） ■n-Ga...

メーカー・取り扱い企業： YITOAマイクロテクノロジー株式会社

半導体レーザ／RCLED用 エピウェハ

半導体レーザ及びRCLEDの2インチエピウェハ

■波長：635nm～1550nmに対応 ■2”エピウェハ ■半導体レーザ 635～690nm、780～980nm、1300～1550nm ■カスタムデザイン・DFB・DBR・RCLEDなど...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

カスタム対応可　Φ200mm ナノパターンウエーハ

試作開発に最適！半導体業界、液晶、燃料電池など多くの業界で採用されてい…

パターンサイズにつきましては、下記仕様以外にも対応可能ですので、ご相談下さい。 【パターンサイズ】 ○パターン寸法 →75nm 100nm 150nm 200nm ○パターン形状 →ライン＆スペース、ピラー ○ショットサイズ →4mm□ ○基板 →合成石英、シリコンウエーハ、など ○基板サイズ →Φ200m...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

GaAs Based Epi Wafer

化合物半導体エピタキシャル InP基板上にカスタム構造のMBE / …

◆赤外線LD 波長範囲(808nm, 980nm and others in 800~1064nm) ◆垂直共振器面発光レーザ(VCSEL) 波長範囲(650nm, 850nm,) ◆RCLED(Resonant Cav...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社GLORY 東京営業所

エピウェハ(半導体レーザ／VCSEL／PD／RCLEDなど)

半導体レーザ、VCSEL、PD、DBR 各種光半導体デバイスのエピウェ…

■MOCVDによる結晶成長(3/6インチウェハ) ■対応波長：650nm～1060nm、高出力／低出力タイプ ■半導体レーザ・VCSEL・RCLED・PD・DFB・DBR各種構造に対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

SOIの試作・受託生産サービス（ウェハの研削・研磨・接合）

試作対応　少量対応　4～8inch対応　厚み･形状の任意設定可能　基板…

なSOI以外にもCavity SOIウェーハやThick-BOX SOIウェーハと言った特殊なSOIウェーハも提供しております。 ＜対応範囲＞ ■対応サイズ：6"8" ■活性層膜厚：100nm～200μm ■面内厚み精度：薄膜±15nm～　厚膜±0.5μm ■BOX層厚：最大20μm 【各種SOIウェハー特長例】 ■MEMSデバイス製造の工数削減 ■歩留率の向上 ■ダイシ...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

小型プラズマクリーナー『KNPC-1』

12インチリング付きウェハ処理が可能！ 表面改質、無機物/有機物汚染…

ec をチャンバー容積に換算 ・RFパワー制御：13.56MHz/100～1,000W ・プロセスガス流量制御：設定値に対して±10%以内 ・エッチング性能 無機物エッチングレート：平均20nm/min以上±20% 有機物エッチングレート：平均500nm/min以上±20% テストチップをφ300電極上5ポイントに配置 ※φ280円周上4点及び中央1点に配置 ※矩形電極［オプション...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

UV レーザー　ナノ秒パルス空冷コンパクト一体型

レーザーヘッドとコントローラが一体化。 水冷モデルもあり。

355nm 空冷　3W@50KHz　と　空冷　５W@50KHz　モデルをラインアップ。　同サイズの水冷モデルは最大10W@50kHz。 更に高出力をお求めの場合は、Precisionシリーズがあります。...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

ウェハ膜厚・表面粗さ測定機　SemDex A32, M1, M2

完全自動化！マルチセンサ技術を備えた高速ウエハ計測・選別システムをご紹…

多層厚さ・反り・歪み・粗さの 完全自動化・高精度測定機です。 基板層の厚さ・TTV・積層ウエハの全体厚さ・ウエハ反り・歪み・平坦性は、 単一の測定ランにおいてsub-μm精度で測定可能で、nmレベルまでの表面粗さ、 更にTSV・RST、およびミニバンプのパラメータも同様に測定することができます。 その他に、半導体計測の幅広い用途に対応する「SemDex Mシリーズ」を 取り揃え...

メーカー・取り扱い企業： 伊藤忠マシンテクノス株式会社

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例

ALD（アトミックレイヤーデポジション）　アプリケーション例を写真付き…

アプリケーション例を写真でご紹介しています。 【アプリケーション例】 ■トレンチの成膜 ・Al2O3/Ta205ナノラミネート ・SiO2 ■光学薄膜 ・Al2O3/Ta205 (7nm/2nm) ナノラミネート ■MEMSデバイス ・アクチュエーター、RFフィルター、MEMSスイッチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

1インチ以下～450ｍｍで提供可能　「CZウェーハ」

1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウェーハ…

。 新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。 直径：3inch-12inch SOI層：2-200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） 数量：在庫品の場合は数枚程度から対応可能 ＊お手持ちの基板をご支給いただきSO...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

真空UV硬化装置『ＫＮＵＶ－１』

真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ 最大８インチまでのウ…

ー源 0.4 MPa 以上 0.6 MPa 以下 操作部 4.3 型 TFT カラー液晶モニター、非常停止、 USB ポート 1 ヶ UV ランプ 高圧水銀灯 オゾンレスタイプ 主波長 365nm 発光長 200mm 真空ポンプ 最大排気速度： 500 L/min...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

