コネクタ形状を間違えた！→【光アダプタ/変換プラグ】で解決します

PR「短くて繋げない」「コネクタ形状が違う」ケーブルの緊急トラブルを解決し…

様々な場面で必要になる「ケーブル」について、こんなトラブルはありませんか？ 「ケーブルが明日必要なのに、ケーブルが短い！」 「コネクタの形が違うため接続が出来ない！調達する時間もない！」 ★データコントロルズの光アクセサリで、こんな緊急トラブルを解決します★ 中継アダプタ、変換プラグ、光パッチパネルなど常時在庫多数なため 15時までのご注文で最短翌日に納品可能です！ 【トラブル解決事例】 ケ...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

長寿命水殺菌ランプ

PR電源のON/OFFに強い水殺菌ランプ。15,000hの長寿命。

冷陰極の長寿命水殺菌ランプ。 冷陰極ランプは点滅に強く、電源のON/OFFによる寿命の減少がほとんどありません。 CCFLランプのコンパクトな特徴を活かし、石英ガラス管内にランプとインバータを内蔵。１つのアダプターに対し省スペースで複数のランプを連結し点灯することが可能です。 波長：254nm 寿命：15,000h 詳しくはお問い合わせください。...冷陰極蛍光ランプ(CCFL)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社納屋商事

780nmフェムト秒ファイバレーザ 『FF ultra 780』

2光子リソグラフィおよび半導体検査のためのフェムト秒ファイバーレーザー

・市場で最速の2光子リソグラフィを実現 ・超小型コールドレーザーヘッド ・完全なソフトウェア制御可能 ・AOM内蔵（オプション対応）...ナノリソグラフィや半導体の微量分析では、解像度と安定性が卓越した結果を生み出す鍵になります。 トプティカ社の産業グレード、コンパクト、ターンキー操作、および堅牢なファイバーレーザー技術は、最高の本質的安定性を提供し、光源を装置に深く統合することを可能にし...

メーカー・取り扱い企業： トプティカフォトニクス株式会社 営業部

250W水銀光源　REX-250

248nmまでのDUV光を利用でき、波長選択･切り換えが可能なUV照射…

•248・313・334・365・405・436nmを高出力 •安価に248nmの光が利用可能 •光反応だけの熱が出ない光学系 •超高圧250W水銀ランプを搭載 •フィルターで波長選択 •フィルターの切り換えが可能 •100～5の連続可変...

メーカー・取り扱い企業： 朝日分光株式会社

超コンパクト半導体励起UVレーザー

266nm CW（連続波）レーザー 10mW - 550mW @ 2…

の粋を集めて開発され、コンパクト・軽量・空冷式で安価なCWレーザーです。 ■測定用に使い易いレーザー 超コンパクト半導体励起UVレーザー“FQCW 266シリーズ”の発振波長は紫外域の266nmで、殊に測定装置用の光源として使用しやすいCW（連続）光です。 ■高ビーム品質・高い信頼性 単一縦モードで、TEM00のシングル横モード、M2値も1.3未満の高品質レーザー光を発振。ローノイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本レーザー

ED SCOPE Til　イーディー スコープ タイル

見えない、見にくいナノサイズの欠陥を鮮明に浮き上がらせ可視化する新感覚…

料（内部・表面・裏面）、反射試料（表面） ◇ 視野範囲：34×28mm～100×84mm ◇ 被写界深度：透過試料（約３００ｍｍ） ◇ 反射試料：（約１ｍｍ） ◇ 分解能：（X・Y）150 nm～ ◇ 分解能：（Z）5 nm～ ◇ 検査項目：表面検査・内部検査 ◇ 導入：現場検査・品質・開発、計測器との併用 ◇ 環境： ノーマル ◇ メンテナンス：フリー ◇ 消耗品：ナシ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ピストンリング株式会社

最大2100万画素 SWIRカメラ

高画素(5M・12M・21M)SWIR帯域の撮影や各種検査用途に応用可…

画素数：1296×1032 レンズマウント：Cマウント 外形寸法：65×65×95mm その他特徴：外部トリガ、ROI、欠陥画素補正、シェーディング補正、ゲイン、ガンマ設定、検出波長帯：400nm～1700nm、PoCXP非対応 【SWIRカメラ 通常品】 製品名：VCC-SXCXP1SW 外形寸法：65×65×65mm その他特徴：PoCXP対応、その他機能は概ね画素ずらし版と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シーアイエス

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-708」

波長365nmのUV-LEDを使用、常温照射、低ランニングコストです！

『UVC-708』は、波長365nmのUV-LEDを使用した、コンパクトな LED光源UVフィルム硬化装置です。 UV-LEDの特長である常温照射、低ランニングコストはそのままに、 8インチウェハに対して全面照射を可能としま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

光学式細孔率・細孔分布測定装置

世界唯一の分光エリプソメーター技術でのEP(光学式ポロシメーター）細孔…

【アプリケーション】 ・Low-k膜の細孔率測定 ・色素増感太陽電池のTiO2細孔率測定 ・細孔サイズ（0.5~65nm)、厚さ（50nm～５um)のサンプル 【特徴】 ・膜厚、屈折率、表面積、浸透率、ヤング率、CTE計測も測定可能 ・従来の方式に比べ、短時間での測定が可能（２０分/point) 【仕...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

