蓄熱燃焼式脱臭装置『Deopo（デオポ）』

PR装置全体をコンパクト化し組立た状態で運搬する為設置工事を簡略化 ！生…

『Deopo（デオポ）』は、従来の蓄熱燃焼式脱臭装置「RTO」の3塔式と回転式の 優れている要素を併せ持ち、ワンユニットにパッケージ化した装置です。 VOCの処理効率は98%以上、温度効率は95%以上の性能を持ち、従来品に比べ、 パージ部分の体積を最小にすることによりコンパクト化することが出来ました。 また、工場で組立した状態で運搬可能なサイズなので、標準装置の場合は 現地の荷降...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマルプラント

コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

爆轟ナノダイヤモンドパウダー

爆轟ナノダイヤモンドパウダー

合成ナノダイヤモンドです。炭素が瞬間的にダイヤモンド結晶に成長したものです。ナノダイヤモンドは、従来のグラファイト静圧転換法による単結晶ダイヤモンドとは違い、角がなく、球形です、一次粒径は約4 ～7nmになります。主に超精密ポリッシング、メッキ、及びヒートシンクなどの添加剤用途に使用されています。...

メーカー・取り扱い企業： 北京国瑞升科技股份有限公司

酸化膜工程向けCMPスラリー『ILD(TM)シリーズ』

酸化膜工程用ヒュームドシリカスラリー

【ラインアップ】 ■ILD3013 　・主成分：ヒュームドシリカ 　・ケミカル：アンモニア 　・砥粒濃度(wt%)：13.7 　・pH：10.5 　・砥粒サイズ(nm)：85 ■ILD3225 　・主成分：ヒュームドシリカ 　・ケミカル：KOH 　・砥粒濃度(wt%)：25.7 　・pH：11.0 　・砥粒サイズ(nm)：85 ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： アンカーテクノ株式会社

焼結ダイヤモンドの研削 加工事例

PCDの高速高圧研磨を実現！高速高圧研削加工

どの基板は 硬く脆い性質を持った研磨加工の難しい素材です。 その中でも、特に加工の困難な焼結ダイヤモンドの 研磨を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜3nm ■加工時間4時間（従来の方法での加工時間10時間） ■高速高圧研磨装置『EJW-400HSP』と 　固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 　6時間の加工時間の短縮を実現 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

コンポジット特殊パッド『IRINO』：今ある研磨機を高性能化

SiCやサファイアなどに高い研磨レートと優れた面仕上がりを実現！

間削減の効果が期待できます。 パッドの裏面には定盤貼付け用粘着テープがついており、研磨機定盤への貼付けも容易にできます。 【特徴】 ■金属定盤と研磨パッドの特性を両立した製品 ■Ra 1nmレベルの面仕上がりと錫など柔らかめの金属定盤に匹敵する研磨レートを両立 ■エッジの面ダレを起こさないフラットな仕上がり ■フラットな定盤の片面/両面研磨機にて使用可能(ドレス必須) ■ピュアオ...

メーカー・取り扱い企業： ピュアオンジャパン株式会社

精密研磨パッドの両面テープ

研磨定盤に両面テープで貼り付けて使用！精密研磨パッドの両面テープはどん…

ドの両面テープはどんなものが良いのか？ 精密研磨パッドは、研磨定盤に両面テープで貼り付けて使用します。 この貼り付け方も奇麗に貼り付けないと段差が出来たり、異物が 混入したり…。 μm、nmを仕上げる世界ですので、貼り付けはとても重要です。 その貼り付ける為に必要なのが、両面テープです。 いくらキレイに貼り付けが出来たとしても、両面テープに問題があると 研磨中にパッドが剥がれ...

メーカー・取り扱い企業： 八千代マイクロサイエンス株式会社

単結晶ダイヤモンドパウダー

単結晶ダイヤモンドパウダー

、メッシュサイズダイヤモンド、及びダイヤモンドコート品など各種の粒径製品を取り扱っています。 またお客様の用途やご要望に合った最適な製品をご提案することが可能です。 ＊ミクロンサイズが100nm～50μmまで、メッシュサイズが#30/40 ～＃400/500まで取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サミットスーパーアブレーシブ

CMPスラリー

CMPスラリー

特徴 ◆粒子径の均一性（シャープな粒子径分布、真球状の粒子）。 ◆高能率（独自な配合、pHが変動しない）。 ◆高平坦度（表面品質：Ra＜0.2nm、TTV＜3μ）。 ◆循環使用回数が多い。 ◆低温ポリッシュ加工可能（35℃以下）。 ◆SICウェハー加工用に特殊配合したスラリーをご提案。 ◆窒化アルミニウム加工用に中性・弱酸性のスラリー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サミットスーパーアブレーシブ

爆轟ナノダイヤモンドパウダー・ククラスターダイヤモンドパウダー

爆轟ナノダイヤモンドパウダー ククラスターダイヤモンドパウダー

工合成ナノダイヤモンドです。炭素が瞬間的にダイヤモンド結晶に成長したものです。ナノダイヤモンドは、従来のグラファイト静圧転換法による単結晶ダイヤモンドとは違い、角がなく、球形です、一次粒径は約4～7nmになります。主に超精密ポリッシング、メッキ、及びヒートシンクなどの添加剤用途に使用されています。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サミットスーパーアブレーシブ

SiCの研削 加工事例

SiCの両面研削を実現！両面研削加工

ワーデバイスにおいて、コスト削減は 重要な課題です。 その中でも、従来の加工プロセスと異る方法でコスト 削減を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜0.5nm (後工程CMP) ■TTV＜2μm/Warp＜10μm ■高速圧研磨装置『EJD-6BY』と 　固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 　SiCの両面研削加工を実現 ※詳し...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社