大板水晶ウエハー

水晶原石からウエハーまで一貫した生産ラインと新しい設備でウエハーをご提…

寸法 　・直径：D±0.3mm以下 　・板厚：T±0.01mm以下 ■オリエンテーションフラット：任意 ■切断面方位角度：θ1±5’以下 ■面仕上げ 　・鏡面仕上げ：面粗さ Ra 0.6nm以下 　・そり：30μm以下 ■板厚ばらつき 　・TV5：3μm以下 　・LTV：1μm以下(5×5mm範囲) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ファインクリスタル株式会社 東京オフィス

搬送付きUVオーブン

作業者によるＵＶ〜加熱処理間の搬送を1台の装置に簡略化し安⼼して使⽤で…

(装置概要) UV部 ・ＵＶ波⻑：365・385・395・405（nm） ・照度　　：調整可 熱処理部 ・処理温度：250℃（最⾼設定温度） ・加熱方式：面上ヒータ(幸和独自ヒータ） 搬送部 ・処理時間：設定可能 ・搬送時間：設定可能 ・搬送速度：調整...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社幸和

【研磨加工素材】化合物材料　研磨加工

弊社では化合物半導体結晶の研磨加工が可能です。定形品に限らず、少量から…

iC　・GaN　・GaP　・GaAs　・GaSb　・ZnS　・ZnSe　・ZnTe ・パターン付きウェーハの裏面加工など ■仕上がり厚み：20μm～ ■表面粗さの実力値：GaP表面粗さ：0.1nm ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

Si(シリコン)ウェーハ研磨加工

様々なサイズ、厚みに応じた研磨加工が可能です。

Φ200mm ・3mm×3mm～156mm×156m ・矩形も対応可 ・仕上がり厚み：25μm～ ・平坦度：TTV1μm以下 ・パーティクル：0.2μm20個以下 ・表面粗さ：0.3nm以下 ・膜厚制御可能 ※詳しくは資料をダウンロードいただくか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 日本エクシード株式会社

テストウエハ

材料や装置評価のためのブランケット膜及びパターニングされたウエハをご提…

【φ200mm – パターンウエハの例】 ■Alパターン：Via径φ800nm ■Alパターン：線幅0.35um ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティーイーアイ ソリューションズ株式会社 つくば研究所

シリコンウェハーへの酸化膜受託加工サービス（研究、開発、量産用）

試作対応　少量対応　4～12inch対応　任意膜厚(10nm～20μm…

当社は設立以来、一貫としたシリコンウェハーへの酸化膜加工を行っています。 試作などの少ロットから量産移行後の数量までお応えできます。 また、膜厚についても、他の企業ではマネのできない厚膜加工まで取り揃えており、お客様のあらゆるニーズにもお応えできるようにしております。 特に、当社独自の厚膜熱酸化膜形成技術は光通信を支える光デバイスに欠かす事のできない材料となっており、当社の製品･技術が世...

メーカー・取り扱い企業： セーレンＫＳＴ株式会社 本社

LEDウェハーUV照射器

ウェハー用ダイシングテープの硬化用途、UV-LED採用で安定長寿命

LED採用で安定長寿命。 6インチ、8インチウェハー対応。 12インチウェハー用製作可能。 照射器交換可能(365,385,395,405nm等)。 0～１００％調光可能。 窒素置換(N2パージ)機構採用によりＵＶ硬化時の酸素阻害を軽減。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテックシステム

『蛍光体ウェハーマッピング装置 YB4』

測定範囲最大4インチ！高速、高密度でのマッピングが可能な装置

、透過光源による、高速、 高密度で蛍光体材料のマッピング評価を行うことができる装置です。 100×100mmエリア、もしくは最大4インチの測定が可能で、 オプションでLED光源（447.5nm標準）切り替えもできます。 また、角度依存性（直角45°）や透過率測定も可能です。 【特長】 ■最大4インチの測定が可能 ■オプションでLED光源切り替え可能 ■角度依存性の測定が...

メーカー・取り扱い企業： ユアサエレクトロニクス株式会社

SiC / 単結晶炭化ケイ素 / シリコンカーバイド

高品質・低価格な単結晶SiCウェハー★1枚から対応♪

厚さ：330μm、350μm、500μm（特殊厚み指定可能） 　　※　5～30mm厚のプレートも有ります。 ■　MPD：≦0.5/cm2、≦15/cm2 ■　面仕上げ：CMP研磨（Ra≦0.3nm）/ Polished ■　受注数量：1枚から～...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社同人産業

【CMP用テストウエハ】CD 50nm STI Pattern

300mmウェハにて対応可能！　近年のデバイスのターゲットサイズに近い…

アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅で パターンを作ることに成功いたしました。 300mmウェハにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...【サービスに...

メーカー・取り扱い企業： アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社

InP Based Epi Wafer

化合物半導体エピタキシャル InP基板上にカスタム構造のMBE / …

◆FP レーザー 波長範囲(~1310nm; ~1550nm；~1900nm) ◆DFB レーザー 波長範囲(1270~1630nm) ◆アバランシェフォトディテクター(APD) 波長範囲(1250~1600nm) ◆フォ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社GLORY 東京営業所