偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ（WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品　WP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプティカルソリューションズ

コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

粉体提供可能なネガ型レジスト　H-SiOx

電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途…

納対応：必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能：必要量に応じて対応します。 短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産：より長いシェルライフでのお届けが可能です。 最高レベルの線幅：7nmの...

メーカー・取り扱い企業： オプトシリウス株式会社

超微細加工LIGAプロセスによるメタルパーツ，ポリマーパーツ

アスペクト比100も可能。高精度･高アスペクト比のマイクロパーツ，サブ…

IGAプロセスは，高アスペクト比を持つ微細構造製造のための複合プロセスです。 X線リソグラフィと電鋳により，金属やポリマーの微細構造体を高精度，高アスペクト比(100程度)，滑らかな側壁(<50 nm)，自由な横方向形状を持つメタル構造，レジスト構造を実現します。 応用例 ･タルボ干渉計向けのX線回折格子 (日本を含め世界各国の研究所，産業界に導入) ･X線集光レンズ (放射光施設向け...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ASICON

【資料】チタンの昇温脱離特性

バフ研磨・電解研磨・電解複合研磨それぞれの表面処理ごとの昇温脱離特性を…

ご覧いただけます。 是非ご一読ください。 【掲載項目】 ■表面処理 ■表面粗さ 　・レーザーRa(μm)測定長さ282.348(μm) 　・レーザーRa相対比率 　・AFM Ra(nm)測定長さ10(μm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三和産業株式会社

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

浄、紫外線洗浄、ＵＶオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、ＵＶエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

ラス基板（厚み0.55~1.2 mm） 加圧力：10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源（365nm　Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上） アライメント精度：　プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出）、 精密アライメント100nm以下（モアレ検出） アライメント用精密XYステ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

ナノインプリント装置「TEXシリーズ」＊デモ相談可能

従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度１００nm ・スループット１～２分以内 ・ハイアスペクト（１：５）可能 ・残膜１５nm以下 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

膜厚測定装置『LF-1000』

ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置

【基本測定】 ■測定波長範囲 400nm～1000(1700)nm(波長範囲は仕様による) ■測定膜厚範囲 150Å ～50(250)μm(測定膜厚は仕様による) ■光学定数測定範囲 1000Å ～5(10)μm(測定範囲は仕様による...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラポールシステム

ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』

高反射材料の加工に好適！非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…

、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ」は、「LDMblueシリーズ」で実証された 多くの利点をさらに活かし、445nmでCW出力3000Wを発振、産業分野の 銅などの加工において、新たな業界標準を定めます。 【特長】 ■スキャナーや固定光学系でのビーム伝送 ■高反射材料への吸収率向上 ■産業用途で実証...

メーカー・取り扱い企業： レーザーライン株式会社

【研究・開発向け 分析前加工機械】超精密研磨装置『PERET』

未経験者でも簡単にできる精密研磨装置！難しい高精度な前処理が誰でもでき…

囲を対象にSEMやXPSでの深さ方向の観察・分析が可能になります。 また、浮彫研磨により研磨面内の広いエリア内の欠陥や材質違いの分布などを精密に観察・分析することができます。 【特長】 ■nm削ることで発生する化学変質を起こさない ■浮彫研磨、斜め研磨、樹脂の変質無し研磨 ■高分解能10nm単位の研磨 ■断面を表面に出す研磨 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パルメソ

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

ン光源ユニット　ＡＬＴ−３３１０』 のご案内です。 【特長】 ・非球面ガラス単レンズを使用したローコスト ・高性能の汎用 【仕様】 ・光出力 ：1mW ・波長光出力 ：655nm ・コリメート径 ：φ4 ・電源電圧 ：4.5〜13.5V ・外形寸法 ：φ12×50mm ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社

光学グレード単結晶

側面粗さRaは、研磨済み、Ra＜5nm！光学グレード単結晶をご紹介しま…

【その他の仕様と公差】 ■平行度(μ/mm) : 1 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面粗さRa：研磨済み、Ra＜5nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

結晶欠陥検査装置『EnVision』

非破壊/非接触！nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ（15nm～サブミクロン）と密度（E6～E10/cm3）の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ方向の検出感度を大幅に向上させ、幅広い密度とアプリケーションを カバーすることで、表面近...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

様々な産業で利用されています。 弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS-1430：SiO2 29~31%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm HS-40：SiO2 39~41%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パイロテック・ジャパン

＜微細加工の受託サービス＞電子ビーム(EB)描画加工

フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

UV装置

【ランプ寿命は長寿命】低ランニングコストで経済的！

UV装置は、紫外線(UV)を用い、基板表面の有機物を除去する為の装置です。 【特長】 ■自社製低圧水銀ランプにより発生する185nm、254nm波長の紫外線効果により 　基板表面の有機性汚れを除去します。 ■ランプ寿命は6000時間保証。低ランニングコストを実現。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータ...

