コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度＆高速測定で…

特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示！ レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

メーカー・取り扱い企業： マール・ジャパン株式会社

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

(2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標準波長：930nm, オプション波長：530nm, 1550nm シングル波長、二波長共に対応可能。 (5) 広範囲の温度計測可能（Max 1800℃）...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。 【特徴】 　・低温(150～300℃)成膜 　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜 　・シンプルメンテナンス 　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

光学グレード単結晶

側面粗さRaは、研磨済み、Ra＜5nm！光学グレード単結晶をご紹介しま…

【その他の仕様と公差】 ■平行度(μ/mm) : 1 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面粗さRa：研磨済み、Ra＜5nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：< 0.2mm ■レーザーのカーフ：3 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

多結晶メカニカル

0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ！多結晶メカニカルのご紹…

をご用意しています。 【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：<0.2mm ■レーザーカーフ：3 ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ■厚さの許容：+/-0.05mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

電子グレードCVD

横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

【その他の仕様と公差】 ■端の特長：<0.2mm ■エッジの向き：<110>エッジ ■顔の向き：{100}面 ■レーザーカーフ：3 ■側面粗さRa：研磨済み、Ra<5nm({100}面 ■厚さの許容：+/-0.05mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

大量生産用連続式常圧CVD装置『A6300S』

SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…

【仕様(一部)】 ■サイズ：W1500mm×D2850mm×H2000mm ■成膜速度：最大350nm/min ■温度：450℃まで ■ウェハサイズ：6inch以下 ■スループット：毎時120枚 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

厚均一性：≦±2％(面内、面間) ■温度：300℃～450℃(オゾンプロセスでは150℃～350℃) ■対応ウェーハサイズ：8インチまで可能 ■スループット(参考値)：14枚/hour(500nm成膜時) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

放熱 単結晶 ラボグロウン ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

【その他の仕様と公差】 ■エッジの向き：<100>エッジ ■顔の向き：{100}面 ■レーザーカーフ：3°レーザーカット ■側面粗さRa：研磨、Ra＜30nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

単結晶ラボグロウンダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

【その他の仕様と公差】 ■エッジの向き：<100>エッジ ■顔の向き：{100}面 ■レーザーカーフ：3°レーザーカット ■側面粗さRa：研磨、Ra＜30nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

耐熱 単結晶 CVD ダイヤモンド

3.0x3.0mmから10.0x10.0mmまでのサイズをラインアップ…

【その他の仕様と公差】 ■エッジの向き：<100>エッジ ■顔の向き：{100}面 ■レーザーカーフ：3°レーザーカット ■側面粗さRa：研磨、Ra＜30nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステムはNｄ：YAGレーザ（266nm,120mJ，10Hｚ）を用います。 YAGレーザによるPLDは容易に集光が得やすいことが特徴です。 金属材料などもアブレートしやすいですが、逆にドロップレット発生が起きやすくもあります...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

単結晶メカニカル

横の許容範囲は+0.1/0-0mm！単結晶メカニカルをご紹介します

しております。 【仕様と公差】 ■横の許容範囲：+0.1/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：< 0.2mm ■レーザーカーフ：3 ■研磨粗さRa：研磨済み、Ra<50nm ■厚さの許容：+0.02/0mm ■クリスタルフェイスの向き：{110} ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN