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高精度のめっきエリアを実現するネガ型のフォトレジスト電着プロセス
エレコートEU-XCプロセスは凹凸面や3次元形状品に高精度の部分めっきを実現する為のフォトレジスト電着プロセスです。この電着レジストは耐薬品性に優れ、シアン化銀めっきに他、金めっきや硫酸銅めっきのレジストとしても使用可能です。エッジカバー性に優れ、高精度の現像性を実現しました。精密部分めっ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シミズ
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