水銀吸着剤

PRガス状水銀を高効率で吸着・除去！吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…

当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%～98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄（SO2）ガス存在下でも、数年...

メーカー・取り扱い企業： 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社

「2024国際ウエルディングショー」出展のお知らせ

PRダブルワイヤーで最大ウィービング幅8mmを実現した手持ち式溶接機を体験…

当社は、4月24日(水)からインテックス大阪で開催される 「2024国際ウエルディングショー」に出展します。 電源と溶接ガスの供給だけですぐにお使いいただける、軽量・小型の ハンディファイバーレーザ溶接機などを展示しますので、ぜひお越しください。 【主な展示物】 ■ダブルワイヤーフィーダー対応型ハンディファイバレーザ溶接機「HW-2000」 　◎最大8mmのウェービング幅を実現...

メーカー・取り扱い企業： レーザ技術サービス株式会社

ガス導入型真空プラズマ装置

空気・酸素・窒素・アルゴンなど様々なガスを導入できる卓上型の真空プラズ…

樹脂・金属・ガラス・繊維など様々な材質への接着・密着強化や親水性の向上・有機物の除去などプラズマの持つ高い反応性を利用し、これらの悩みを解決！ 本機種は酸素や窒素・アルゴン・ヘリウムなど様々なガスを導入する事できます。またフロントパネルでパワー調整・ガス流量系・圧力計が設置されており様々な条件で照射が可能です♪...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

大気圧プラズマ装置

2種類の照射方式の採用により、様々なプロセスに対応可能！各種テスト機も…

『大気圧プラズマ装置』は、真空容器や反応用ガスを充満させる等の特殊な 環境を必要としない、常圧大気中で発生させることができる装置です。 「ダイレクト方式」と「ジェット方式」の2種類の照射方式を採用しており、 様々なプロセスに対応可能。...

メーカー・取り扱い企業： 日邦産業株式会社

ダメージレスで接着性＆濡れ性向上！大気圧広幅低温プラズマ処理機

デモ機有り！　初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温…

前処理、有機物の除去や洗浄などのクリーニングとしても有効です。 金属、ガラス、樹脂の表面活性なら是非お試しください。 弊社にて濡れ性の確認テストがすぐに行えます。 N2,O2,H2といった各種ガスは常備しており、 サンプルをご持参いただければすぐに処理いたします。 小型電極は既存のラインへ設置が容易です。 ポテンシャルフリーなため対象物をダメージレスで処理が出来、 繊細な表面を持つプ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

核融合発電装置(プラズマ加熱装置)の概要

絶縁体膜によって覆われた円筒形の密閉型容器！重水素ガスではなく軽水素ガ…

究者を募集しています。 内面をフッ素樹脂などの絶縁体膜によって覆われた円筒形の密閉型容器を、 高圧電源の印加によってマイナスに帯電させ、その中央部には陽極を配置。 実際の実験では重水素ガスではなく軽水素ガスを使用します。 核融合反応が起こらないため中性子被ばくなどの危険はありません。 【概要】 ■密閉型容器は径5cm長さ4cmの円筒形を予定 ■実際の実験では重水素ガスでは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社センリョウ

大気圧プラズマ能力確認ツール　ToughPlasma　FSI

色の変化でプラズマ能力を容易に可視化できるシールです

。 　それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性 　ICチップ等が搭載された基板であっても電気的なダメージを与えません。 ◆低温処理 　照射ガス温度が低く、低融点の樹脂材料へも安心してご使用いただけます。 ◆ロボットケーブル 　電力線にロボットケーブルを採用しており、生産の自動化に貢献します。 ◆様々な自己監視機能 　放電状態やガス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部

大気圧プラズマ装置

大気圧プラズマ装置です。 接着、洗浄などに最適です。

電極ユニットを取り付けることで プラズマ処理を可能にする、大気圧プラズマ装置 【特徴】 ○ラミネーターの上流側に装着し 　窒素と空気の混合ガスの大気圧プラズマ処理を行う ○ガスが窒素のため安価 ○真空ユニットなど高価な装置は不要 ○太陽電池及び液晶の基板（ガラス）の洗浄や 　表面改質およびフィルム吸着力のUPなどに最適 ○仕様...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・シー・ケー 東京 電子事業本部

