• 4波長対応UV-LED照射器(空冷式) ※深紫外285nm追加! 製品画像

    PR深紫外 285nmの波長が新たに追加!条件出しテスト機に適したUV-L…

    300nm、365nm、385nm、395nm、405nm、420nmの波長に対応したUV-LED照射器です。 4波長同時、波長個別点灯が可能なため、条件出しがスムーズに容易にできます。 様々な業界に対応可能で、テスト機に好適です。 弊社実験室での照射テストやデモ機の貸出が可能です。 【特長】 ■4波長同時照射、波長個別点灯も可能 ■条件出しテスト機に好適 ■様々な搬送系に対...(つづきを見る

  • 検査向 調光LEDパネル 超薄型 8万lux以上 カスタムサイズ 製品画像

    PR異物混入検査や食品・色 キズ ほこり 塗料 繊維 薬品 産業機器 光壁…

    1台からカスタムサイズ 特寸対応が可能な検査向の調光対応LEDパネルの ご紹介です。 【特長】 ■1台からカスタムサイズ対応 特寸  ■日本製  ■直下型 厚み30mm/55mm ■導光板 厚み4.9mm/6.5mm/8.5mm/9mm 【色温度】 標準:3,000K(電球色)/4,000K(白色)    /5,000K(昼白色)/6,500K(昼光色) Ra83 ...(つづきを見る

  • 波長285nm親撥水処理パターン描画装置 製品画像カタログあり

    プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

    物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。   ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力UVLED使用の安価光学系    ・パターン幅200μm   ・描画域 100×100mm ・DXFファイル使用可 ...(つづきを見る

  • LED光源UVフィルム硬化装置『UVC-708』 製品画像カタログあり

    波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです!

    『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 18インチウェハに対して全面照射を可能とし...(つづきを見る

  • 250W水銀光源 REX-250 製品画像カタログあり

    248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択・切り換えが可能なUV照射…

    •248・313・334・365・405・436nmを高出力 •安価に248nmの光が利用可能 •光反応だけの熱が出ない光学系 •超高圧250W水銀ランプを搭載 •フィルターで波長選択 •フィルターの切り換えが可能 •100~5の連続可変...(つづきを見る

  • 電流安定度、位置安定度は業界トップクラス!電子線描画装置 製品画像カタログあり

    加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現!※描画デモ可能

    スト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したTFE電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。 ...(つづきを見る

  • 超高精細高精度電子ビーム描画装置『ELS-F125』 製品画像カタログあり

    5nmを切る究極の極細線描画性能と圧倒的な高スループットを実現した電子…

    超高精細高精度電子ビーム描画装置「ELS-F125」は世界最小、線幅5nmの極細線パターンを保証、高アスペクト比構造が容易に形成できます。 【特徴】 ■世界最細の超微細パターン5nmを保証。 ■高アスペクト比構造を描画できます。 ■広領域にわたり均一かつ微細なパタ...(つづきを見る

  • リソグラフィー『Nano Frazor Scholar』 製品画像

    分解能10nm以下!次世代リソグラフィーのサーマル走査プロープ描画装置…

    ルデヒドなどのレジストに、高性能な熱の針を使って直接 描画が可能です。 SEMを必要としない同一装置での描画&検査可能で、一般的なパターン 転写も可能です。 【特長】 ■分解能10nm以下 ■SEMを必要としない同一装置での描画&検査可能 ■一般的なパターン転写も可能 ■マーカーなしで重ね合わせ精度5nm、つなぎ精度10nm ■電子ビームを使わないので、電気的ダメージ無し...(つづきを見る

  • 超コンパクト半導体励起UVレーザー 製品画像

    266nm CW(連続波)レーザー 10mW, 50mW, 100m…

    超コンパクト半導体励起UVレーザー“FQCW 266シリーズ”の発振波長は紫外域の266nmで、殊に測定装置用の光源として使用しやすいCW(連続)光です。今回リリースする2機種の出力は5mwと10mWですが、本年末には100mW機種の製品化も予定しています。 単一縦モードで、TEM00の...(つづきを見る

