フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズ

最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能。

フォトプロセス解析露光装置　UVESシリーズはフォトレジストの研究開発用露光ツールです。ステップ露光することで最大25箇所、露光条件を変えてオープン・フレーム露光が可能です。露光されたサンプルをレジスト現像アナライザを用いて現像解析することにより、フォ...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

レジスト現像アナライザ RDAリシーズ

フォトレジスト現像速度解析評価装置

レジスト現像アナライザRDAシリーズは、フォトレジストの現像速度測定、コントラストカーブ、感度の算出などの現像特性解析が迅速に行えます。また、リソグラフィシミュレータに必要なレジストモデリングパラメータを正確に決定することができます。...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズ

フォトレジストの高度な評価を行う、さまざまな装置を提供します。

脱保護反応解析装置　PAGAシリーズはPEB及び248mm露光によるin-situ反応解析、脱保護反応パラメータ算出機能。FT-IR室内にベークプレートを配置し、加熱し ながら官能基の変化を観察で来ます。また、紫外線(248nm)照射装置も搭載されており、露光中における酸発生のメカニズムなどの解析にも利用できます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...【主な特徴】 ○P...

メーカー・取り扱い企業： リソテックジャパン株式会社