長寿命水殺菌ランプ

PR電源のON/OFFに強い水殺菌ランプ。15,000hの長寿命。

冷陰極の長寿命水殺菌ランプ。 冷陰極ランプは点滅に強く、電源のON/OFFによる寿命の減少がほとんどありません。 CCFLランプのコンパクトな特徴を活かし、石英ガラス管内にランプとインバータを内蔵。１つのアダプターに対し省スペースで複数のランプを連結し点灯することが可能です。 波長：254nm 寿命：15,000h 詳しくはお問い合わせください。...冷陰極蛍光ランプ(CCFL)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社納屋商事

無機防汚コーティング剤『エクセルピュア』による気化冷却効果

PR親水性による水膜形成で気化冷却を促進。空調室外機や屋根の散水冷却などに…

『エクセルピュア』は、アクリル、ポリカーボネート、PET、 ガラスなどの基材表面に超親水被膜を形成するコーティング剤です。 親水性により、被膜表面に付着した水分が薄い水膜を形成し、 水分の蒸発が促進されることで気化冷却効果が生まれ、 施工部分の冷却効率が改善されます。 ★PDFダウンロード”より、本製品のカタログのほか 　散水後の表面温度観察結果をまとめた資料をスグにご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 中央自動車工業株式会社 営業開発部　営業推進グループ

波長285nm親撥水処理パターン描画装置

プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 　 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 ２） インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系　　　 ・パターン幅20０μｍ　　　・描画域　100×100mm ・ＤＸＦファイル使用可 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ワイ・ドライブ

UV完全カット防虫LED蛍光灯『X-powerシリーズ』

食品工場や半導体製造装置工場向けLED照明。交流用仕様と直流用仕様両方…

多くの昆虫が見ることができる光の領域は紫外線領域に大きく偏っています。 殆どの虫は400nm以下の光しか見えないが、一部の虫は570nmまでの光が見えています。 電費半分の防虫ランプは虫の可視エリアであり580nm以下の波長を全てカットしているため、 殆どの虫対する防虫効果を期待で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電費半分 本社、埼玉営業所

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/2

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

製品の特徴 ・超ハイパワーUV出力:最大80W(単一波長でも可) ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・365nm/385nm/405nm/435nm ・フィードバックコントロール制御による出力維持 ・純正の冷却システムを併せてご提供。既存システムへの統合可。...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

ダイレクトドライブモータ［Zシリーズ］（DDモータ）

様々なバリエーションを揃え、半導体製造機器や液晶パネル製造機器、一般F…

ダイレクトドライブモータ Zシリーズは、様々なレイアウトに対応する薄型の15Nmタイプから大型設備を支える2,000Nmタイプまで、幅広いバリエーションを揃えあらゆるニーズに対応します。 【特長】 ○大きい中空径 ○耐環境性、メンテンス性向上 ○1,000倍以上の高イナーシャ比対応 ○様々なネットワークにも対応可能 ○短納期対応可能 ○自由度の高いカスタマイズ対応も可能 ○様々...

メーカー・取り扱い企業： シンフォニアテクノロジー株式会社 (旧)神鋼電機

ピエゾアシストステージ

手動で制御する精密位置決めステージ

ピエゾアシストステージとは20nmという最小分解能でかつ粗動(mmオーダー)を備えた微動粗動手動ステージです。 主な用途はテーブルの精密位置決めや微小荷重のコントロールを要する用途（ナノインデンテーション）でも容易に実現できる手動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キーストンインターナショナル

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

○1nm分解能位置決め装置 　分解能：1nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：5mm/s（FC-911コントローラ使用時） 　可動範囲：20mm～50mm 　 ○10nm分解能位...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

ビューイングポート（ビューポート）

覗き窓から高真空容器の光信号入出力まで、用途に合わせてご用意しています…

、サファイヤ等） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2　等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer　等） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

窓交換式高真空用ビューイングポート（ビューポート）

窓材の交換が簡単にできます！

どを簡単に行うことが可能です。 窓材はホウケイ酸グラスまたは溶融石英から選択できます。溶融石英は波長域に応じて4種類のラインナップがあります。 - ARコートなし - UV(290~370nm) - Type-A (350~700nm) - Type-B(650~1050nm) - Type-C(1050~1620nm) また窓材のみの販売も行っておりますので、必要な窓材のみ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

高分解能　静電容量センサ

高分解能　静電容量センサ

標準品でレンジ10nm〜6000nm(6mm)まで対応！測定する材質を選びません！非導体でも測定できます。 ウェハーの厚み測定や精密な位置決め装置として使用されます。分解能0.2nmの高分解能で、超微細な測定に向いてい...

