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レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric
PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度&高速測定で…
特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示! レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...
メーカー・取り扱い企業: マール・ジャパン株式会社
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PR高速回転域(MAX 40,000rpm)でのラジアル荷重、アキシアル荷…
当社で行っている「EVベアリング高速回転受託試験」について ご紹介いたします。 試験槽に軸受けを装着し、軸受外輪にラジアル・アキシアル荷重を加えて 軸受内輪を回転駆動。高速回転に適した高精度微小トルク計を装備し、 試験時に発生するフリクション・トルクを高精度に計測します。 回転数、荷重負荷、試験時間等を含め試験条件をお打合せの上で決定し、 当社にて試験実施いたします。 【...
メーカー・取り扱い企業: オートマックス株式会社 本社・工場
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産業用 266nm パルスレーザー 0.5W-3Wモデル
産業用 微細加工用レーザー (Advanced Optowave Corp.社製)は、電子部品や半導体製造用途向けに多くの生産現場で使用されています。多くは24/7で運用されており、高い信頼性能を評価されています。 付属のGUIソフトによるPC制御で各種パラメータ設定、モニタリングが出来ます。 高品質・高信頼性能の4倍波結晶を採用しています。 GUI上から結晶のスポットを変更できます。 ...
メーカー・取り扱い企業: サンインスツルメント株式会社 本社
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高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』
【基本性能】 ■最小図形寸法: 500nm ■描画速度: 580mm2/分(FXモード時)、325mm2/分(QXモード) ■ラインエッジラフネス:20nm(QXモード) ■CD均一性:30nm(QXモード) ■オーバーレイ: 30...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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レーザーを光源とした最新の装置により描画されているフォトマスクです。
【仕様】 [基材の種類] ○ガラス基板 →合成石英(Qz):透過率 90% / 200nm 以上 →ソーダライム(SL):透過率 83% / 380nm 以上 ○フィルム基板 →PET:透過率 90% / 200nm 以上 [クロム膜] ○ガラス基板上のクロム薄膜は2層構造 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エクア
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SMIF POD(マルチ/シングルタイプ)「SEMI規格準拠」
徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取…
保護するために使用されます。 【特徴】 ■剛性、耐久性が強化 ・金属製の為、従来の樹脂製に比べて、剛性、耐久性が強化されています。 ■低発塵、洗浄しやすいライナーレス設計 ・365nm, 248nm, 及び193nmのレチクル使用可能(プラスティックにリン酸添加物の含有無し) ■大手露光装置メーカーにより認可済 ■超音波洗浄及び純水洗浄装置に適合 ■温風ノズル、放射式真...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
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先進のプリント基板用リペア装置もご用意!最小修正線幅5umの乾燥・焼成…
ーザーリペア装置」も 取り扱っています。 【特長】 ■前工程の検査装置の座標位置のデータを受信 ■欠陥座標位置に近い所に移動している ■レーザーシステム:Nd YAGレーザー(1064nm、532nm、266nm 選択よる) ■X/Y/Z 3軸独立モーターシステム駆動 ■最小修正線幅5um ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...
メーカー・取り扱い企業: A-Tech System Co., Ltd.
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エマルジョンガラス、クロムマスクの加工
スク/エマルジョンマスク ■材質:石英、青板/青板/青板 ■熱膨張係数[/℃(常温~200℃):5×10⁻⁷、8.1×10⁻⁶/8.1×10⁻⁶/8.1×10⁻⁶ ■透過率:90%以上(200nm)、80%以上(365nm)/80%以上/80%以上 ■平面性:10μm/オーバーオール/250mR以上(曲率半径)/250mR以上(曲率半径) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラットコーポレーション 本社:営業部・業務部
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プロダクション向け高性能マスクレスアライナー
最大露光面積:300 mm x 300 mm 最小フィーチャサイズ:1.5μm 最小ラインアンドスペース:2 µm 最大書き込み速度:5000 mm2 / min(@405 nm、1モジュール時) リアルタイムオートフォーカス 前面と背面の位置合わせ フルオートローダー 複数モジュール搭載可...
メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
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多くのお客様からのご要望にお応えして2300枚に及ぶ数量を手がけてきま…
ES:100Å ○HT layer depends on its transparent rate or HT type:1140Å →Phase Shift layer(CrOx) λ=365nm T=5% ○QZ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: CST株式会社
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