偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ（WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品　WP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプティカルソリューションズ

蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/2

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

製品の特徴 ・超ハイパワーUV出力:最大80W(単一波長でも可) ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・365nm/385nm/405nm/435nm ・フィードバックコントロール制御による出力維持 ・純正の冷却システムを併せてご提供。既存システムへの統合可。...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ョン ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション：フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム プロキシミティ露光ギャップ: 1~300μm オプションフラッド露光分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] ： 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 60 ■レジストレーション [3σ、nm]： 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ　　　　　　：～最大1,400mm角 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/3

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…

品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大15W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・単一波長：365, 385, 395, 405, 435 nm ・複数波長：365および405nm ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存システムへの統合が容易 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

ラス基板（厚み0.55~1.2 mm） 加圧力：10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源（365nm　Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上） アライメント精度：　プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出）、 精密アライメント100nm以下（モアレ検出） アライメント用精密XYステ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

6-Dメカニカルステージ

6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ

Yの自由曲線 ・X-Yストローク：60ー30mm ・Zストローク：6ー10mm ・Θストローク：360° ・Tilt X - Tilt Yストローク：±3ー±18° ・分解能：直動: 5nm, 角度: <0.04秒 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

マスクレスアライナー『MLA300』

プロダクション向け高性能マスクレスアライナー

最大露光面積：300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ：1.5μm 最小ラインアンドスペース：2 µm 最大書き込み速度：5000 mm2 / min（@405 nm、1モジュール時） リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/1

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

製品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションでVIS（470、520、620、660、690nm）、 NIR（730、770、810、850、970nm）など幅広い波長領域からLEDを選択...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

UV-LED照射器【水銀不使用。高出力UVLED】

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大30W、水銀不使…

製品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大30W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 365nm/385nm/405nm/435nm (オプションで可視光、近赤外の波長領域からLEDを選択することも可能です。） ・閉ループ制御による出力 ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存シス...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社