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21件 - メーカー・取り扱い企業
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真空ポンプに捕捉フィルターをつけてポンプトラブルを事前に防止!
PR捕捉フィルターがカギ!樹脂・化学業界にもドライポンプが使用可能に。ドラ…
当社がご提供する「HSコレクター」は、パーティクルを98%以上捕捉する高性能・コンパクトな捕捉フィルターシステムです。 ポンプトラブルを事前に防ぐ方法はないかと多々ご相談を頂くことが多くあったので、真空ライン中のオイルミスト・溶剤・モノマー・オリゴマー等を最も効率よく捕捉し、メンテナンス性・耐薬品性にも考慮して開発しました。 また、ドライ真空ポンプとセットでご提供も可能です。 省エネ・低...
メーカー・取り扱い企業: エイチアールディー株式会社 本社・大阪第一支店・大阪第二支店・名古屋支店・豊田支店・東京支店・HRD-THAI
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高性能・高圧 多用途ポンプ 【プラステコ】 L.TEXシリーズ
PR小流量から大流量、水状から高粘度まで、様々な流体の定量送液ならプラステ…
用途によって選べるタイプ!! ●ポンプ単体(装置組込式) ●制御部一体型 標準で最大40MPaまでの高圧送液に対応するプランジャ-ポンプです。 当社の主力製品である『超臨界不活性ガス定量供給装置』においても多数実績があります。 最大流量は 10mL/min ~ 1000mL/min と幅広く豊富な機種をご用意しておりますので、 研究・実験用途に適した小流量から量産向けの大流量まで、ご使用目的に...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社プラステコ 本社
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小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…
nchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源(最大4源)、有機蒸着源(最大4源)、又はΦ2"マグネトロン(最大3基)、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ドライポンプオプション) ◉ グローブボックス連結仕様(*要仕様協議) ◉ 豊富なオプション:基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. *その他のMin...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【デモ実施中!】使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭…
ングルステージ 水冷機構 3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 不定形基板からMax 6inchiまで選択可能 ●排気系 主排気 TMPまたはCryo-pump 粗引き ドライポンプまたはロータリーポンプ その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチン…
ングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板~Max 6inchまで選択可能 ○排気系 →主排気:TMP または Cryo-pump →粗挽き:ドライポンプ または ロータリーポンプ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置
【仕様(抜粋)】 ■装置寸法:240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量:20kg ■真空ポンプ:ドライポンプ(15L) ■加工範囲:28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス:CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロードい...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社三友製作所 テクノセンタ
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設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計致します
型のフィルムとし、剥離片の回収装置が ついています。これは剥離液の全量濾過を行うものとします。 【特長】 ■メンテナンス性を重視 ■使いやすい設計 ■設置場所に合わせて各チャンバーやポンプのレイアウトを設計可能 ■すべてオーダーメイドにて設計・製作 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ファイコーポレーション
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ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる
装置です。上エッチングは独立圧調でさらに高精度です。板厚50μmのワークが安定して流せます。有効幅は600mm 、搬送速度は1.0~7.0m/min(常用3.5m/min)、現像・エッチング・剥離ポンプはインバーター制御です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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フォトリソ用小型現像装置
ノズル式 スプレー現像・パドル現像対応装置 【特長】 ・高性能、低価格、コンパクト卓上タイプ ・ワークサイズ Φ1"〜Φ6" ・液晶タッチパネルにてプログラム入力簡単操作 ・薬液圧送ポンプ2系統を内蔵 ◆詳細仕様はカタログより◆...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トービ
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化合物半導体プロセス用 ICPエッチング装置
ングが可能 ○低バイアス(-100V以下)での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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小型プラズマクリーナー(簡易型枚葉式プラズマクリーナー)
本装置は、平行平板型高周波プラズマを使用した簡易型枚葉式プラズマクリーナーです。 600mm(W)×600mm(D)×750mm(H)(ポンプ除く)の小型プロセス装置です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー
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プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪
有機・無機問わず高いエッチング効果! 1週間~レンタル始めました~♪…
ョン) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体
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有機・無機問わず高いエッチング効果!
ョン) 浮子式流量計 ステージ寸法 φ200mm 電源 AC100V 50/60Hz 15A 真空ポンプ 135/160 ( リットル/min ) 操作方法 タッチパネルによる自動操作 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体
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当社独自のノズル配置とオシレーション機構により高精度にムラなくエッチン…
ブ類を 使用しています。 【特長】 ■ボタンひとつで準備運転からエッチング、水洗まで全自動で処理 ■オールデイタイマ(オプション)で毎朝すぐにエッチング可能 ■デジタル温調器、液循環ポンプの採用で液温はムラなく一定に コントロール ■デジタル表示でコンベアスピードを正確にコントロール ■液不足、水不足、異常加熱など安全保護装置を内蔵 ※詳しくはPDFをダウンロードして...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社山縣機械 FTP事業部
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高密度化が進むプリント基板のファイン化のニーズに対応
○狭いスペースでも設置可能 ○ファインパターン対応機種 ○使いやすい機能とすっきりしたデザインを兼ね備えた設計 ○数々の安全機能を標準装備 →ヒーターの空焚き防止 →過昇温防止 →ポンプ空運転防止 →非常停止 →エッチング上フタ二重 →フタインターロック ○お客様のニーズにあった設計変更が可能 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム
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ICPエッチング装置 RIE-800iPC/RIE-400iPC
真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…
Φ8”ウエハ対応 ■放電形式に誘導結合プラズマを採用 ■真空カセット室を備えプロセス再現性や安定性に優れる ■ウエハとプラズマ間距離を最適化し、良好な面内均一性を確保 ■TMP(ターボ分子ポンプ)や高周波電源をユニット化し、交換が容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: サムコ株式会社
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プラズマドライクリーナー プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置
ご要望に合わせてカスタマイズ出来るプラズマクリーナー
・卓上型、低コスト、高性能タイプ ・実験用から本格量産まで使用可能 ・RIEモード標準(DPモード切替器はオプション) ・アルゴン・酸素の2系統のマスフローメーターを搭載 ・標準油回転ポンプ付 標準機を基にお客様のご要求に合わせて、カスタマイズもいたします。弊社では小型バッチ式から中型、大型バッチ式さらに各種自動機まで幅広くラインナップしております。チャンバー構造は石英バレル、平行...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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小型卓上タイププラズマ装置 PiPi(ピピ)
・スペースを取らず、研究・開発用途に最適 ・使いやすく簡単に処理ができる低コスト装置 ・推奨真空ポンプPD139 ・RIEモード専用...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源点(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Mode...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
0ℓ容積 400x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070(450 x 450 x 450) ・最大基板サイズ:Φ8inch ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
【主仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ:ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ(ドライポンプも可) ・真空排気:真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着:最大4源(Model. TE1~TE4蒸着源) ・有機蒸着:最大4源(Model...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…
(最大6)、Φ3"(最大4) ・プラズマ電源:RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング ・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー <30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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