レジスト剥離液『アンラスト R510』

剥離された皮膜は比較的小さい！BOD、COD負荷も他のものと比較して低…

『アンラスト R510』は、PVA系フォトレジストの剥離剤です。 特にリードフレーム用として開発。剥離された皮膜は比較的小さく、 また、BOD、COD負荷も他のものと比較して低くなっています。 対象物はポジレジストで、電子工業で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

電着フォトレジスト　『エレコートEU-XCシリーズ』

電着方式でレジスト形成

ネガ型フオトレジスト液です。電着方式でレジスト形成します。...【特徴】 ○三次元構造の基材にレジスト形成が可能です。 ○精密な膜厚の制御が可能です。 ○エッジカバー性に優れています。 ○耐薬品性に優れ、シアン系めっき液から無電解めっき液まで対応が可能です。 ○低タック性です。 ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シミズ

工業用洗浄剤『アンラスト RMR-2』

フォトレジスト現像設備清掃用の洗浄剤！NBRなどの軟質ゴムにも使用が可…

『アンラスト RMR-2』は、アルカリタイプの水溶性洗浄剤です。 低発泡性で、NBRなどの軟質ゴムにも使用が可能。 ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 拭き取ることで容易に設備を清掃できます。 【特長】 ■ドライフィルムレジスト等が固着した設備に塗布し、ウエスなどで 　拭き取ることで容易に設備を清掃できる ■低発泡性 ■NBRなどの軟質ゴムにも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液『アンラスト TP160』

鉄系基材に対し、防・除錆効果あり！生分解性がよく、環境負荷が少ないです

『アンラスト TP160』は、生分解性がよく、環境負荷の少ない フォトレジスト剥離液です。 苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリ等アルカリベースの剥離液に添加する ことにより、レジストの剥離が容易。 鉄系基材に対し、防・除錆効果があります。 【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三若純薬研究所