大気圧プラズマ生成用電源

パルス放電での大気圧プラズマ生成に

・パルス電源を用いた大気圧アーク放電です。そのためマッチング等の調整が不要です。 ・パルス電源なので、室温からの処理も可能です。投入電力を増やすことで最大400℃程度の領域まで可能です。 ・ガス種に依存せず、ガス化できるものであればほとんどの物質をプラズマ化出来ます。 ・１台の電源で多チャンネル出力が可能なので、低コストで大量処理が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

プラズマ技術を用いた小型設備

プラズマ技術を含むシステム・設備にも対応致します。

設備にも対応致します。 【仕様例(装置構成)】 ◇タッチパネル制御　　 フィルムの巻き取り速度調整　　 テンションコントロール　　 プラズマPOWER調整　　 ガス流量調整など ◇R to Rによるフィルムの連続処理　　 大気圧プラズマによる一次処理　　 プラズマ照射位置の調整可 ◇スプレーコーターによる二次処理　　 塗布量調整可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

大気圧プラズマ処理機『ALDYNE』※フィルム加工・印刷業界向け

高いエネルギーレベルが安定的に長期間持続！高機能性基材の開発が可能に！

『ALDYNE』は、基材と塗工剤との接着性を高める装置です。 窒素ガスをベースとする混合ガス雰囲気中で、プラズマ放電を発生させ、 添加されたガスの分子を、基材表面に結合させアミド、イミド及びアミノ基を 生成します。 これらの官能基が高極性であり、また塗工剤と...

メーカー・取り扱い企業： ソフタル・コロナ・アンド・プラズマGmbH　日本支社

ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』

触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け！統合されたガス分配システ…

ことで、 このワイヤーコンポーネントダウンタイムを短縮できます。 【特長】 ■無機（例えばSiH4）および有機（例えばCxHy、プラスチックモノマーの 　前駆体が使用可能 ■統合されたガス分配システム ■連続的なシート、キャリア、またはロール・ツー・ロールプロセス ■自由な運転姿勢：上向き（制限付き）、下向き（制限付き）、垂直 ■プロセス要求に応じたワイヤー間隔に調整可能 ...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

半導体式マイクロ波電源　5.8GHｚ帯

の可変が可能。 オプションとしてパルス巾変調・FM変調・AM変調・発振周波数の掃引・PLL式周波数発生器、出力電力のパターン運転やパソコンとのリンク、試験管、石英管、フッ素チューブ等を用いた減圧、ガス置換などができます。 主な仕様はマイクロ波出力:130W、電源入力：単相 AC100V 0.8KVA、外形寸法：W431×H310×D330、質量25kgなど ...

メーカー・取り扱い企業： 富士電波工機株式会社 第1機器部

大気圧マイクロホロープラズマ　ロボット搭載μ-AP大気圧プラズマ

第4の状態（プラズマ状態）を大気圧下で作り出す装置です。

作り出す装置です。電極構造をホロー形状にし、ホロー部で電子密度のプラズマが増加し、高密度のプラズマを生成します。電極間距離を最適設計することにより、大気圧下でのプラズマの生成が可能になりました。放電ガスのブローによりプラズマの噴出を形成しています。水中プラズマ生成への応用が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

ミニパワープラズマ源 OMI-0001

デモ照射受付中！

mm (250eV) ビーム形状　　　：ブロードガウシアン エミッション電流：最大400mA 使用真空度　　　：2.2E-2Pa~ 7.4E-1Pa程度　( TMP800L/s使用時） 使用ガス　　　　：アルゴン（窒素も可能、但しデータは変わります） ガス導入口　　　：VCR1/4”メスナット 放電電極材質　　：Mo（標準仕様） 接続ケーブル　　：５ｍ コントローラ仕様　O...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オメガトロン

