フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォ...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

会社案内

環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献します。

レナテックは、酸化チタンを利用した光触媒脱臭機QOLFANによるウィルス・空中浮遊菌の殺菌/浄化、空気清浄から、半導体産業におけるフォトレジスト用剥離剤PURMS、HACLEARによるコーターカップ洗浄まで、光触媒事業、半導体事業、環境事業の３つの事業を中心に環境に優しい製品をご提供し、皆様の暮らしに貢献できる会社を目指しています。詳...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レナテック

【装置関連技術】廃液濃縮装置（多重効用缶）

コンパクトな構造で低コストな多重効用蒸発濃縮装置のご紹介です

【適用例（一部）】 ■AN製造廃液の濃縮 ■塩化アルミニウム水溶液の濃縮 ■管理型処理設備浸出水の濃縮 ■フォトレジスト廃液の濃縮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 第一エンジニアリング株式会社

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

Degassing Module , 脱気Module

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。 ・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。 ・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。 ・水及び ガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。 ・溶存酸素による酸化を防止します。 ・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業： アジアファインテック株式会社 韓国本社

脱気モジュール , 短納期, 低価格, 他社との互換性有

LCD、OLED製造工程、半導体製造工程、精密塗装、食品業界など液体を…

・マイクロバブルの除去、防止します。 ・液の溶存気体(N2, O2)を取除きます。 ・有機溶剤(フォトレジスト)及び純水に適用可能です。 ・水及び ガラス表面の気泡(マイクロバブル)を取除く事が出来ます。 ・溶存酸素による酸化を防止します。 ・気体除去率80%以上。 ...

メーカー・取り扱い企業： アジアファインテック株式会社 韓国本社

直管形LEDランプ『LEDUAL』

工事不要！お使いの照明はそのまま、蛍光灯と交換するだけで簡単に省エネを…

を忠実に再現：印刷関連、製造業、塗装関連、病院、色を扱う現場 ・明るく色鮮やかに：コンビニエンスストア、スーパーマーケット、デパート、専門店、商品を魅せる現場 ■イエローLEDランプ ・フォトレジストが反応する光をカット ・工事不要なのでクリーンルームに導入しやすい ・ランプの交換頻度が約1/5と長寿命 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 桜井株式会社 営業推進企画部

特定波長カットLED照明『SP.Feathelight』

より白色に近い！文字が読みやすい明るさでイエロールーム内の作業が快適に…

さになり、作業が快適に行えます。 また、オールプラスチック構造を採用しているため、万が一落下しても 破片が飛散せず、クリーンルームでも安心してお使いいただけます。 【特長】 ■フォトレジストが反応する光はしっかりカット ■特定波長をカットすることでより色白に ■業界トップレベルの高輝度 ■消費電力19Wで省エネ ■破損防止のオールプラスチック構造 ※詳しくはPDF資...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社岡電気工業所

低溶出PTFE膜フィルター『LPFPEシリーズ』

接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低いメンブレンフィル…

ズ』は、ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構成部材に HDPEを使用しており、有機溶剤に優れた耐薬品性を持つフィルターです。 接着剤や界面活性剤を一切使用しない為、溶出が極めて低く、 フォトレジスト・レジスト原料・現像液・エッチング液など、 高純度薬液のろ過に適しています。 特にレジスト中のゲル状異物を効果的にろ過できます。 【特長】 ■ろ材にろ過精度の高いPTFE膜、構...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

XWP-プリーツフィルター

純水ライン/強酸液/強アルカリ/エッチング液のろ過に相応しい。

・適用領域 ◆電子・半導体工業：純水、洗浄液、フォトレジスト、メッキ液など。 ◆食品工業：飲料水、ジュース、ビールなど。 ◆化学工業：各種樹脂、表面処理剤、ケミカル薬液など。 ◆医薬工業：洗浄水、化粧品、健康飲料水、香料など。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社デオボス

SAFELIGHT SHIELDS レジストガード

2連式蛍光灯でも取付可能

【特徴】 ○ゴールドシールド ・白色蛍光灯に装着するだけで530nmまでの波長をカット ・通常のフォトレジスト工程に最適 ・蛍光灯のガラスの飛散防止にも最適 ・寿命は8年以上のため、従来の黄色蛍光灯と比べてコストダウンを 　実現できます。(保証期間５年) ●その他機能や詳細については、カタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヒロテック 東京営業所

ランプ

生産コスト削減に！各種コンバーチブルランプを輸入／廉価販売！

【取扱いランプ】 ・水銀ランプ　　　　：露光、印刷、理化学機器光源、医療、照明など ・キセノンランプ　　：露光、レーザー励起、医療、照明、理化学機器光源、写真など ・クリプトンランプ　：レーザー励起、医療、輸送、撮影など ・ハロゲンランプ　　：アニーリング、エピキャピタル成長、照明、光学機器光源、輸送、撮影など ・メタルハイドランプ：投影、照明、光源など ...【取扱いランプ】 ...

メーカー・取り扱い企業： アル株式会社 本社