メーカー・取り扱い企業： 翔栄システム株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] ： 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 60 ■レジストレーション [3σ、nm]： 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…

ードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■i線（365nm)、H線（405nm)に対応！（g線はご相談ください） ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

超高真空用ビューイングポート＆電流導入端子※総合カタログ進呈中

官公庁、研究機関、大学の方必見！当社が扱っているビューイングポート（ビ…

） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き（溶融石英）あり ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer等） ■K,T,E,J,C等の熱電対タイプをご用意 ■取付部はICFフランジ、NWフラ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ　　　　　　：～最大1,400mm角 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

外部共振型　半導体レーザー装置

外部共振型　半導体レーザー装置

型、リットマン型、高出力タイプや 　 ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど 　 様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長：635-1700nm， ・出力：10-150mW ・ライン幅：500kHz@20msec ○Littrow ・波長：375-1700nm， ・出力：10-200mW ・ライン幅：1kHz@20msec ●...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルミネックス

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-708」

波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです！

『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 8インチウェハに対して全面照射を可能としま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/3

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…

品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大15W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・単一波長：365, 385, 395, 405, 435 nm ・複数波長：365および405nm ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存システムへの統合が容易 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

SMIF POD（マルチ／シングルタイプ）「SEMI規格準拠」

徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取…

保護するために使用されます。 【特徴】 ■剛性、耐久性が強化 　・金属製の為、従来の樹脂製に比べて、剛性、耐久性が強化されています。 ■低発塵、洗浄しやすいライナーレス設計 　・365nm, 248nm, 及び193nmのレチクル使用可能（プラスティックにリン酸添加物の含有無し） ■大手露光装置メーカーにより認可済 ■超音波洗浄及び純水洗浄装置に適合 ■温風ノズル、放射式真...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

顕微鏡レベルの精密切断！レーザー カッティング ソリューション

IC設計や故障解析の生産性を劇的に改善！LCDリペア・半導体の故障解析…

の精密な切断が可能 ■シングル・ショット（単発）から50Hzまで、繰返し周波数を可変 ■顕微鏡マウント向けのコンパクトな設計 ■大量生産のライン向けに最適 ■３波長（1064/532/355nm、又は、1064/532/266nm）のラインナップ ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。 　カタログは英語表記となります。 ※製品写真中央にある顕微鏡は本製品...

メーカー・取り扱い企業： プネウム株式会社 本社

超微細加工LIGAプロセスによるメタルパーツ，ポリマーパーツ

アスペクト比100も可能。高精度･高アスペクト比のマイクロパーツ，サブ…

IGAプロセスは，高アスペクト比を持つ微細構造製造のための複合プロセスです。 X線リソグラフィと電鋳により，金属やポリマーの微細構造体を高精度，高アスペクト比(100程度)，滑らかな側壁(<50 nm)，自由な横方向形状を持つメタル構造，レジスト構造を実現します。 応用例 ･タルボ干渉計向けのX線回折格子 (日本を含め世界各国の研究所，産業界に導入) ･X線集光レンズ (放射光施設向け...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ASICON

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

浄、紫外線洗浄、ＵＶオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、ＵＶエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』

高反射材料の加工に好適！非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…

、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ」は、「LDMblueシリーズ」で実証された 多くの利点をさらに活かし、445nmでCW出力3000Wを発振、産業分野の 銅などの加工において、新たな業界標準を定めます。 【特長】 ■スキャナーや固定光学系でのビーム伝送 ■高反射材料への吸収率向上 ■産業用途で実証...

