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15件 - メーカー・取り扱い企業
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フィルムの熱処理に 近赤外線ヒーター(ヒートビームシリーズ)
PR高い電力密度、高効率反射鏡により高速加熱が可能な近赤外線ヒーターです。…
近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状に集光可能なヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用し、2mm~3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接触でクリーンな加熱ができ、真空中や不活性...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック
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PR電気ヒーターで直接空気を加温!精度の高い温度調節が可能な熱風発生器
河村バーナー製作所の『電気式熱風発生器』は、 電気ヒーターで直接空気を加温し、クリーンな熱風を発生させます。 精度の高い温度調節ができます。 消費電力により大型の受電設備が必要になります。 【特長】 ■電気ヒーターで直接空気を加温 ■クリーンな熱風 ■精度の高い温度調整が可能 ■大型の受電設備が必要に ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。...※詳しくは、お気...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社河村バーナー製作所
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シリコン半導体の工程等、クリーンなプロセスに!メタルフリータイプ
メタルフリータイプは、金属を極限まで排除し、より高次の清浄性を!シリコ…
金属汚染が気になるお客様でも安心してお使い頂ける製品です。 表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用しており、 基板には標準規格のシリコンウエハを使用。半導体前工程での利用を想定し クリーンなプロセスで利用できるよう設計しています。 【特長】 ■金属元素を使用しない設計 ■表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用 ■8インチと12インチのサイズをご用意 ※詳しく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サクラクレパス PI事業部
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サンプル形状を選ばず、自由に処理!バレルタイプ プラズマ処理装置
微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質が可能!溶液を使用せずに洗…
利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ば...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…
成膜を実現。 400℃以下の低温で緻密で耐摩耗性・耐酸化性に優れたSiC膜を形成可能とした新成膜技術を採用。 個体シリコンを出発材料としたイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小型・低価格を実現。多目的簡易操作型RFプラズマクリーナー。
プラズマクリーナーPCU-30はSEM・TEM試料をプラズマでクリーニングする装置です。当社独自のRF電源を使用し、小型・低価格を実現。低エネルギープラズマで試料損傷を回避。•クリーン排気(TMP+SQP)・簡易操作で能率的です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社真空デバイス
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エア・ウォーターグループの表面改質受託処理サービス。お客様のニーズに合…
エア・ウォーター株式会社のグループ企業であるイーシー化学株式会社(大阪府枚方市)では、大気圧プラズマによる表面改質の受託処理サービスを提供しています。 現在、クラス1000のクリーンルームに受託処理・テスト処理用として、高分子フィルム用の処理装置2基を所有しています。 今後はお客様のニーズに合わせて被処理物を広げるとともに、受託処理設備の増強を図り、中核事業として拡大してま...
メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター株式会社
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手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
】 ■バッチタイプ ・全手動化し低コスト化 ・小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外LED用AlNテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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6インチと8インチのウエハーに対応!平行平板方式のプラズマ処理装置
ステップ:3ステップ、10レシピ ○ウエハーサイズ:6インチ、8インチ兼用 ○ウエハー搬送方式 →垂直動作カセットエレベータ(6インチ、8インチ兼用) →水平・旋回動作1フィンガー吸着方式クリーンロボット ○本体寸法:W600×D1500×H1850 ○本体重量:650kg ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エスクラフト
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真空装置 基板用平行平板プラズマ処理装置 PC-RIEシリーズ
処理可能基板サイズ550×650mm。無廃液化・低ランニングコストを実…
プから大気ゲート、搬送機構、カセットステーションを増設した全自動システムまでお客様のご要望に適したバージョンが選択できます。 【特長】 ○真空プラズマ技術は従来の処理に比べて良環境化 →クリーン化,無廃液化 ○低ランニングコスト ○処理可能基板サイズ550×650mm その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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非球面レンズのDLC膜の除去に実績豊富なプラズマクリーニング装置。高付…
ジに均一なプラズマを実現したプラズマクリーニング装置。 従来機「POEM」よりイオンエネルギーを向上。より強いイオン衝撃とO2イオンでDLCを除膜。ドライプロセスで基板ダメージと廃液処理の不要なクリーンプロセスを実現。 プラズマエッチングで蓄積されたマルチガスプロセスで多様なDLC膜の除去に対応するとともに微細加工モールドの作成にも実績。DLCだけでなく有機膜エッチングや石英の微細エッチングに...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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小型電子部品(面実装タイプ)の側面電極形成をドライ化。PVD(イオンプ…
面実装タイプの受動電子部品(抵抗器・コンデンサ)などの側面電極をドライプロセスで形成。 廃液処理不要なクリーンプロセス。部品の端面のみに強い密着力で電極被膜を形成。Sn、Ni等の金属膜をハイスループットで形成。(酸化膜形成にも対応) 実績豊富なハードと独自の成膜プロセスで小型電子部品の生産プロセスのドラ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…
緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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空気・酸素・窒素・アルゴンなど様々なガスを導入できる卓上型の真空プラズ…
プション対応致します】 設計から製造まで弊社の技術者により製品を作っております。 お客様からの様々な要望に専任の担当者が親身に対応させていただいております。 ◇圧力調整 ◇RFタイプ ◇クリーンボックス ◇ステージサイズ ◇POWERコントロール など・・・ その他お気軽にご相談下さい。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社チェッカーズ
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大気圧プラズマ装置を用いたダイレクト接着接合時のラミ前ドライ処理
ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合(ダイレク…
弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、5G,6G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。 また、接...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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ピンポイントでプラズマ照射が可能!LCD端子清掃や電子部品封止前洗浄の…
『AP-T』は、2.45GHzの超高密度プラズマで高速処理が可能な スポット型大気圧プラズマ装置です。 クリーンドライエアー(CDA)での処理もできるほか、 高速立上り→スイッチOn後1秒未満でプラズマが安定します。 電源、制御、ガスユニットを一体化しており、どこでも設置可能な 簡単な用力→電源と...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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等方性プラズマを利用 微細なパターンやチューブ形状内面の洗浄、改質に最…
利用して有機物の除去(Ashing)や油分の除去(Cleaning)、珪素化合物(SiO2,SiN)のEtching、濡れ性改善等の処理が溶液(Wet)を使用すること無く行える装置です。良環境性(クリーンな作業環境、無廃液)と低ランニングコストを実現します。 全方向から処理が進行し、対象物の形状に問わず、ナノレベルの処理、洗浄、改質の効果を発揮します。 【装置特徴】 ■サンプル形状を選ば...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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