偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ（WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品　WP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプティカルソリューションズ

連続離型性乾性離型剤フロロサーフ　微細成型用　ナノインプリント　

PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい　→　そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロロテクノロジー

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

EBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

スーパーミラー 超鏡面仕上げ

最大粗さ30nm（0.03μm）以下に仕上げることが可能！当社の表面処…

硬化クローム工業では、鏡面専用工場を有し長年の経験から導き出された 好適な研磨方法でお客様のロールを仕上げます。 最大粗さ30nm（0.03μm）以下に仕上げることが可能。 ロール精度は、円筒度・真円度・フレそれぞれ3μm以下となります。 ご用命の際は、当社までお気軽にご相談ください。 【特長】 ■研磨可能皮膜...

メーカー・取り扱い企業： 硬化クローム工業株式会社 本社

UV-LED照射システム

ワークへの熱ダメージも軽減し、ランニングコストが低減できるLED式UV…

ができ、瞬時点灯可能です。また、外部制御も対応しています。 ◆ ワークへの熱ダメージを軽減　LEDのスペクトルは赤外波長を含まない為、ワークに表面熱照射による熱ダメージを与えません。 ◆ 365nm、385nm、405nmの各波長使用することができます。その他の波長も相談に応じて対応致します。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャテック

R＆D用スキャン式エキシマ照射装置レンタル

100V電源ユーティリティだけでエキシマ洗浄表面改質の実験検証が可能で…

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。 【特徴】 スキャン用ステージ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

耐摩耗コーティング『IRIS-CA1』

滑り性・低攻撃性・耐凝着性！コルソン材抜きプレス加工向け耐摩耗コーティ…

is：550℃ ■膜厚 　・CA1：1.0μm 　・DLC-Iris：～1.0μm ■処理温度 　・CA1：450℃ 　・DLC-Iris：150℃ ■面粗さ(Ra) 　・CA1：6nm 　・DLC-Iris：4nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ツール・テック東北

表面改質器

タッチパネル・グラス・LCD用の表面を洗浄します。サイズのカスタマイズ…

HEPAフィルタを採用している為、効果的に部品の表面温度を下げることが可能がです。さらに、日本製の低圧水銀ランプの有効波長254nmも採用しています。 詳しくはお気軽にお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ASIA NEO TECH INDUSTRIAL CO.,LTD.(アジア ネオ科嶠工業(股)有限公司)

【受託加工】フッ素コーティング技術『UTFコート標準タイプ』

6～7nmの超薄膜を実現。60℃以下の低温処理で様々な基材に応用可能。…

『UTFコート標準タイプ』はプラズマ処理を利用したフッ素コーティング技術です。 プラズマによる分子結合で、母材と塗膜の密着力を高め、剥離を防止。 6～7nmの超薄膜のため寸法精度を気にせず処理でき、 非粘着性や撥水・撥油効果が長期にわたり持続します。 60℃以下の低温で処理するため、金属はもちろんガラス、陶器、布、 各種エンプラなど様々な基材...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社成商

フォトニッククリーナー　ASM401iMP

小型立体物の表面がクリーンに！ 誰が使ってもエラーのない簡単操作！安…

製品の高精細化に適合した、ＵＶエネルギーによる精密でクリーンな乾式洗浄法です。低圧水銀ランプより発する短波長の光エネルギー184.9nm、253.7nmはポテンシャルが高く、高精細基板製造過程で生じた有機汚染物質の結合を分解する強いエネルギーを持っています。 同時に立体物の表面上で紫外線ランプとエアーから生じたオゾンにより酸化反応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社あすみ技研

卓上型表面処理装置

自分で照度調整ができる汎用タイプの表面処理装置

【シャッタータイプの仕様】 ［光源］ ■寸法：300×290×310Hmm ■重量：13.4kg ■使用ランプ：SUV110GS-36L×1本 ■照度：15mW/cm2 （波長254nm at30mmで測定した場合） ■照射エリア：160×160 mm ■照射距離：20～80mm ［電源］ ■型式：UE1101N-19 ■寸法：160×665×150Hmm ■重量：1...

