【加工事例集贈呈中】幅広い対応が可能な板金加工

PRベンディング金型60種以上を保有！R曲げ、プレーナー曲げを含めた特殊な…

当社では、小物から大物・長尺までの幅広い板金加工を行っております。 レーザー切断、タレパン、曲げ加工、プレーナー、レーザー溶接と 加工範囲が広く、ワンストップ加工で短納期も対応が可能。 6Mのレーザー切断と曲げ加工もできます。 ステンレス鏡面800番やバイブレーション、両面研磨などの特殊材を 通常在庫しており、板厚は0.8t～12.0t、サイズは6Mまで対応します。 加工事...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エッジ・エンタープライズ

車載電池用設備の設計・製作にお困りでは無いですか？

PR【お困りごと解消】ODM/OEMメーカーをお探しでは無いですか？ 奥行…

主に、組付・レーザー接合・金属加工・樹脂溶着・性能検査・ワーク搬送の工程で車載電池用設備の実績があり、 これらの培ってきた技術や知識を活かした提案が可能です。 また、ODM/OEM製作においては、お客様の工場へ納入する前に弊社の工場内にて 設備を並べ、品質確認やサイクルタイムの確認、流動確認等も実施いただけます。 数多くの台数をこなすことでコスト削減が可能です。 従来の工程・工法だけでなく、新工...

メーカー・取り扱い企業： 日清紡メカトロニクス株式会社

単一ショットで一括描写加工『レーザーマーキング用ビーム成形器』

高速可変可能なビームシェーパーを使用！微細マーキングを用いたアプリケー…

当社の『VULQ1』は、高速可変可能なビームシェーパーを使用したキオバ社製のレーザーマーキング用ビーム成形器です。 空間位相変調器を制御することで、像を任意に形成することができる画期的レーザーマーキング用ビーム成形器です。 既存のIR及び可視光レーザー（ナノ・ピコ・フェム...

メーカー・取り扱い企業： カンタム・ウシカタ株式会社

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Raith社のPicoMasterシリーズは、研究開発向けの高解像度のマスクレスレーザー直接描画装置です。 PicoMasterの特徴 ●高解像度 300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 20...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

全自動レーザーリペア装置

ＦＰＤのセルパネル欠陥に対し、ＩＴＯパターンをカットして修正可能。

＜PDP−ITO膜パターン修正レーザー装置＞ ■概要 PDPセルリペア装置は、点灯検査後のセルパネル欠陥に対し、ガラス越しにITOパターンをカットし、輝点を原点にし、パネルの修正を全自動にて行います。 下地の誘電体等々の材料...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。 『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

ファイバーレーザー溶接事例　【アルミBOX】

ファイバーレーザー溶接によるアルミ板金溶接

弊社ファイバーレーザー溶接機(ロボット制御)を使用して、アルミのBOXを作成しました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社第五電子工業

イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

レンズの表面研磨をイオンビームにて行うIBF装置を世界に展開していきます。 【特長】 ■精密光学に用いられる各種基板材料の表面をイオンビームで処理加工しλ/200の超精密研磨が可能！ ■レーザー光学部品をはじめ、天体望遠鏡・DUV・EUV・Ｘ線ミラー等の生産にご使用いただけます。 ■高真空チャンバー内でイオンビームで基板表面の研磨処理を実施 ■6軸制御で大型の平板からレンズ（球面・非...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

【金属3Dプリンター】電子ビームでステンレスをリーズナブルに造形

電子ビーム方式の金属3DプリンターでSUS材を造形することにより、大幅…

一般的にはレーザー方式の金属3Dプリンターで造形するステンレス材（SUS316L）ですが、弊社では電子ビーム方式でも造形が可能です。 レーザー方式と比べて、電子ビーム方式の金属3Dプリンターは熱源の出力が高く...

メーカー・取り扱い企業： 日本積層造形株式会社

電流安定度、位置安定度は業界トップクラス！電子線描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に適したモデルです。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。 【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群の...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クレステック 本社

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されています。 ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中

高出力赤色半導体レーザーマーキング M1170NMSH-7LA

高出力赤色半導体レーザーマーキング／品番 M1170NMSH-7LA

波長635ｎｍ（赤色）を使った非接触の光ケ引装置です。 超小型で、超軽量、収束性も良く、長寿命を実現しております。 製材用、木工用、建材用、紙、繊維、その他あらゆる分野で切断時の直線出し、位置合わせ、レベル合わせ、方位決め等広い用途に使用できます。...波長635ｎｍ（赤色）を使った非接触の光ケ引装置です。 超小型で、超軽量、収束性も良く、長寿命を実現しております。 製材用、木工用、建材用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シロ産業

ＳＤＣクリーンボルトシリーズ【国際プロジェクトKAGRAに採用】

極低温から高温環境まで、不純物を嫌う現場に最適な今注目のボルトナットで…

天文台や高エネルギー加速器研究機構が主導し、国内外の数多くの研究機関の研究者が参加する一大プロジェクトです。 【プロジェクトへの部品提供】 KAGRA建設プロジェクトでは、真空装置、高出力レーザー、低温鏡など、それぞれの分野のエキスパートが最高品質の部品を提供し、世界最高レベルを実現します。 「ＳＤＣクリーンボルト」は、その品質を認められ、各種装置の部品として採用されています。 ※...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＣ田中