メーカー・取り扱い企業： クリーン・テクノロジー株式会社

近赤外無限遠f=200mm結像顕微鏡

InGaAs(SWIR) カメラ対応顕微鏡

InGaAs(SWIR)カメラに対応。 900-1700nmで高透過率のf=200mm結像鏡筒。 1.1インチセンサー対応 Cマウント 同軸ケーラー照明 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

MWC6000

MWC6000

これにより装置の設置場所の制約がなくなり、より自由度のあるレイアウトが可能です。またこの機能により動作速度も速くなり各位置への移動時間が150msと従来比1／2になりました。また位置決め精度も400nmで 高精度化と高速化を両立しています。この装置のアプリケーションはWaferレベルの高精度部品実装とWaferレベルで光学部品を製造したり、検査・切断用のステージやMEMS等のWafer上への高精度...

メーカー・取り扱い企業： AJI株式会社

表面改良コンポーネント

表面改良コンポーネント

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

有限会社鶴丸産業 事業紹介

研磨業を通じて、お客様の発展に寄与し、地域と共に豊かな未来を想像し続け…

て片面研磨も可） 　　薄物では0.180mmまで可能 　・ワークサイズは最大420φ・310×310から最小5φ・5×5まで可能 　・厚み公差精度は±1μm 　・表面粗さは0.002μm（2nm） 　・少量、多品種、短納期を得意とします 　・硝材購入からの加工可 ■金属部 　・金属円筒内外鏡面研磨加工 〔主要加工品名〕 　・半導体製造装置の部品（SUS）継ぎ手、バルブ他、各種 ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社鶴丸産業

MEMS・半導体パッケージ用塗布装置

最先端のMEMS・半導体パッケージプロセスをはじめ、各種実装プロセスに…

ウエハレベルCSP用／ TAB用／COF用など、広範な生産技術に対応。 ・面内均一性に優れ、50nm ～ 100μmレベルの薄膜・厚膜形成が可能 ・塗布事例：薄膜・厚膜・凹凸・貫通穴への精密コーティング ・装置の販売及び実験、受託テストも行えますのでお客様の用途、環境に合わせてご提案致します。...

メーカー・取り扱い企業： ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

ガラスマスクの加工

エマルジョンガラス、クロムマスクの加工

スク／エマルジョンマスク ■材質：石英、青板／青板／青板 ■熱膨張係数[/℃(常温～200℃)：5×10⁻⁷、8.1×10⁻⁶／8.1×10⁻⁶／8.1×10⁻⁶ ■透過率：90%以上(200nm)、80%以上(365nm)／80%以上／80%以上 ■平面性：10μm/オーバーオール／250mR以上(曲率半径)／250mR以上(曲率半径) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：< 0.2mm ■レーザーのカーフ：3 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

焼結ダイヤモンドの研削 加工事例

PCDの高速高圧研磨を実現！高速高圧研削加工

どの基板は 硬く脆い性質を持った研磨加工の難しい素材です。 その中でも、特に加工の困難な焼結ダイヤモンドの 研磨を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜3nm ■加工時間4時間（従来の方法での加工時間10時間） ■高速高圧研磨装置『EJW-400HSP』と 　固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 　6時間の加工時間の短縮を実現 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型

コストパフォーマンスの高いレーザシステムです。 用途に合わせたビーム…

、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。 また、光ファイバコア径φ１００μｍを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。 【特長】 ■波長450nm ■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ ■光ファイバコア径φ１００μｍを採用 ■弊社独自の緑色ガイド光（520nm)標準装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： マイクロエッヂプロセス株式会社

多結晶メカニカル

0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ！多結晶メカニカルのご紹…

をご用意しています。 【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：<0.2mm ■レーザーカーフ：3 ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ■厚さの許容：+/-0.05mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7.磁性:無 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

ナノインプリント装置

繰り返し精度＝20nm!!!

代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度　　繰り返し精度＝20nm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

レーザーリペア装置

全自動リペアにも対応！

レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

半導体向けポリエチレンフィルタ Photopex PE

用途に応じた幅広い孔径（1nm相当の微細孔径も）と清浄度を有するポリエ…

Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μｍ相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。 この高い清浄度の...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

ナノスピードディップコーター(カタログ配信中)

産業界に革新をもたらす超低速ディップコーター。これまでにない次元へと進…

【主仕様】 1.ストローク: Z軸:150mm、X軸:150mm 2.最小速度: 1nm/sec 3.最大速度: 60mm/sec 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数: 16ポイン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

ナノスピードディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!！

【主仕様】 1.ストローク: Z軸:150mm、X軸:150mm 2.最小速度: 1nm/sec 3.最大速度: 60mm/sec 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数: 16ポイン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

マイクロスピードディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

"微細な未来を形に。1μm/secの究極の精密ディップコーターで革新を…

【主仕様】 1.ストローク: 150mm 2.最小速度: 1μm/sec (1nm/sec) 3.最大速度: 60mm/sec (2mm/sec) 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-300」

LED光源で長寿命！ 波長 365nmの紫外線（UV）を照射

LED光源を使用した、UVフィルム硬化装置です。 従来の装置と同水準の装置価格のままで、ランニングコストを1/10以下に抑えることができます。 水銀灯やメタルハライド光源と比較して、硬化性能（硬化状態、硬化スピード）はより良好なレベルを実現しています。 その他、本装置は下側照射や上側照射をはじめ、カスタム仕様の対応、装置組み込み用途などのモジュール化にも対応いたします。...■特長 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

レーザー樹脂溶着装置　デモ機活躍中

2021年8月より稼働を開始したレーザー樹脂溶着でも装置。精力的に稼働…

【技術データ】 ■レーザー安全クラス：1 ■レーザー出力：200W ■レーザー波長：980nm ■加工フィールド：150mm x 110mm ■電源：400V - 3Ph/N/PE, max. 3kW ■エア：6bar ■環境条件 　・最高周辺温度40℃ 　・最高湿度 25℃、8...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

『電解複合研磨』

ナノレベルまで平滑化・高均質・清浄！3次元形状の製品まで対応致します！

(特にステンレス製品)の研磨面は、 超精密鏡面となり美観の向上にもなります。 さらに、当社では電解複合研磨の耐食性をさらに上げる表面処理技術 「SUSECP」を開発し、表面粗さRa=2.7nmに更なる高耐食性を実現しました。 【特長】 ■複雑形状の施工 ■超鏡面 ■高均質性 ■高耐食性 ■高真空性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三和産業株式会社

レーザースクライバー『SS-400BG2』

固体レーザ光を利用し電子部品基板のスクライブ加工が可能なレーザスクライ…

【仕様】 ■レーザ波長：1064nm ■操作速度：350mm/s ■対位置精度：±5μm以下 ■ワークセット数：100枚 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 西進商事株式会社

6-Dメカニカルステージ

6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ

Yの自由曲線 ・X-Yストローク：60ー30mm ・Zストローク：6ー10mm ・Θストローク：360° ・Tilt X - Tilt Yストローク：±3ー±18° ・分解能：直動: 5nm, 角度: <0.04秒 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

3Dスプレーコーター　API-240-3DS

任意の３D形状に塗布できる3Dスプレーコーター。レーザースキャナーで基…

塗布サイズ：600mm x 400mm 塗布精度　：液供給の再現性　1%以下　、　膜厚均一性　±5-10%程度 ヘッドスピード：最大1m/sec 塗布膜厚：10nm - 100um程度 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピロス 本社

【国産】真空プラズマ装置(49万)大気圧プラズマ装置(34万)

表面改質・洗浄に優れた低温電荷ダメージ無し！真空・大気圧プラズマを安価…

り合せ　・MEMSの接着強化　・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄　　　・細胞培養の前処理　など・・・ 【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど 　μ～nm粒径まで親水性を向上致します！ 無償デモ処理実施中！...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

真空対応ピエゾステージ

高真空環境に対応した超小型精密位置決めステージ

装置など狭スペースへの設置が可能です。駆動原理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。広い動作範囲（最大30cm）と非常に細かい動作分解能（最小0.25nm）を併せ持ち、観察倍率に合わせて動作スピード（分解能）を切換えながら操作します。LTシリーズのラインナップは、サイズ・可動範囲・エンコーダーの有無によって区別されます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

光学顕微鏡向け マイクロマニピュレータ

既存の光学顕微鏡やマイクロスコープに後付け可能（パッチクランプ法、ナノ…

MM3A-LMP、MM3A-LSは、光学顕微鏡やマイクロスコープのステージ周りに取付けされます。微動モード（nm動作分解能）と粗動モード（長距離移動用）を併せ持ち、ナノスケールの超微細動作を広い領域で行えます。 ● 操作系にジョイスティック（PS2）を採用することで、誰にでも直感的な操作が出来ます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

ウェハサイズ変更は上下マスクホルダー交換 ■露光性能 　・有効露光範囲φ105mm Hgランプ250W ■UV照度 　・上側約15mW／cm2以上 　・下側15mW／cm2以上（at365nm） 　・照度均一度約±10％ ■露光解像度：ライン＆スペース3μm 　・デバイスの最終加工精度ではありません。 ■露光方式：コンタクト方式（コンタクト圧可変式） 　・ウェハ上面のみプロキシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

韓国で5nmといった最先端の微細化技術を使った製造プロセスで採用されるという実績をもとに、当社は2019年に日本で設立されました。日本の半導体製造業をサポートすべく、エッチング装置部品に成膜致します。第一段階と...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

半導体製造装置・検査装置に好適なアライメントステージ

0.1μmの追従性を実現する『RSTアライナー』と薄型・小型の省スペー…

【RSTアライナー】 ■最大の特徴である駆動ユニットのバランスの取れた正三角形配置がアライメントに必須の超高精度な微少駆動を可能に ■リニアスケール等のフィードバックを掛けずに0.1μm±20nmの高い追従性を実現 ■ベアリングを使用していない為、大口径の透過穴が実現可能 ■ウエハサイズやワークサイズに合わせ、テーブルサイズも自在 ■貼り合わせ用途などで必要とされるZ機構追加可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社