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...・栗田製作所新開発のプラズマ発生方式により三次元形状物でも全方位に均一にDLC処理が可...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

【国産】卓上真空プラズマ装置 YHS-R

【溶剤不要】表面改質・洗浄に特化した卓上型真空プラズマ装置！ワンタッチ…

○メンテナンスが容易 【オプション対応致します】 設計から製造まで弊社の技術者により製品を作っております。 お客様からの様々な要望に専任の担当者が親身に対応させていただいております。 ◇ガス導入 ◇圧力調整 ◇RFタイプ ◇クリーンボックス ◇ステージサイズ ◇POWERコントロール　など・・・ その他お気軽にご相談下さい。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマクリーニング装置「POEM」（プラズマクリーナー）

　多機能型プラズマクリーニング装置。 サンプルテスト受付中 クリー…

半導体製造装置のチャンバをシンプル化・低コスト化しプラズマクリーニングに応用 プラズマモード切替機構（ＲＩＥ，ＤＰ）とマルチガス（Ａｒ、Ｎ２，Ｏ２，Ｈ２）プロセスにより従来にない表面処理を実現。 基板洗浄（酸化物・有機物除去・微細異物除去） 親水性処理（メッキ前処理、半田濡れ性向上） 撥水性処理（ウェット工程前処理） ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

簡易型大気圧プラズマ装置

低温・電荷ダメージなし！簡易型大気圧プラズマ装置 洗浄・表面改質・親水…

てはサンプル表面を40℃程度に。) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。 ■AC100Vのコンセントで動作しますので、様々の状況での使用が可能です。 ■スリット型トーチ(φ20mm)噴射幅対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

標準仕様 ステージ寸法：２５０ｍｍ□　エッチング方式：ＲＩＥ　ＣＦ系ガス標準 シンプルな機構でＲＩＥ／ＤＰモード切替可能 ステージ温度制御（水冷／加熱）選択可能　 ステージ寸法大型化（最大５００ｍｍ□）対応可能　...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ペン型大気圧プラズマ装置

表面改質・洗浄・親水処理・接着強化に優れた低温電荷ダメージ無し！ペン型…

程度に) ■コロナ放電のような電流集中したアーク状態ではありません。 →処理対象物へ電荷のダメージを与えません。 ■窒素のみをプラズマ化。※アルゴンは導入できます。 →ArやHeなどの高価なガスは必要としません。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

卓上大気圧バリア放電装置

低価格な小型装置！

、点検が容易 　- 電極（消耗品）を簡便に交換 ●均一性 　- ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 　- 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト 　- ガス供給なしで使用可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

大気圧プラズマ処理で接着不良からの脱却

品質と効率を同時に：大気圧プラズマ前処理が接着の未来を切り開く【202…

AETP大気圧プラズマ装置 必要となるもの：コンプレッサーエア（用途に応じて窒素などさまざまなガス使用可）、電源 装置構成：プラズマコントローラ、プラズマノズル サンプルテストは随時承っておりますので、お気軽にお声がけください。 また、レンタル装置もございますので、自社の装置と組み合わ...

メーカー・取り扱い企業： AETP Japan合同会社

【先端材料分野向け】多相プラズマ発生装置

ナノ材料の合成専用、10,000℃無害化処理、処理性能100%アップ

●装置本体　AC200V 三相 炉寸法 外径Φ355×750h 構造 冷却水二重ジャケット 材質 SUS 304 ガス アルゴン 冷却水 チラー水 ●電極 外観寸法 Φ40×540L 構造 冷却水二重ジャケット 駆動方式 ACサーボ位置決め 材質 ボディ SUS304 ...

メーカー・取り扱い企業： タマダ株式会社

大気圧プラズマ処理装置『NJZ-2820』

大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…

【仕様】 使用ガス（標準） 　種類：圧縮空気 　供給圧力：0.3～0.85MPa 　使用流量：10～20L/min 　供給口：φ4チューブ適合継手、またはRc1/4 プラズマ発生電源：2,450MHz / ...

メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社

ホローカソードソース『HCS』

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理…

『HCS』は、ホローカソードとアノードの組込みが特長の表面処理 コンポーネントです。 電子はカソードの深い溝壁の電位降下間に制限されています。これにより、 ガスのイオン化が促進され、プラズマ密度も増加。溝の中にプラズマを押し込むと、 電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。 シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単な...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

コンパクトでアタッシュケースに格納可能！大気圧プラズマ照射装置

Heガスボンベ/AC100V電源に接続するだけで簡単に実験可能！持ち運…

ハンディタイプ 大気圧プラズマ照射装置「HAPYシリーズ」は、コンパクトで全ての機器をアタッシュケース内へ格納可能です。 Heガスボンベ / AC100V電源に接続するだけで実験ができます。 ガスリモート放電方式で、電気的ダメージを抑えたことで安全に様々な材料へプラズマ処理が行えます。 【特徴】 ○コンパクト ○簡...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

フイルム表面処理用ロールダイレクトプラズマ装置『RD』

光学フイルム分野に好適！高い均一性とフィルムダメージレス（パーティクル…

ンアップがございます。 【特長】 ■グロー放電処理 ■高い処理性能 ■真空不要の常圧プロセス ■対応幅：～2500mm ■処理速度：～100m/min ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

大気圧プラズマ装置を用いたダイレクト接着接合時のラミ前ドライ処理

ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合（ダイレク…

可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。 また、接合界面材質に見合った結合分子を、添加ガスの変更やプラズマパラメータの最適化により、 界面に対し、選択的に機能性分子（共有結合分子等）付与できます。 困難なPFAやPTFE表面親水化に於いても、接触角を10度以下にすることも可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア

スポット型 大気圧プラズマ装置『AP-T』

ピンポイントでプラズマ照射が可能！LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…

で高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー（CDA）での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電源、制御、ガスユニットを一体化しており、どこでも設置可能な 簡単な用力→電源とCDAです。 【特長】 ■高いプロセス処理能力 ■低いランニングコスト ■コンパクト設計、軽い用力 ■局所的処理可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

大気圧リモートプラズマ装置『RT』

低温処理＆電界遮蔽構造でダメージレス！LCD工場を始め数多くの生産工程…

合わせ 前処理などの目的で使用されます。 【特長】 ■ダメージレス ■高い処理性能 ■豊富なラインアップ ■実績多数 ■対応幅：160～3400mm ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

粉体用大気圧プラズマ処理装置

改質Revolution！

・真空機構が不要、且つ完全ドライプロセスによる簡単な操作 ・粉体表面の均一な処理 ・ガスの選択により各種官能基の付加が可能 ・試料容器の回転揺動スピードは、個別に制御可能 ・pp(ポリプロピレン)粉末で1度に2リットルの処理が可能 ・冷却機構を搭載しており、低融点の粉体にも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェイ・サイエンス・ラボ 本社

大気圧プラズマ処理　フレームプラズマ『AFP』

バーナーのデザインの種類が豊富！使用環境に対応しやすい大気圧フレームプ…

『AFP』は、LNGやLPGと圧縮空気を使い、非常に高い燃焼効率で表面処理と 表面洗浄を行うことができるように設計されたフレームプラズマ装置です。 ガス流量とエア流量を直接調節して、ご希望のフレーム状態を創り出せます。 また、バーナーのデザインの種類が豊富で、LPG/LNG兼用として設計されて いるため、お客様の使用環境に対応しやすいつくり...