  • UV(紫外線)フィルム硬化装置|LED光源仕様「UVC-300」 製品画像カタログあり

    LED光源で長寿命! 波長 365nmの紫外線(UV)を照射

    LED光源を使用した、UVフィルム硬化装置です。 従来の装置と同水準の装置価格のままで、ランニングコストを1/10以下に抑えることができます。 水銀灯やメタルハライド光源と比較して、硬化性能(硬化状態、硬化スピード)はより良好なレベルを実現しています。 その他、本装置は下側照射や上側照射をはじめ、カスタム仕様の対応、装置組み込み用途などのモジュール化にも対応いたします。...■特長 ...(つづきを見る

  • 【合金、化合物、コアーシェル】ナノクラスターソース 製品画像カタログあり

    終結型ガス凝縮法により直径1~20nmのナノ粒子を生成します。化合物や…

    【製品仕様】 ナノクラスターソース -取付フランジ:ICF203 -真空側ソース長:0mm -サイズレンジ:1~20nm(材料に依存) -サイズばらつき:+/-5%(ガス流量やパワーに依存) -成膜速度:最大6オングストローム/sec -ガス流量:5-100nm(Ar/He) -冷却:水冷 Qポールマス...(つづきを見る

  • ナノインプリント装置 製品画像

    繰り返し精度=20nm!!!

    代替パターニングとして (テラバイト光ディスク、LED、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等)に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度  繰り返し精度=20nm ...(つづきを見る

  • 実験用エキシマUV照射装置 製品画像

    高照度172nmエキシマランプ 管面照度150mW/cm²以上

    【特徴】 ・高照度RF放電方式による高照度、高い均一性 ・照射面に電極や石英窓がない、ランプ管面直接照射 ・真空環境内でもエキシマランプの点灯可 ・独自のスリッドホルダにより、窒素使用量の大幅削減 ・ランプ毎に照度調整が可能 ・ランプ有効長:MAX G10サイズまで 【無電極照射ユニット・N2スリッドホルダー構造】 ランプ構造は照射面側に電極を持たない構造の為、光の遮りがなく、透過...(つづきを見る

  • 超高輝度ファイバー付半導体レーザ(L4シリーズ) 製品画像カタログあり

    高い技術力を基に超高輝度・高出力・高効率・高信頼性且つ長寿命を実現

    導体レーザ(L4シリーズ)は、光通信分野で培われた高い技術力を基に超高輝度・高出力・高効率・高信頼性且つ長寿命を実現した、光ファイバー付半導体レーザです。主な仕様と致しまして、波長808nm、812nm、915nm、940nm、975nm・出力4W、4.5W、10W・ファイバーコア径105μm・ファイバーNA0.15、0.22・各種コネクター(SMA、SC)・フィードバックプロテクションとなってお...(つづきを見る

  • 小型バイオレットLDモジュール 製品画像

    405nm、高出力タイプ(100mW)LDモジュール

    500MHz以上の直接変調が可能(オプション)です。高い出力安定性かつ高ビーム品質を保持し、シングルモードファイバーへ約7割の効率でカプリングが可能です。...He-Cdレーザーやイオンレーザーの代替品として注目されているバイオレットLDのモジュール高出力タイプです。100mWまでの出力が可能です。...(つづきを見る

  • 高輝度半導体レーザ(2400シリーズ、5400シリーズ) 製品画像カタログあり

    高輝度・高出力・高効率・高信頼性かつ長寿命を実現した半導体レーザ

    高輝度半導体レーザ(2400シリーズ、5400シリーズ)は、旧SDL時代より蓄積された高い技術と長年の実績をもとに、高輝度・高出力・高効率・高信頼性かつ長寿命を実現した半導体レーザをご提供致します。2400シリーズの仕様につきましては、波長808nm・出力0.6W~8.5Wになります。次に5400シリーズは波長810nm、830nm、852nm・出力50mW~200mW、横モードシングルになってお...(つづきを見る

  • リソグラフィー『Nano Frazor Explore』 製品画像

    高速、高精度!「サーマル走査プロープ」を使った画期的な次世代リソグラフ…

    xplore』は、『サーマル走査 プロープ』を使った画期的な次世代リソグラフィーです。 最大の特徴は、熱時定数 6μ秒の ”Tip” を使用することにより、 高分解能描画後すぐに、その場1nm分解能の描画検査を実現したことです。 EBLと遜色ないほど高速・高精度で、3D描画、グラフェンへの対応も可能。 シリコンや金属への標準的なパターン転写も可能です。 【特長】 ■SEM...(つづきを見る

