蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

266nm ナノ秒パルス 固体レーザー

産業用 266nm パルスレーザー　0.5W-3Wモデル

産業用 微細加工用レーザー (Advanced Optowave Corp.社製)は、電子部品や半導体製造用途向けに多くの生産現場で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： サンインスツルメント株式会社 本社

波長285nm親撥水処理パターン描画装置

プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・…

物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 　 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 ２） インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力ＵＶＬＥＤ使用の安価光学系　　　 ・パターン幅20０μｍ　　　・描画域　100×100mm ・ＤＸＦファイル使用可 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ワイ・ドライブ

780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』

2光子リソグラフィおよび半導体検査のためのフェムト秒ファイバーレーザー

・市場で最速の2光子リソグラフィを実現 ・超小型コールドレーザーヘッド ・完全なソフトウェア制御可能 ・AOM内蔵（オプション対応）...ナノリソグラフィや半導体の微量分析では、解像度と安定性が卓越した結果を生み出す鍵になります。 トプティカ社の産業グレード、コンパクト、ターンキー操作、および堅牢なファイバーレーザー技術は、最高の本質的安定性を提供し、光源を装置に深く統合することを可能にし...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

UV完全カット防虫LED蛍光灯『X-powerシリーズ』

食品工場や半導体製造装置工場向けLED照明。交流用仕様と直流用仕様両方…

多くの昆虫が見ることができる光の領域は紫外線領域に大きく偏っています。 殆どの虫は400nm以下の光しか見えないが、一部の虫は570nmまでの光が見えています。 電費半分の防虫ランプは虫の可視エリアであり580nm以下の波長を全てカットしているため、 殆どの虫対する防虫効果を期待で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電費半分 本社、埼玉営業所

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

LARK 355A(355nm Qスイッチ DPSSレーザ)

AOQスイッチを搭載した、エンドポンプ方式の半導体励起固体レーザの3倍…

■共振器が筐体と一体化されているため、光学アライメントを行う必要が無く安定したレーザ発振を行うことができる ■空冷のコンパクトサイズのため、持ち運びに便利...■半導体励起Qスイッチ固体SHGレーザ(DPSS QスイッチTHGレーザ) ■＞3W @40Hz ■＜18nsec パルス幅 ■空冷コンパクトサイズ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/2

同一波長のモジュールを複数搭載可能な高出力・高安定のLED光源装置。ハ…

製品の特徴 ・超ハイパワーUV出力:最大80W(単一波長でも可) ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・365nm/385nm/405nm/435nm ・フィードバックコントロール制御による出力維持 ・純正の冷却システムを併せてご提供。既存システムへの統合可。...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

250W水銀光源　REX-250

248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択･切り換えが可能なUV照射…

•248・313・334・365・405・436nmを高出力 •安価に248nmの光が利用可能 •光反応だけの熱が出ない光学系 •超高圧250W水銀ランプを搭載 •フィルターで波長選択 •フィルターの切り換えが可能 •100～5の連続可変...

メーカー・取り扱い企業： 朝日分光株式会社

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

(2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長：930nm, オプション波長：530nm, 1550nm シングル波長、二波長共に対応可能。 (5) 広範囲の温度計測可能（Max 1800℃）...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ダイレクトドライブモータ［Zシリーズ］（DDモータ）

様々なバリエーションを揃え、半導体製造機器や液晶パネル製造機器、一般F…

ダイレクトドライブモータ Zシリーズは、様々なレイアウトに対応する薄型の15Nmタイプから大型設備を支える2,000Nmタイプまで、幅広いバリエーションを揃えあらゆるニーズに対応します。 【特長】 ○大きい中空径 ○耐環境性、メンテンス性向上 ○1,000倍以上の高イナーシャ比対応 ○様々なネットワークにも対応可能 ○短納期対応可能 ○自由度の高いカスタマイズ対応も可能 ○様々...

メーカー・取り扱い企業： シンフォニアテクノロジー株式会社 (旧)神鋼電機

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

最大4インチ角基板対応 手動露光機

ョン ・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム ギャップ露光(1~300μm) オプション：フラッド露光 分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ200W, 350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

ピエゾアシストステージ

手動で制御する精密位置決めステージ

ピエゾアシストステージとは20nmという最小分解能でかつ粗動(mmオーダー)を備えた微動粗動手動ステージです。 主な用途はテーブルの精密位置決めや微小荷重のコントロールを要する用途（ナノインデンテーション）でも容易に実現できる手動...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キーストンインターナショナル

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

【描画モードの一例】 ■描画モード：HR(High Resolution Mode 0.3um) ■最小アドレスグリッド（nm）：5 ■最小描画サイズ（μm）：0.3 ■エッジラフネス（3σ、nm）：50 ■CD均一性（3σ、nm）：60 ■重ね合わせ精度（3σ、nm）：500 ※詳しくはカタログをご覧頂くか...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

リニアエンコーダ内蔵　高分解能位置決め装置

【新型ステージコントローラ】とリニアエンコーダを内蔵した【フィードバッ…

○1nm分解能位置決め装置 　分解能：1nm（内蔵エンコーダの読取値に対して） 　最大移動速度：5mm/s（FC-911コントローラ使用時） 　可動範囲：20mm～50mm 　 ○10nm分解能位...