メーカー・取り扱い企業： セン特殊光源株式会社

精密面精度ディップコーター(MD-1405-S1)

精密な平行度(面精度)が必要なディップコートに最適です。

【主仕様】 1.ストローク 300mm 2.最小速度 1μm/sec (1nm/sec) 3.最大速度 60mm/sec (2mm/sec) 4.操作方法 タッチパネル 5.画面文字 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

UV積算光量計

紫外線(UV)強度、積算光量の管理

・照度、ピーク照度、積算光量を測定可能 ・照度測定範囲：0～10,000mW/cm2 ・積算光量測定範囲：0～99,999J/cm2 ・幅広いUV波長域を測定可能(300～450nm範囲) ・測定波長領域ごとのセンサーヘッドの交換不要 ・波長ごとの強度補正が不要 ・RS232C通信で外部機器（パソコン等）と接続可能 ・アナログ出力（0～2V） ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アイテックシステム

レーザークリーナー『LICL-100』

レーザークリーナーの原点！高出力！コンパクト！

れ・焼け取り ■適合素材：金属全般・樹脂(条件有)・木材等 ■レーザー種類：ファイバー ■出力方法：パルス／CW ■冷却方式：空冷 ■偏光：ランダム ■出力：100w ■中心波長（nm）：1064 ■パルス幅（ns）：2-500...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社LICTH レーザー事業部

金属表面処理『InertMask』

酸性化合物や塩基性化合物などの金属吸着が懸念される分析計の配管部品等に…

ctionalized amorphous silica ■蒸着方法：化学蒸着法（CVD：Chemical vapor deposition） ■最高使用温度：300℃ ■膜厚：100～200nm ■接触角：100～110° ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジーエルサイエンス株式会社 分析機器事業

UV表面処理（UV洗浄・UV改質）装置 EUVシリーズ

圧倒的スペック（30mW/cm2 )の装置。研究・開発の時間短縮、従来…

UV表面処理（UV洗浄・UV改質）装置 の最高峰。大学・企業研究室への納品実績も多い標準機をベースに開発、性能と使いやすさを両立させました。 ステージ160x160　30mW/cm2（254nm)ランプ搭載。30ｃｍ角程度のスペースに設置可能。照射距離を簡単に調整できるジャッキ・テーブル付き。インターロック（オプション）付きもご用意しています。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社マリオネットワーク

エキシマUV照射装置

エキシマ光で効率よく表面洗浄、改質！

172nmの光で効率よく有機物洗浄及び表面改質が可能です。 特徴 準単色光：エネルギー交換効率が良く、ワークに対して熱のダメージを与えません。 瞬間点灯消灯：瞬時の点灯消灯ができ、必要時のみの点灯照...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クォークテクノロジー

20W／30W／50W ファイバレーザ(LPシリーズ)

平均出力20W／30W／50WのMOPA型のファイバーレーザ

■MOPA(Master Oscillator Power Amplifier)型ファイバレーザ ■1064nm、20W／30W／50W ■200nsパルス幅固定、低価格...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ハ最大50枚/バッチ 〇高アスペクト比サンプル（最大1：2500） 〇基板材料：Si、ガラス、化合物半導体各種 ＜処理温度と容量＞ 〇～300℃ 〇最大1000ウエハ／24時間@膜厚15 nm Al2O3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

高硬度・極薄膜のDLC-Ｉｒｉｓ（アイリスコーティング）

精密超硬プレスパーツ・非鉄系切削工具・モールドパーツ・各種機械部品の表…

打ち抜きで、２倍程度のショット数を加工可能 ○再研磨量も０．０５ｍｍ程度で磨耗部分が取れるのでパンチは長寿命化が可能 ○密着力も非常に強く、硬度は６０００～７０００Ｈｖあるため側面のコーティングが剥がれにくく、再コーティングしなくても繰り返し使用可能 【仕様】 硬度Hv：6000～7000Hv 耐熱温度：600℃ 膜　厚：0.1～0.8μm 処理温度：150℃ 面粗さ(Ra)：4nm

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ツール・テック東北

20W～200W ファイバレーザ(M7シリーズ)

平均出力20W～200WのMOPA型のファイバーレーザ

■MOPA(Master Oscillator Power Amplifier)型ファイバレーザ ■1064nm、20W／30W／60W／80W／100W／120W／150W／200W ■2ns～500ns パルス幅、CW動作も可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプトロンサイエンス