レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度＆高速測定で…

特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示！ レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

メーカー・取り扱い企業： マール・ジャパン株式会社

無機防汚コーティング剤『エクセルピュア』による気化冷却効果

PR親水性による水膜形成で気化冷却を促進。空調室外機や屋根の散水冷却などに…

『エクセルピュア』は、アクリル、ポリカーボネート、PET、 ガラスなどの基材表面に超親水被膜を形成するコーティング剤です。 親水性により、被膜表面に付着した水分が薄い水膜を形成し、 水分の蒸発が促進されることで気化冷却効果が生まれ、 施工部分の冷却効率が改善されます。 ★PDFダウンロード”より、本製品のカタログのほか 　散水後の表面温度観察結果をまとめた資料をスグにご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 中央自動車工業株式会社 営業開発部　営業推進グループ

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] ： 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 60 ■レジストレーション [3σ、nm]： 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ　　　　　　：～最大1,400mm角 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

電流安定度、位置安定度は業界トップクラス！電子線描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

スト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クレステック 本社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

EBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

単一ショットで一括描写加工『レーザーマーキング用ビーム成形器』

高速可変可能なビームシェーパーを使用！微細マーキングを用いたアプリケー…

に対応し、広範囲の 追加モジュール（画像処理ツール・ビジョンツール・スキャンヘッドなど）を追加することができます。 【特長】 ■美観を損ないたくない製品へのトレーサビリティ ■波長400nm～1100nmのレーザー光 ■像の成形速さは60Hz ■1レーザーショットでビーム成形 ■約1cm2 の視野を持つ ■1時間あたり最大数万種類の異なる形状を可能にする ■レーザーマーキング...

メーカー・取り扱い企業： カンタム・ウシカタ株式会社

＜微細加工の受託サービス＞電子ビーム(EB)描画加工

フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

株式会社PARAM　会社案内

超高速電子ビーム描画技術・要素技術の開発・製造・コンサルティング！微細…

株式会社PARAMは、電子ビームを用いたウェハ直接描画に使用する並列型 マルチコラム・マルチビームを用いた電子ビーム技術開発会社です。 近い将来、微細加工技術は5nm以下が必要とされ、用途は人工知能チップはじめ 多くの分野で、開発から量産技術として必要とされています。 当社は各種電子ビーム要素技術と関連技術で皆さまのお役に立てるように 精一杯尽力いたし...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社PARAM