メーカー・取り扱い企業： シグマ光機株式会社

超コンパクト半導体励起UVレーザー

266nm CW（連続波）レーザー 10mW - 550mW @ 2…

の粋を集めて開発され、コンパクト・軽量・空冷式で安価なCWレーザーです。 ■測定用に使い易いレーザー 超コンパクト半導体励起UVレーザー“FQCW 266シリーズ”の発振波長は紫外域の266nmで、殊に測定装置用の光源として使用しやすいCW（連続）光です。 ■高ビーム品質・高い信頼性 単一縦モードで、TEM00のシングル横モード、M2値も1.3未満の高品質レーザー光を発振。ローノイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

ビューイングポート（ビューポート）

覗き窓から高真空容器の光信号入出力まで、用途に合わせてご用意しています…

、サファイヤ等） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2　等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer　等） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

窓交換式高真空用ビューイングポート（ビューポート）

窓材の交換が簡単にできます！

どを簡単に行うことが可能です。 窓材はホウケイ酸グラスまたは溶融石英から選択できます。溶融石英は波長域に応じて4種類のラインナップがあります。 - ARコートなし - UV(290~370nm) - Type-A (350~700nm) - Type-B(650~1050nm) - Type-C(1050~1620nm) また窓材のみの販売も行っておりますので、必要な窓材のみ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

高分解能　静電容量センサ

高分解能　静電容量センサ

標準品でレンジ10nm〜6000nm(6mm)まで対応！測定する材質を選びません！非導体でも測定できます。 ウェハーの厚み測定や精密な位置決め装置として使用されます。分解能0.2nmの高分解能で、超微細な測定に向いてい...

メーカー・取り扱い企業： 翔栄システム株式会社

ナノスピードディップコーター　ND-0407-S5

ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!！

ワークの2軸、θ角制御で、ワークの角度調整、斜め引上げを可能にした超低速ディップコート(ディップコーティング)装置です。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。 ナノレベルの膜厚形成、オパール膜、粒子配列、結晶生成等に適しています。 操作はタッチパネル方式を採用。2軸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

SUSS MicroTec 手動マスクアライナMA/BAGen4

最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光…

・露光モード コンタクトソフト, ハード, バキューム プロキシミティ露光ギャップ: 1~300μm オプションフラッド露光分割露光 ・露光光学系 波⾧ UV400 350~450nm UV300 280~350nm UV250 240~260nm 光源 光源水銀ランプ350W 水銀キセノンランプ500W UV-LED ( i, h, g線対応) 面内照度均一性: ...

メーカー・取り扱い企業： 兼松ＰＷＳ株式会社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

rite Mode1選択時 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.5 ■最小 L&S [HP, μm] ： 0.7 ■ラインエッジラフネス [3σ、nm]： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 60 ■レジストレーション [3σ、nm]： 200 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30nm(QXモード） ■オーバーレイ: 30...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…

ードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■i線（365nm)、H線（405nm)に対応！（g線はご相談ください） ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

ED SCOPE Til　イーディー スコープ タイル

見えない、見にくいナノサイズの欠陥を鮮明に浮き上がらせ可視化する新感覚…

料（内部・表面・裏面）、反射試料（表面） ◇ 視野範囲：34×28mm～100×84mm ◇ 被写界深度：透過試料（約３００ｍｍ） ◇ 反射試料：（約１ｍｍ） ◇ 分解能：（X・Y）150 nm～ ◇ 分解能：（Z）5 nm～ ◇ 検査項目：表面検査・内部検査 ◇ 導入：現場検査・品質・開発、計測器との併用 ◇ 環境： ノーマル ◇ メンテナンス：フリー ◇ 消耗品：ナシ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ピストンリング株式会社