  • 外部共振型 半導体レーザー装置 製品画像カタログあり

    外部共振型 半導体レーザー装置

    型、リットマン型、高出力タイプや   ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど   様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長:635-1700nm, ・出力:10-150mW ・ライン幅:500kHz@20msec ○Littrow ・波長:375-1700nm, ・出力:10-200mW ・ライン幅:1kHz@20msec ●...(つづきを見る

  • 水銀輝線用バンドパスフィルター 製品画像

    □152mmサイズのフィルターが標準ラインナップとして登場しました。

    水銀ランプの365nm輝線を効率良く透過させるフィルターです。 基板に合成石英を使用しているため耐熱性に優れています。 特注対応も可能です。 313nm,334nm,405nm,436nmについてはご相談下さい...(つづきを見る

  • 高分解能 静電容量センサ 製品画像カタログあり

    高分解能 静電容量センサ

    標準品でレンジ10nm〜6000nm(6mm)まで対応!測定する材質を選びません!非導体でも測定できます。 ウェハーの厚み測定や精密な位置決め装置として使用されます。分解能0.2nmの高分解能で、超微細な測定に向いてい...(つづきを見る

  • 定エネルギー分光光源 PVL-3310 製品画像カタログあり

    各波長で一定光量の単色光を照射できる光源装置です。分光感度特性・アクシ…

    PVL-3310は、350~1100nmの波長範囲において、各波長の単色光を一定光量で出射することができる光源装置です。 専用ソフトウェアからの操作で、単色光を自由にコントロールすることができ、ライトガイド出射式なので使用環境に応じて...(つづきを見る

  • 真空対応 高精度位置決めステージ 製品画像カタログあり

    真空対応 高精度位置決めステージ

    つスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。またLT12830には各軸に2個のリニアエンコーダーが備わっており、非常に高い精度を達成します。 XY2軸タイプのみ。 動作分解能:0.5nm(XY軸) 繰返し精度:50nm 動作範囲:30mm(XY軸) 移動スピード:最速2mm/sec 対加重:500g 使用環境:10-7mbar、0〜80℃(標準仕様) サイズ:128x1...(つづきを見る

  • ナノスピードディップコーター ND-0407-S4 製品画像カタログあり

    ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!!

    ワークの2軸、θ角制御で、ワークの角度調整、斜め引上げを可能にした超低速ディップコート(ディップコーティング)装置です。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。 ナノレベルの膜厚形成、オパール膜、粒子配列、結晶生成等に適しています。 操作はタッチパネル方式を採用。2軸...(つづきを見る

  • マイクロスピードディップコーター MD-0408-S6 製品画像カタログあり

    速度可変域の広さで、当社装置人気度NO1ディップコーター

    当社販売実績NO1のマイクロスピードディップコーター(ディップコーティング装置)です。速度の可変域は1μm/secから60mm/sec、1nm/secから2mm/secのモード切替式で大変にワイドで使い易い仕様となっています。 ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質にディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。...(つづきを見る

  • 近赤外・赤外線カメラ/近赤外(NIR) NIR-600P  製品画像カタログあり

    近赤外・赤外線カメラ/近赤外(NIR) NIR-600P

    NIR-600Pは900〜1700nmのNIR領域に感度があるカメラです。このカメラは解像度640 x 512 ピクセルのInGaAsセンサ使用しています。 InGaAsセンサは近赤外領域における感度が良く、均一性に優れており、強...(つづきを見る

  • 顕微鏡レベルの精密切断!レーザー カッティング ソリューション 製品画像

    IC設計や故障解析の生産性を劇的に改善!LCDリペア・半導体の故障解析…

    の精密な切断が可能 ■シングル・ショット(単発)から50Hzまで、繰返し周波数を可変 ■顕微鏡マウント向けのコンパクトな設計 ■大量生産のライン向けに最適 ■3波長(1064/532/355nm、又は、1064/532/266nm)のラインナップ ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。  カタログは英語表記となります。 ※製品写真中央にある顕微鏡は本製品...(つづきを見る