メーカー・取り扱い企業： AETP Japan合同会社

大気圧プラズマ装置『小型実験機タイプ』

小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質に！実験用途に特化した大気圧…

面改質などにご使用いただけます。 【特長】 ■小型装置 ■様々な処理に対応 ■実験用途に特化 ■対応サイズ：～A4（A4以上のサイズは別途ご相談下さい） ■Utility：電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 積水化学工業株式会社 P2事業推進部

リニアPECVDプラズマ源

物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

合でも、巧みに取り扱うことができます。 【特長】 ■連続移動する基板には容量結合ダイナミックPECVD ■連続供給シート、キャリア、またはロール・ツー・ロールプロセス ■側面に統合されたガス分布システム ■組込まれたプロセスガス排気システム ■自由な運転姿勢：上向き、下向き、垂直 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

大気圧プラズマ処理装置　Arc Jet式

アジア有力企業において多数の実績あり。

度の向上、密着性の向上） 　対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■処理幅の狭い面積に最適: 10/20/35mm　 ■ロボット機構との組み合わせにより立体物への処理が可能 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar,O2,等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

ホローカソード

宇宙用電気推進機に使用できる低価格・高性能なホローカソード

：　12～5V　又は　15～5Ｖ 消費推進剤：　0.07～0.25 mg/sec　又は　0.12～0.28 mg/sec 推進剤純度：　99.999％ 使用推進剤：　Xe、Kr、Xe+Kr混合ガス、Ne、Ar、He、N2、H2、I、O2 ヒータスタート電圧：　12V ヒータ動作時間：　＜240 sec スタート時の消費電力：　36W　又は　58Ｗ 点火回数：　＞1,800回 サイク...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社先端技術研究所 本社

超高密度大気圧プラズマ　ToughPlasma　FPF20-ST

高い処理能力と低価格を実現させた大気圧プラズマ装置

。 　それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性 　ICチップ等が搭載された基板であっても電気的なダメージを与えません。 ◆低温処理 　照射ガス温度が低く、低融点の樹脂材料へも安心してご使用いただけます。 ◆ロボットケーブル 　電力線にロボットケーブルを採用しており、生産の自動化に貢献します。 ◆様々な自己監視機能 　放電状態やガス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部

超高密度大気圧プラズマ　ToughPlasma　FPB20

低温で電気ダメージレスな大気圧プラズマ装置

。 　それにより高速での表面処理が可能となり、高い生産性と安定性をご提供します。 ◆電気的に中性 　ICチップ等が搭載された基板であっても電気的なダメージを与えません。 ◆低温処理 　照射ガス温度が低く、低融点の樹脂材料へも安心してご使用いただけます。 ◆様々な自己監視機能 　放電状態やガス流量など、様々なパラメータを常時監視することで高い安全性を実現します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＦＵＪＩ ロボットソリューション事業本部　新規事業部

プラズマエッチャーセミオートシリーズ【CPE-300S】

使い勝手の良い真空プラズマ装置の廉価版！テフロン親水化や各種素材の撥水…

ぶことができます。 一般的なセラミック・金属・樹脂の親水化・接着強化の他、PTFE(テフロン)の処理や各種素材の撥水処理、エッチングや薄膜形成などにお使いいただけます。 オプションでの冷却機構やガス系統追加等のオーダーメイドも承っております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

ハンディタイプ 大気圧プラズマ照射装置　HAPYシリーズ

持ち運びが容易なアタッシュケースサイズの大気圧プラズマ照射装置です。

ハンディタイプ 大気圧プラズマ照射装置「HAPYシリーズ」は、コンパクトで全ての機器をアタッシュケース内へ格納可能です。 Heガスボンベ / AC100V電源に接続するだけで実験ができます。 ガスリモート放電方式で、電気的ダメージを抑えたことで安全に様々な材料へプラズマ処理が行えます。 【特徴】 ○コンパクト ○簡...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

大気圧プラズマ処理装置　ダイレクト式

アジア有力企業において多数の実績あり。

向上、密着性の向上） 　対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■幅広対応: ～2,250mm ■優れた表面改質性能 ■物理的、化学的に処理が可能 ■メンテナンスフリー ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar, O2等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク

大気圧プラズマ処理装置　リモート式

アジア有力企業において多数の実績あり。

対象ワーク表面の有機物除去 【特徴】 ■電子・イオンのアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, O2,Ar等 詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日立ハイテク