超高真空用ビューイングポート＆電流導入端子※総合カタログ進呈中

官公庁、研究機関、大学の方必見！当社が扱っているビューイングポート（ビ…

） ■交換式高真空用ビューイングポート ■ARコート付き（溶融石英）あり ■広範囲の波長用のビューイングポート（ZnSe, CaF2, MgF2等） ■レーザー用のビューイングポート（780nm/ダイオード、1064nm/ヤグ、248nm/KrF Excimer , 193nm/ArF Excimer等） ■K,T,E,J,C等の熱電対タイプをご用意 ■取付部はICFフランジ、NWフラ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テクサム

外部共振型　半導体レーザー装置

外部共振型　半導体レーザー装置

型、リットマン型、高出力タイプや 　 ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど 　 様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長：635-1700nm， ・出力：10-150mW ・ライン幅：500kHz@20msec ○Littrow ・波長：375-1700nm， ・出力：10-200mW ・ライン幅：1kHz@20msec ●...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ルミネックス

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

【描画性能】 ■最小描画サイズ [μm] ： 0.75 ■エッジラフネス [3σ、nm] ： 40 ■CD均一性 [3σ、nm] ： 65 ■重ね合わせ精度 [3σ、nm] ： 225 ■対応基板サイズ　　　　　　：～最大1,400mm角 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹…

型式：PEC-6 ■エッチング方式 　・Photo-Electro Chemical：光電気化学 ■適応ワーク：□10ｍｍ小片チップ、φ2～6インチ ■UVA光源：超高圧水銀灯315～400nm 15mW/sm2以上 ■UVC光源：プラズマ光源220～320nm 12mW/sm2以上 ■薬液供給：2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液 ■外形寸法：1470（H）×650（W）×7...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所

マイクロスピードディップコーター　MD-0408-S8

速度可変域の広さで、当社装置人気度NO1ディップコーター

当社販売実績NO1のマイクロスピードディップコーター(ディップコーティング装置)です。速度の可変域は1μm/secから60mm/sec、1nm/secから1mm/secのモード切替式で大変にワイドで使い易い仕様となっています。 ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質にディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

最大2100万画素 SWIRカメラ

高画素(5M・12M・21M)SWIR帯域の撮影や各種検査用途に応用可…

画素数：1296×1032 レンズマウント：Cマウント 外形寸法：65×65×95mm その他特徴：外部トリガ、ROI、欠陥画素補正、シェーディング補正、ゲイン、ガンマ設定、検出波長帯：400nm～1700nm、PoCXP非対応 【SWIRカメラ 通常品】 製品名：VCC-SXCXP1SW 外形寸法：65×65×65mm その他特徴：PoCXP対応、その他機能は概ね画素ずらし版と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーアイエス

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-708」

波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです！

『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 8インチウェハに対して全面照射を可能としま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■nmレベルのメタル膜の精密エッチング ■独自機構による抵パーティクルプロセス ■メタル膜、化合物半導体基板など幅広い用...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

電流安定度、位置安定度は業界トップクラス！電子線描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

スト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クレステック 本社

カスタム対応可　Φ200mm ナノパターンウエーハ

試作開発に最適！半導体業界、液晶、燃料電池など多くの業界で採用されてい…

パターンサイズにつきましては、下記仕様以外にも対応可能ですので、ご相談下さい。 【パターンサイズ】 ○パターン寸法 →75nm 100nm 150nm 200nm ○パターン形状 →ライン＆スペース、ピラー ○ショットサイズ →4mm□ ○基板 →合成石英、シリコンウエーハ、など ○基板サイズ →Φ200m...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

EBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

単一ショットで一括描写加工『レーザーマーキング用ビーム成形器』

高速可変可能なビームシェーパーを使用！微細マーキングを用いたアプリケー…

に対応し、広範囲の 追加モジュール（画像処理ツール・ビジョンツール・スキャンヘッドなど）を追加することができます。 【特長】 ■美観を損ないたくない製品へのトレーサビリティ ■波長400nm～1100nmのレーザー光 ■像の成形速さは60Hz ■1レーザーショットでビーム成形 ■約1cm2 の視野を持つ ■1時間あたり最大数万種類の異なる形状を可能にする ■レーザーマーキング...

メーカー・取り扱い企業： カンタム・ウシカタ株式会社

マルチスペクトルＬＥＤ光源装置　ALE/3

高出力・高安定のLED光源装置。ハイパワーUV出力最大15W、水銀不使…

品の特徴 ・ハイパワーＵＶ出力:最大15W ・水銀不使用 ・LEDで高安定、ランニングコスト削減 ・内蔵するLEDを選択可能 ・単一波長：365, 385, 395, 405, 435 nm ・複数波長：365および405nm ・外付けの冷却装置不要で、新しいシステムや既存システムへの統合が容易 ...