  • ディップコーターレンタル 製品画像カタログあり

    超低速ディツプコーター(ディップコーティング装置) ナノレベルの膜厚…

    す。ナノオーダーでの引き上げ移動、θ角引き上げ移動を行うことで、単分子の粒子配列から、多孔質体への薄膜を形成することができます。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコートが可能です。ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。 詳しくはお問い合わせ...(つづきを見る

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像カタログあり

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着力が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • SiCの研削 加工事例 製品画像カタログあり

    SiCの両面研削を実現!両面研削加工

    ワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<0.5nm (後工程CMP) ■TTV<2μm/Warp<10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と  固定砥石 『MAD Plate』を使用することで  SiCの両面研削加工を実現 ※詳し...(つづきを見る

  • 赤外線カメラ 製品画像カタログあり

    Electrophysics 社では、高い性能を操作性をもつ 近赤外線…

    7290は、400nm-1.9μm(オプションで最高2.2μm)に感度をもつ近赤外カメラです。 バッテリ駆動タイプ利用可能 オプションフィルタでフィルタスライド可能 1.5μmにおける優れた応答性 ...(つづきを見る

  • 高出力ファイバー付半導体レーザシステム(IDLシリーズ) 製品画像カタログあり

    電源一体型の産業用半導体レーザシステム 空冷・コンパクト・高効率

    高出力ファイバー付半導体レーザシステム(IDLシリーズ)は、電源一体型の産業用半導体レーザシステムです。空冷・コンパクト・高効率で、繰り返しOn/Offサイクルでも超寿命を実現します。信頼性の高いシングルエミッターLDを使用しており、CW1800Wでも空冷を実現しました。主な仕様としては、波長940nm、出力90W・180W、ファイバーコア径600μm、ファイバーNA0.22、トップハットビームプ...(つづきを見る

  • 焼結ダイヤモンドの研削 加工事例 製品画像

    PCDの高速高圧研磨を実現!高速高圧研削加工

    どの基板は 硬く脆い性質を持った研磨加工の難しい素材です。 その中でも、特に加工の困難な焼結ダイヤモンドの 研磨を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ<3nm ■加工時間4時間(従来の方法での加工時間10時間) ■高速高圧研磨装置『EJW-400HSP』と  固定砥石 『MAD Plate』を使用することで  6時間の加工時間の短縮を実現 ...(つづきを見る

  • 微細転写装置 製品画像カタログあり

    微細転写装置

    「精密と成形」をナノメートルオーダーへ進化させた微細転写装置です 【特長】 ◆高精度プレス位置制御、高精度プレス力制御を実現 ◆一台で熱転写成形、UV転写成形に対応 ◆高分解XYステージを搭載し、ステップ&リピート方式等に対応 ◆量産ラインへの設置及び安全性を考慮 ■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□■□ =====詳細はお問い合わせください===...(つづきを見る

  • マルチスペクトルLED光源装置 製品画像カタログあり

    高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

    製品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションでVIS(470、520、620、660、690nm)、 NIR(730、770、810、850、970nm)など幅広い波長領域からLEDを選択...(つづきを見る

  • 真空・低温対応 高精度位置決めステージ 製品画像カタログあり

    真空・低温対応 高精度位置決めステージ

    理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。 XY2軸タイプ / XYZ3軸タイプ UHVモデル,低温モデルも有ります。 動作分解能:0.5nm(XYZ軸) 動作範囲:20mm(XY軸),15mm(Z軸) 移動スピード:最速2mm/sec 対加重:500g(XY)200g(Z) 使用環境:10-7mbar、0〜80℃(標準仕様) ...(つづきを見る

  • ビューイングポート 製品画像カタログあり

    超高真空容器、圧力容器の光信号入出力に最適!

