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PRガス状水銀を高効率で吸着・除去!吸着塔の設計・製作・据付工事も対応いた…
当社では、排ガス中のガス状水銀を高効率で吸着・除去する水銀吸着剤を 製作しており、従来の硫化鉛の他に硫化銅を吸着成分として用いた吸着剤を 実用化しています。 吸着剤厚さ=1500mm、塔内ガス流速=0.2m/s程度の場合、95%~98%程度の 除去率を期待することが可能。 また、活性炭と異なり、ガス中の水分で除去率が低下することがなく、 二酸化硫黄(SO2)ガス存在下でも、数年...
メーカー・取り扱い企業: 住友金属鉱山エンジニアリング株式会社
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PRダブルワイヤーで最大ウィービング幅8mmを実現した手持ち式溶接機を体験…
当社は、4月24日(水)からインテックス大阪で開催される 「2024国際ウエルディングショー」に出展します。 電源と溶接ガスの供給だけですぐにお使いいただける、軽量・小型の ハンディファイバーレーザ溶接機などを展示しますので、ぜひお越しください。 【主な展示物】 ■ダブルワイヤーフィーダー対応型ハンディファイバレーザ溶接機「HW-2000」 ◎最大8mmのウェービング幅を実現...
メーカー・取り扱い企業: レーザ技術サービス株式会社
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同軸バレル型プラズマ装置
軸バレル型 電極構造:円筒・石英チャンバー 高周波出力(Max):1KW 発振周波数:13.56MHz水晶発振器 チャンバー寸法(内寸):Φ300×500mm チャンバー材質:石英 反応ガス 2系統 空ポンプ ドライポンプ(約500L/分) ガス導入口 反応ガス2個、パージ1個、エアー1個...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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汚染物質の少ないFZ法で製造された高品質・高純度・高抵抗のFZシリコン…
ガスドープFZシリコンは、単結晶の引き上げをドーパントガス中で行なう事によって、不純物をドーピングしたFZシリコンです。 弊社では高品質・高純度FZシリコンのご提供が可能です。 現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存のメモリーやDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも幅広く使用されております。 詳しくはお問い合わせください。 ★Prime Grade FZ ingo...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エナテック 東京本社
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高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック
しております。 ◎特徴 1.耐熱1000℃可能 2.使用温度環境に応じた材料を使用します。 PTFE. ・PEEK・アルミニュウム・SUS316他・石英 酸性・アルカリ性・腐食ガスに考慮 ◎対象ワーク 1.高温ウエハ 2.ガラスモールドレンズ・プリフォーム 3.化合物半導体ウエハ 4.ガラス基板...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所
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高性能のまま低価格を実現!『単結晶育成引上工程用ロードセル』
【CZ法単結晶育成装置用】種付けから回転引上げ、インゴット完成まで重量…
(CZ)法による引上げ装置の重要なセンサとして使用できるよう、ロードセル検出部には独特の荷重センサを用いました。 ロードセルの使用温度範囲では補償回路の働きにより、ロードセル自体では冷却用の不活性ガスを必要としません。 【特長】 ◆ノイズに強い対策実施で低リップル 広帯域の電気的ノイズ防止を徹底的に追求した回路設計。低リップルの安定した性能を実現 ◆速い応答周波数 高速化したA...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社テンサー センサーシステム事業部
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12インチリング付きウェハ処理が可能! 表面改質、無機物/有機物汚染…
機物/有機物汚染除去! ★ 量産前の評価、研究に最適! ★ 高速、低価格 ★ 様々なオプション機能 ★ 300mmウェハ、矩形基板への対応可 [ 主要性能] ・到達圧力:6.0Pa以下(ガスバラスト閉時) ※最大排気速度500L/min ドライポンプを使用 ・リークレート:1.07 Pa/min以下 ※ビルドアップ基準値:0.1Pa・L / sec をチャンバー容積に換算...
メーカー・取り扱い企業: KNE株式会社
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グロバールなネットワークでお客様をサポート!ALUがお届けします
品】 ■高純度材料を使用したウェハプロセス用カスタマイズ部品 ■ウェハプロセス装置用互換・スペア部品/材料 ■産業用純正・互換光源 ■各種ウェハプロセス用カスタマイズ部品 ■工業用高純度ガス精製装置 ■スパッタリング真空蒸着装置 ■UHVコンポーネント ■サファイア基板、サファイア加工部品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アル株式会社 本社
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