メーカー・取り扱い企業： ケイエルブイ株式会社

ディップコーターレンタル

超低速ディツプコーター(ディップコーティング装置) ナノレベルの膜厚…

す。ナノオーダーでの引き上げ移動、θ角引き上げ移動を行うことで、単分子の粒子配列から、多孔質体への薄膜を形成することができます。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコートが可能です。ナノレベルの膜厚形成、オパール膜生成等に適しています。操作はタッチパネル方式を採用し、誰でも何処でも同一条件で簡易に操作が出来ます。 詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

ナノスピードディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!！ 　現…

業界最大の引上げ速度範囲(1nm/secから60mm/sec)を備えたディップコーターは、次世代のコーティングソリューションです。その幅広い適用範囲は驚くべき革新性を提供します。 この設備はナノテクノロジー分野において微細な構造...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム： 80sec（Al：100nm＋SiOx：20nm） ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着力が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

【技術情報】フォトマスクとは？

レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。

【仕様】 [基材の種類] ○ガラス基板 →合成石英(Qz)：透過率 90% / 200nm 以上 →ソーダライム(SL)：透過率 83% / 380nm 以上 ○フィルム基板 →PET：透過率 90% / 200nm 以上 [クロム膜] ○ガラス基板上のクロム薄膜は2層構造 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア

SMIF POD（マルチ／シングルタイプ）「SEMI規格準拠」

徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取…

保護するために使用されます。 【特徴】 ■剛性、耐久性が強化 　・金属製の為、従来の樹脂製に比べて、剛性、耐久性が強化されています。 ■低発塵、洗浄しやすいライナーレス設計 　・365nm, 248nm, 及び193nmのレチクル使用可能（プラスティックにリン酸添加物の含有無し） ■大手露光装置メーカーにより認可済 ■超音波洗浄及び純水洗浄装置に適合 ■温風ノズル、放射式真...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

顕微鏡レベルの精密切断！レーザー カッティング ソリューション

IC設計や故障解析の生産性を劇的に改善！LCDリペア・半導体の故障解析…

の精密な切断が可能 ■シングル・ショット（単発）から50Hzまで、繰返し周波数を可変 ■顕微鏡マウント向けのコンパクトな設計 ■大量生産のライン向けに最適 ■３波長（1064/532/355nm、又は、1064/532/266nm）のラインナップ ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。 　カタログは英語表記となります。 ※製品写真中央にある顕微鏡は本製品...

メーカー・取り扱い企業： プネウム株式会社 本社

乾燥・焼成制御システム『フォトマスク・リペア装置』

先進のプリント基板用リペア装置もご用意！最小修正線幅5umの乾燥・焼成…

ーザーリペア装置」も 取り扱っています。 【特長】 ■前工程の検査装置の座標位置のデータを受信 ■欠陥座標位置に近い所に移動している ■レーザーシステム：Nd YAGレーザー(1064nm、532nm、266nm 選択よる) ■X/Y/Z 3軸独立モーターシステム駆動 ■最小修正線幅5um ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： A-Tech System Co., Ltd.

光学式細孔率・細孔分布測定装置

世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター）細孔…

【アプリケーション】 ・Low-k膜の細孔率測定 ・色素増感太陽電池のTiO2細孔率測定 ・細孔サイズ（0.5~65nm)、厚さ（50nm～５um)のサンプル 【特徴】 ・膜厚、屈折率、表面積、浸透率、ヤング率、CTE計測も測定可能 ・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能（２０分/point) 【仕...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

粉体提供可能なネガ型レジスト　H-SiOx

電子ビーム描画装置、EUV露光装置、ナノインプリント・リソグラフィ用途…

納対応：必要な時にすぐに手に入ります。 常時同じ粘度での使用が可能：使用前に混合するので増粘しません。 濃度調整可能：アプリケーションに合わせた幅広い範囲の膜厚を作成可能です。 最高レベルの線幅：7nmの線幅を実現 【液体】 少量から購入可能：必要量に応じて対応します。 短納期：受注後1カ月以内での納品が可能です。 受注生産：より長いシェルライフでのお届けが可能です。 最高レベルの線幅：7nmの...