    等) ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き(溶融石英) ■広範囲の波長用のビューイングポート(ZnSe, CaF2, MgF2 等) ■レーザー用のビューイングポート(780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer 等) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 高性能汎用コリメーション光源ユニット ALT−3310 製品画像カタログあり

    高性能汎用コリメーション光源ユニット ALT−3310

    ン光源ユニット ALT−3310』 のご案内です。 【特長】 ・非球面ガラス単レンズを使用したローコスト ・高性能の汎用 【仕様】 ・光出力 :1mW ・波長光出力 :655nm ・コリメート径 :φ4 ・電源電圧 :4.5〜13.5V ・外形寸法 :φ12×50mm ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • UVレーザー加工機 製品画像

    微細加工や難加工材料での問題を簡単解決、UVレーザー加工機

    YAGレーザの4次高調波(波長266nm)を搭載し、ステージとガルバノスキャナの連動で、自在に微細パターンの加工が可能です。 加工パターンはCADから自動コンバートでき、誰でも手軽に使用できます。どんな材料でも加工が可能で、金属ではチタ...(つづきを見る

  • UV-LED照射器【水銀不使用。高出力UVLED】 製品画像カタログあり

    高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

    製品の特徴 ・ハイパワーUV出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションで可視光、近赤外の波長領域からLEDを選択することも可能です。) ・閉ループ制御による出力 ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存シス...(つづきを見る

  • リニアエンコーダ内蔵 高分解能位置決め装置 製品画像カタログあり

    【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

    ○1nm分解能位置決め装置  分解能:1nm(内蔵エンコーダの読取値に対して)  最大移動速度:5mm/s(FC-911コントローラ使用時)  可動範囲:20mm~50mm   ○10nm分解能位...(つづきを見る

  • MWC6000 製品画像カタログあり

    MWC6000

    これにより装置の設置場所の制約がなくなり、より自由度のあるレイアウトが可能です。またこの機能により動作速度も速くなり各位置への移動時間が150msと従来比1/2になりました。また位置決め精度も400nmで 高精度化と高速化を両立しています。この装置のアプリケーションはWaferレベルの高精度部品実装とWaferレベルで光学部品を製造したり、検査・切断用のステージやMEMS等のWafer上への高精度...(つづきを見る

  • 表面改良コンポーネント 製品画像

    表面改良コンポーネント

    オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単...(つづきを見る

  • 超高真空用ビューイングポート&電流導入端子※総合カタログ進呈中 製品画像カタログあり

    官公庁、研究機関、大学の方必見!当社が扱っているビューイングポートや電…

    ) ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き(溶融石英)あり ■広範囲の波長用のビューイングポート(ZnSe, CaF2, MgF2等) ■レーザー用のビューイングポート(780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer等) ■K,T,E,J,C等の熱電対タイプをご用意 ■取付部はICFフランジ、NWフラ...(つづきを見る

  • Sonicブロワー(渦巻き型ブロワー) 製品画像カタログあり

    小型モーターで高速回転させ、大風量を作り出す水切り/乾燥用専用ブロワー…

    ソニック社製ブロワーは、独自の技術によりコンプレッサーや従来のブロワーに比べて省エネルギーで大風量を作り出します。 作り出された大風量は脈動せず、継続的に供給する事が可能です。 またメンテナンスも容易な構造となっています。...【標準品仕様】 ・Sonic 70(流量:2~20N㎥//min) ・Sonic 85(流量:2.4~24.1N㎥/min) ・Sonic 100(流量:2.83...(つづきを見る

  • MEMS・半導体パッケージ用塗布装置 製品画像

    最先端のMEMS・半導体パッケージプロセスをはじめ、各種実装プロセスに…

    ウエハレベルCSP用/ TAB用/COF用など、広範な生産技術に対応。 ・面内均一性に優れ、50nm ~ 100μmレベルの薄膜・厚膜形成が可能 ・塗布事例:薄膜・厚膜・凹凸・貫通穴への精密コーティング ・装置の販売及び実験、受託テストも行えますのでお客様の用途、環境に合わせてご提案致します。...(つづきを見る

  • ディップコーター Nシリーズ(精度 1ナノ/毎秒) 製品画像

    ディップコーター Nシリーズ(精度 1ナノ/毎秒)

    1秒間に1ナノメートルの超低速の引き上げ速度を実現したモデルです。 操作は、タッチパネルを基本とし、初めての方でも簡単に操作が可能です。 最高速度は、30mm/SEC。 風防、角度調整機能を標準一体化し、ナノ粒子配列等の研究に適したモデルいたしました。...1秒間に1ナノメートルの超低速の引き上げ速度を実現したモデルです。 操作は、タッチパネルを基本とし、初めての方でも簡単に操作が可能...(つづきを見る

  • レーザーリペア装置 製品画像

    全自動リペアにも対応!

    レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応 ...(つづきを見る

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