膜厚測定装置『LF-1000』

ウェハ・ガラス基板+鏡面基板上の膜厚測定も可能な膜厚測定装置

【基本測定】 ■測定波長範囲 400nm～1000(1700)nm(波長範囲は仕様による) ■測定膜厚範囲 150Å ～50(250)μm(測定膜厚は仕様による) ■光学定数測定範囲 1000Å ～5(10)μm(測定範囲は仕様による...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラポールシステム

結晶欠陥検査装置『EnVision』

非破壊/非接触！nmスケールのウェハー内部の拡張欠陥の検出とモニタリン…

『En-Vison』は、転位欠陥、酸素析出物、積層欠陥などのウェハー内部の 結晶欠陥を非接触・非破壊で測定・評価ができる結晶欠陥検査装置です。 欠陥サイズ（15nm～サブミクロン）と密度（E6～E10/cm3）の両方で ハイダイナミックレンジを提供。 ウェハー深さ方向の検出感度を大幅に向上させ、幅広い密度とアプリケーションを カバーすることで、表面近...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

近赤外無限遠f=200mm結像顕微鏡

InGaAs(SWIR) カメラ対応顕微鏡

InGaAs(SWIR)カメラに対応。 900-1700nmで高透過率のf=200mm結像鏡筒。 1.1インチセンサー対応 Cマウント 同軸ケーラー照明 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

MWC6000

MWC6000

これにより装置の設置場所の制約がなくなり、より自由度のあるレイアウトが可能です。またこの機能により動作速度も速くなり各位置への移動時間が150msと従来比1／2になりました。また位置決め精度も400nmで 高精度化と高速化を両立しています。この装置のアプリケーションはWaferレベルの高精度部品実装とWaferレベルで光学部品を製造したり、検査・切断用のステージやMEMS等のWafer上への高精度...

メーカー・取り扱い企業： AJI株式会社

光学顕微鏡向け マイクロマニピュレータ

既存の光学顕微鏡やマイクロスコープに後付け可能（パッチクランプ法、ナノ…

MM3A-LMP、MM3A-LSは、光学顕微鏡やマイクロスコープのステージ周りに取付けされます。微動モード（nm動作分解能）と粗動モード（長距離移動用）を併せ持ち、ナノスケールの超微細動作を広い領域で行えます。 ● 操作系にジョイスティック（PS2）を採用することで、誰にでも直感的な操作が出来ます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

半導体製造装置・検査装置に好適なアライメントステージ

0.1μmの追従性を実現する『RSTアライナー』と薄型・小型の省スペー…

【RSTアライナー】 ■最大の特徴である駆動ユニットのバランスの取れた正三角形配置がアライメントに必須の超高精度な微少駆動を可能に ■リニアスケール等のフィードバックを掛けずに0.1μm±20nmの高い追従性を実現 ■ベアリングを使用していない為、大口径の透過穴が実現可能 ■ウエハサイズやワークサイズに合わせ、テーブルサイズも自在 ■貼り合わせ用途などで必要とされるZ機構追加可能 ■...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

抵抗率／シート抵抗測定器【WS-3000】

抵抗率／シート抵抗測定器【WS-3000】

類のプローブヘッドを装着可能なロータリー機能のため、測定サンプル毎のプローブ交換作業が不要 ◆デュアルモードにより、エッジ１mmまで高精度に測定 ◆高速測定による優れたコストメリット ◆薄膜３nmの測定実績 ◆FOUP標準装備（オプション：SMIF/AM3000）、GEM/SECS対応 （※）その他詳細についてはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ナプソン株式会社

フォトマスク用CD-SEM『Zシリーズ』

ナノパターンの高速・高精度計測が可能なフォトマスク用CD-SEM

『Zシリーズ』は、フォトマスク市場で長年培った独自の高分解能技術、 チャージ対策技術をさらに進化させてsub-10 nm先端デバイス用 マスク向けに開発したフォトマスク用CD-SEMです。 EUVマスク、NIL用Qzモールド、PETフィルムモールド、DSAフィルムなど 様々なサンプルに対応しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ホロン

ED SCOPE　イーディー スコープ

見えない、見にくいナノサイズの欠陥を鮮明に浮き上がらせ可視化する新感覚…

（内部・表面・裏面）、反射試料（表面） ◇ 視野範囲：34×28mm～136×115mm ◇ 被写界深度：透過試料（約３００ｍｍ） ◇ 反射試料：（約１ｍｍ） ◇ 分解能：（X・Y）150 nm～ ◇ 分解能：（Z）5 nm～ ◇ 検査項目：表面検査・内部検査 ◇ 導入：現場検査・品質・開発、計測器との併用 ◇ 環境： ノーマル ◇ メンテナンス：フリー ◇ 消耗品：ナシ ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ピストンリング株式会社