メーカー・取り扱い企業： オプトシリウス株式会社

超微細加工LIGAプロセスによるメタルパーツ，ポリマーパーツ

アスペクト比100も可能。高精度･高アスペクト比のマイクロパーツ，サブ…

IGAプロセスは，高アスペクト比を持つ微細構造製造のための複合プロセスです。 X線リソグラフィと電鋳により，金属やポリマーの微細構造体を高精度，高アスペクト比(100程度)，滑らかな側壁(<50 nm)，自由な横方向形状を持つメタル構造，レジスト構造を実現します。 応用例 ･タルボ干渉計向けのX線回折格子 (日本を含め世界各国の研究所，産業界に導入) ･X線集光レンズ (放射光施設向け...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ASICON

【資料】チタンの昇温脱離特性

バフ研磨・電解研磨・電解複合研磨それぞれの表面処理ごとの昇温脱離特性を…

ご覧いただけます。 是非ご一読ください。 【掲載項目】 ■表面処理 ■表面粗さ 　・レーザーRa(μm)測定長さ282.348(μm) 　・レーザーRa相対比率 　・AFM Ra(nm)測定長さ10(μm) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三和産業株式会社

UV洗浄表面改質装置　ASM1101N

110Wの高出力UV洗浄をお手元で手軽に。

浄、紫外線洗浄、ＵＶオゾン洗浄、紫外線オゾン洗浄とも呼ばれる、製品の高精細化に適合した、ＵＶエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。 低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。同時に基盤表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応がおこり...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

【半導体製造装置関連】PETRAナノインプリントステッパー

ナノ単位で、モールドからワークに複数回に分けて転写する装置。 つくば…

ラス基板（厚み0.55~1.2 mm） 加圧力：10~250N(22mm角49N 0.1MPa, 50mm角250N 0.1MPa, 75mm角0.05MPa) 平行光のLED-UV光源（365nm　Φ4インチ面積、10mJ/cm2以上） アライメント精度：　プリアライメント1μm以下(パターン検出/エッジ検出）、 精密アライメント100nm以下（モアレ検出） アライメント用精密XYステ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライズワン

ナノインプリント装置「TEXシリーズ」＊デモ相談可能

従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやす…

〔特徴〕 ・マスターモールド、ソフトモールド、UVレジスト、転写装置全てをシステム化 ・解像度１００nm ・スループット１～２分以内 ・ハイアスペクト（１：５）可能 ・残膜１５nm以下 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

膜厚測定装置『LF-1000』

ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置

【基本測定】 ■測定波長範囲 400nm～1000(1700)nm(波長範囲は仕様による) ■測定膜厚範囲 150Å ～50(250)μm(測定膜厚は仕様による) ■光学定数測定範囲 1000Å ～5(10)μm(測定範囲は仕様による...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラポールシステム

ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』

高反射材料の加工に好適！非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…

、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ」は、「LDMblueシリーズ」で実証された 多くの利点をさらに活かし、445nmでCW出力3000Wを発振、産業分野の 銅などの加工において、新たな業界標準を定めます。 【特長】 ■スキャナーや固定光学系でのビーム伝送 ■高反射材料への吸収率向上 ■産業用途で実証...

メーカー・取り扱い企業： レーザーライン株式会社

【研究・開発向け 分析前加工機械】超精密研磨装置『PERET』

未経験者でも簡単にできる精密研磨装置！難しい高精度な前処理が誰でもでき…

囲を対象にSEMやXPSでの深さ方向の観察・分析が可能になります。 また、浮彫研磨により研磨面内の広いエリア内の欠陥や材質違いの分布などを精密に観察・分析することができます。 【特長】 ■nm削ることで発生する化学変質を起こさない ■浮彫研磨、斜め研磨、樹脂の変質無し研磨 ■高分解能10nm単位の研磨 ■断面を表面に出す研磨 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パルメソ

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

高性能汎用コリメーション光源ユニット　ＡＬＴ−3310

ン光源ユニット　ＡＬＴ−３３１０』 のご案内です。 【特長】 ・非球面ガラス単レンズを使用したローコスト ・高性能の汎用 【仕様】 ・光出力 ：1mW ・波長光出力 ：655nm ・コリメート径 ：φ4 ・電源電圧 ：4.5〜13.5V ・外形寸法 ：φ12×50mm ※その他機能や詳細については、カタログダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： エーエルティー株式会社

光学グレード単結晶

側面粗さRaは、研磨済み、Ra＜5nm！光学グレード単結晶をご紹介しま…

【その他の仕様と公差】 ■平行度(μ/mm) : 1 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面粗さRa：研磨済み、Ra＜5nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

結晶欠陥検査装置『EnVision』

非破壊/非接触！nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ（15nm～サブミクロン）と密度（E6～E10/cm3）の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ方向の検出感度を大幅に向上させ、幅広い密度とアプリケーションを カバーすることで、表面近...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

様々な産業で利用されています。 弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS-1430：SiO2 29~31%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm HS-40：SiO2 39~41%/ pH 9~10.5 / 粒子径10~20 nm...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パイロテック・ジャパン

＜微細加工の受託サービス＞電子ビーム(EB)描画加工

フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