• 長寿命水殺菌ランプ 製品画像

    長寿命水殺菌ランプ

    PR電源のON/OFFに強い水殺菌ランプ。15,000hの長寿命。

    冷陰極の長寿命水殺菌ランプ。 冷陰極ランプは点滅に強く、電源のON/OFFによる寿命の減少がほとんどありません。 CCFLランプのコンパクトな特徴を活かし、石英ガラス管内にランプとインバータを内蔵。1つのアダプターに対し省スペースで複数のランプを連結し点灯することが可能です。 波長:254nm 寿命:15,000h 詳しくはお問い合わせください。...冷陰極蛍光ランプ(CCFL)...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社納屋商事

  • 連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント  製品画像

    連続離型性乾性離型剤フロロサーフ 微細成型用 ナノインプリント 

    PR連続離型性が高く、ナノレベルの表面形状やナノインプリントにも対応「フロ…

    焼き付けフッ素樹脂加工・シリコン離型剤を超える高性能フッ素系金型離型剤『フロロサーフ』をご紹介。 従来の離型剤では抜けない、連続離型性を向上させたい → そんな時に活躍します。 『フロロサーフ』はナノメータレベルの離型成分が母型表面に結合密着し、強力な非粘着性・潤滑性を金型表面に付与します。 精密複雑な形状の成形や粘着性の高い樹脂やエラストマー、割れやすい薄物の成形において、抜群の連...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フロロテクノロジー

  • ICPメタルエッチング装置 製品画像

    ICPメタルエッチング装置

    Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応!デモ機常設!…

    半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対応いたします。 独自のチャンバ内構造により抵パーティクルのメタルエッチング (nmレベル)を実現しており、高い歩留りと稼働率が特長です。 【特長】 ■nmレベルのメタル膜の精密エッチング ■独自機構による抵パーティクルプロセス ■メタル膜、化合物半導体基板など幅広い用...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 大気圧プラズマ処理機『Aldyne』 ※技術資料を進呈中 製品画像

    大気圧プラズマ処理機『Aldyne』 ※技術資料を進呈中

    0.3~0.4nm厚の分子単層コーティング。洗浄・乾燥工程不要でコスト…

    『Aldyne』は、基材の塗工剤との接着性を高める大気圧プラズマ処理。 厚み0.3~0.4nmの分子単層の機能コーティングを実現します。 水性、溶剤性、UV(紫外線)乾燥型のインクやラッカー、 接着剤に対し優れた接着性を発揮。 液体・固体のプライマーを使用しないため、残留物の洗...

    メーカー・取り扱い企業: ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH 日本支社

  • 研究開発に最適!卓上型の真空・大気圧・粉体プラズマ装置 製品画像

    研究開発に最適!卓上型の真空・大気圧・粉体プラズマ装置

    【表面改質】濡れ性向上、接着強化、ナノ洗浄!最先端プラズマ処理で新技術…

     ・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄   ・繊維の濡れ性向上 ・細胞培養の前処理  など・・・  【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど  μ~nm粒径まで親水性を向上致します!...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈 製品画像

    今さら聞けない大気圧プラズマ装置の選び方 ※解説資料進呈

    "大気圧プラズマ装置の処理形態"や"当社独自の装置特長"などについて解…

    【当社独自の装置特長(ダウンストリーム型)】 ■幅広、長尺物への均一処理(100ミリ~3000ミリ) ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし) ■4nmのL&Sでも絶縁破壊等の発生が無い ■ワーク内部の分子間架橋特性変化や分子切断の影響やダメージ発生がない ■Particle発生が無い(0.3μ以上及び2.83SLMのサンプリング時) ■窒素消費が...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • 大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質 製品画像

    大気圧プラズマ装置を用いた粒子への効率的表面改質

    大気圧プラズマ装置による効率的な表面処理を実現!バグフィルターにて捕獲…

    加速制御及びスパッタ効果の抑制効果から、Particle発生が無い ■誘電体電極寿命が半永久的に使用でき、ランニングコスト低減 ■半導体チップ上の処理も可能(処理後のトランジスタ特性変化なし<4nm以上のL/S>) ■プラズマ発生エリアとワーク間距離を最小限にする構造(特許)により、高性能化が実現 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア

  • プラズマCVD装置『PEGASUS』 製品画像

    プラズマCVD装置『PEGASUS』

    低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性!

    0mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース:ICP、RFバイアス ■ガス種:SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ:~φ12インチ(FOUP対応) ■成膜速度:~300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社セルバック

  • 大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け 製品画像

    大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

    高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続!高機能性基材の開発が可能に!

    【技術的特徴】 ■基材表面10nmレベルの分子構造変化による、直接接着性の改善 ■特許出入口シールゾーンによる、ガス封止構造が効率的なプラズマ放電による高速度処理が可能 ■清掃、パラメータ設定及びメンテナンスが容易な、空圧作動の...

    メーカー・取り扱い企業: ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH 日本支社

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