メーカー・取り扱い企業： レーザーライン株式会社

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

ン光源ユニット　ＡＬＴ−３３１０』 のご案内です。 【特長】 ・非球面ガラス単レンズを使用したローコスト ・高性能の汎用 【仕様】 ・光出力 ：1mW ・波長光出力 ：655nm ・コリメート径 ：φ4 ・電源電圧 ：4.5〜13.5V ・外形寸法 ：φ12×50mm ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社

表面改良コンポーネント

表面改良コンポーネント

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型

コストパフォーマンスの高いレーザシステムです。 用途に合わせたビーム…

、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。 また、光ファイバコア径φ１００μｍを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。 【特長】 ■波長450nm ■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ ■光ファイバコア径φ１００μｍを採用 ■弊社独自の緑色ガイド光（520nm)標準装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： マイクロエッヂプロセス株式会社

ナノインプリント装置

繰り返し精度＝20nm!!!

代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度　　繰り返し精度＝20nm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

レーザーリペア装置

全自動リペアにも対応！

レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-300」

LED光源で長寿命！ 波長 365nmの紫外線（UV）を照射

LED光源を使用した、UVフィルム硬化装置です。 従来の装置と同水準の装置価格のままで、ランニングコストを1/10以下に抑えることができます。 水銀灯やメタルハライド光源と比較して、硬化性能（硬化状態、硬化スピード）はより良好なレベルを実現しています。 その他、本装置は下側照射や上側照射をはじめ、カスタム仕様の対応、装置組み込み用途などのモジュール化にも対応いたします。...■特長 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

レーザー樹脂溶着装置　デモ機活躍中

2021年8月より稼働を開始したレーザー樹脂溶着でも装置。精力的に稼働…

【技術データ】 ■レーザー安全クラス：1 ■レーザー出力：200W ■レーザー波長：980nm ■加工フィールド：150mm x 110mm ■電源：400V - 3Ph/N/PE, max. 3kW ■エア：6bar ■環境条件 　・最高周辺温度40℃ 　・最高湿度 25℃、8...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

レーザースクライバー『SS-400BG2』

固体レーザ光を利用し電子部品基板のスクライブ加工が可能なレーザスクライ…

【仕様】 ■レーザ波長：1064nm ■操作速度：350mm/s ■対位置精度：±5μm以下 ■ワークセット数：100枚 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 西進商事株式会社

真空対応ピエゾステージ

高真空環境に対応した超小型精密位置決めステージ

装置など狭スペースへの設置が可能です。駆動原理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。広い動作範囲（最大30cm）と非常に細かい動作分解能（最小0.25nm）を併せ持ち、観察倍率に合わせて動作スピード（分解能）を切換えながら操作します。LTシリーズのラインナップは、サイズ・可動範囲・エンコーダーの有無によって区別されます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

ウェハサイズ変更は上下マスクホルダー交換 ■露光性能 　・有効露光範囲φ105mm Hgランプ250W ■UV照度 　・上側約15mW／cm2以上 　・下側15mW／cm2以上（at365nm） 　・照度均一度約±10％ ■露光解像度：ライン＆スペース3μm 　・デバイスの最終加工精度ではありません。 ■露光方式：コンタクト方式（コンタクト圧可変式） 　・ウェハ上面のみプロキシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

半導体製造装置・検査装置に好適なアライメントステージ

0.1μmの追従性を実現する『RSTアライナー』と薄型・小型の省スペー…

【RSTアライナー】 ■最大の特徴である駆動ユニットのバランスの取れた正三角形配置がアライメントに必須の超高精度な微少駆動を可能に ■リニアスケール等のフィードバックを掛けずに0.1μm±20nmの高い追従性を実現 ■ベアリングを使用していない為、大口径の透過穴が実現可能 ■ウエハサイズやワークサイズに合わせ、テーブルサイズも自在 ■貼り合わせ用途などで必要とされるZ機構追加可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

ロール両面同時露光装置『BEX-560DR-LED』

ランニングコストの負担軽減に貢献するロール両面同時露光装置！

LED光源ユニット 　・ランプ交換不要の長寿命LED 　・LED専用設計のフライアイレンズ 　・水銀灯比1/8の低消費電力 　・高速電子シャッター搭載 　・熱線を含まないLED光源（365nm） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社べアック

マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献しま…

5μm／0.05μm ○最大基板サイズ（mm）：　200x200／200x200／100x100　 ○有効露光エリア（mm）：　200x200／200x200／100x100 ○レーザ主波長（nm）：　405±5／375±5／405+375±5 ○露光スキャン速度（ｍｍ/s）：　43.9／22.5／4.5 ○光学エンジン搭載数(灯)　：　1／1／1 ●サイズはご相談に応じます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大日本科研

マスクレス露光装置『 ME-120F』

最大12インチウエハに対応！汎用CAD対応の直接描画なので、フォトマス…

様 装置寸法：W2,000×D1,300×H2,000mm 装置重量：本体1300kg 基　　板：Max 300mmウェハ 露光方式：スキャン露光方式 光　　源：LED（光源波長λ=385nm） 重ね合わせ精度：±0.5μm以内 露光分解能：L/S 0.5μm／L/S 0.1μm（ファイン露光モード使用時）...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピーエムティー 本社・工場

精密XYステージ

半導体用小型ステージから、液晶用大型ステージまで幅広い製作実績を誇りま…

【仕様(一部抜粋)】 ■サーフェイス型エアスライダステージ 　・外形寸法：1250×1000×270mm 　・分解能：0.4nm ■ガントリ駆動型エアスライダステージ 　・外形寸法：3640×4140×2040mm 　・分解能：0.02μm ■直交型リニアガイドステージ 　・外形寸法：3500×3160×1200m...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社モーショントラスト

ピコ秒パルス GRシリーズ 5W／15W／25W

Amber GR-05／15／25

【インデックス／モデル】 【Amber GR-05】【Amber GR-15】【Amber GR-25】 波長　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　532nm 平均パワー　　　　　　　　5W@100kH　　 15W@300kHz　 25W@400kHz シングルパルスエネルギー　50μJ@100kHz　 80μJ@150kHz　 80μJ@...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

多光子励起光造形装置『MPF-330』

材料が熱的な損傷を受けない！フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…

『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750～900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外～可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトサイエンス

マスクレスアライナー『MLA300』

プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

最大露光面積：300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ：1.5μm 最小ラインアンドスペース：2 µm 最大書き込み速度：5000 mm2 / min（@405 nm、1モジュール時） リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

超音波発生器

半導体用ウェーハ洗浄から産業用部品洗浄まで幅広い分野の洗浄装置に応用で…

当社が販売している超音波発生器のメーカー、KYUNG　IL　MEGASONIC(韓国）は創業以来１０年の製造経験を持ち、国内の半導体メーカーはもとより、欧米にも輸出実績を持っています。 特に、三星電子、及びHYNIXには、過去3年間で約３００台以上の 実績を誇り、装置の完成度の高さと、安定性には定評が あります。 シリコンウェーハー、ガリウム砒素、ハードディスク、 液晶基板等の通常洗浄はも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社インテリンク

UV(紫外線)硬化装置｜高圧水銀ランプ仕様「UVC-512」

ワークを回転させながら照射させるため、ウェハー全領域に均一なUV照射を…

【モデルUVC-512】は、特定波長（365nm）の紫外線を照射することのできる装置です。UV（紫外線）硬化タイプのフィルムに照射することで、ダイシング後に、チップをテープから簡単に剥離させることが可能となります。 本装置は、ワークを回転さ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

「ナノピンセット」リーフレット

マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な微小ピンセットのリーフレットで…

【掲載内容】 ○ナノピンセットとは？ ○特長 →先端部材質：単結晶シリコン（SiO2被膜付） →数百nm～数十μmの試料の把持が可能です。 →先端を平行に開閉します。 →撥水処理を行っており、先端を液中に浸けて操作することが可能です ○アプリケーション →ウェハ上のパーティクル（幅2μm) ...

メーカー・取り扱い企業： アオイ電子株式会社

UV-Uniform(TM)　(UV－LED均一照射ユニット)

UV-Uniform(TM)は使用するUV-LEDは比較的少量で、φ8…

【設計仕様】 ・対応波長：265～405nm(波長の組合せも可能です) ・照射エリア：100×100mm ・有効エリア：φ80mm ・均一度：±10％程度 ・放射照度：波長により異なります。 ・照射距離：50mm ・消費電力：25...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大興製作所 事業統括本部