ノンソルベント有機無機ハイブリッド材料　★高屈折　★低線膨張

PR溶剤乾燥の必要がなく、紫外線照射等で瞬時に硬化できます！

無溶剤タイプのナノ粒子 / アクリレートモノマー分散体です 高屈折率タイプ(KZ-100)・・・高屈折率ながら、ハンドリングしやすい粘度、高透明性を維持します 低線膨張タイプ(KS-200)・・・低線膨張でありながら、低硬化収縮、高透明性を維持します 開始剤、レベリング剤など無添加の為、使用方法、用途に応じて選択できます (ＰＦＡＳ不使用です）...詳しくはカタログをダウンロードして...

メーカー・取り扱い企業： 共栄社化学株式会社 本社

EV/HEVリチウムイオン電池用ギャップフィラー/放熱性グリース

PRシリコーン不使用、高熱伝導率、低比重、絶縁性、低摩耗性を実現した放熱材…

ポリテックPTはドイツを製造拠点としており、EV/HEVリチウムイオン電池用放熱材料として欧州・アジア車両メーカーで量産採用されております。 シリコーン不使用のため、高温下においてもガス化した低分子シロキサンが電子基盤上に付着して接点不良を起こすといった懸念がございません。また、難分解性のシリコーンを使わないことで環境にも優しいです。 バッテリーに必要な熱伝導率、低比重による車両の軽量...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社木村洋行

大型真空オーブン

　高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱　乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…

8００ｍｍ□×8００ｍｍＨ／バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを１台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品　高速加熱...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

バに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップレットによる膜表面の異常を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

縦型真空アニール装置

ウェハプロセス対応　本格量産システム　アニール・シンター・ポリイミドキ…

クリーンな真空中で均一加熱。高いクリーンネスや低酸素濃度を求められるプロセスに最適。縦型石英管型アニール装置。 最大８インチ相当のウェハや各種基板に対応。ＣｔｏＣシステム採用による自動化＆クリーンシステム。 中温から高温まで安定した温度分布性...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ポリイミドキュア装置（３００ｍｍウェハ対応　クリーンベーク装置）

３００ｍｍウェハ対応ポリイミドキュア、ベーキング、低温アニール、多層基…

真空置換後の低酸素雰囲気（N2）中で高均一性熱風加熱。300mm ウェハをカセット単位で加熱処理。システムLSIポリイミドキュア、フレキシブルプリント基板キュア・アニールに対応。３００ｍｍウェハカセット単位のキ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

PIG式 DLCコーティング装置

優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現！スパッタカソードを標準装備していま…

『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との積層構造により 優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現しています。 自動車...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

バッチ式真空半田付装置（フラックスレスリフロー　真空リフロー）

パワーモジュールからウェハバンプまでフラックスレス・ボイドレスリフロー…

高信頼性半田付を実現するバッチ式真空半田付装置 真空排気による低酸素雰囲気での高速・均一半田付。真空・常圧・各種雰囲気（還元・不活性）の組合せにより高いレベルのボイドレス半田付を実現。車載用高信頼性パワーモジュールの標準プロセスの基本型。 処理量＆性能ＵＰの新...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

マスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置） 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１５以下に低減（１⇒０．０６） 最新成膜プロセスで導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。 新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）

インターネプコンにも出展！大型製品にも対応した新製品のご紹介 ＜サン…

【特長】 １．N2・H2・蟻酸雰囲気でのリフローが可能 ２．H2・蟻酸の濃度コントロールにより良質な半田付けを実現 ３．低酸素濃度（5ppm以下） ４．急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応 ５．バッチ〜中量生産産～大量産まで豊富なラインナップ 【主仕様】 処理寸法：W310×D320×H...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体用電極膜アニール装置（可変雰囲気熱処理装置）

化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…

Ｓｉプロセスに実績豊富なアニール装置を化合物半導体プロセス用にカスタマイズ。 ＧａＡｓ用のホットプレートタイプに比べ高温（９００～１０００℃）まで対応。 窒化膜半導体の電極の合金化に実績。 急速昇降温型の加熱炉を装備し、均一な加熱と最適な温度プロファイルで電極膜のアニールを制御。 生産量・プロセスにあわせて最適な装置構成を提案可能な実績豊富なウェハプロセス用熱処理装置。 ...横型石英管...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

水素雰囲気コンベア炉（還元雰囲気連続熱処理装置）

豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…

炉内を水素還元雰囲気置換。Ｎ２による不活性雰囲気では実現できない低酸素濃度と還元雰囲気処理をコンベア炉による連続処理で実現。 水素雰囲気の還元効果を応用し、通常のリフローでは対応できない高い信頼性を求められる高温半田付や連続還元雰囲気処理熱処理に対応。 各種ペ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

横型蒸着装置

両面成膜・端面成膜・コンパクト・大量バッチ処理。基板の自公転機構が蒸着…

に合わせて最適な処理量と蒸発源等各種機構が選択できます。 イオンプレーティング機構の追加により膜の密着力の向上と反応性生成膜の形成が可能 窒化膜、酸化膜、高密着性電極膜等スパッタよりハイレートで低ダメージの薄膜形成が可能...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

金属ナノペースト焼結接合対応真空半田付装置

神港精機の真空半田付装置に新型登場　優れた均熱性・昇降温特性と雰囲気制…

スモジュールの生産を支える神港精機の真空半田付装置がアップグレード。昇降温特性と均熱性能を向上させ処理寸法も拡大。従来通りの雰囲気制御性能と処理温度の高温化によって金属ペーストの焼結接合に対応。 低酸素濃度の実現と１００％水素雰囲気による還元力によっての濡ペーストの酸化防止し濡れ性を大きく向上。 オプションの加熱加圧機構の追加でボイドレス接合も実現。 新世代接合材料もバーする神港精機の新型...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

真空はんだ付け装置（真空リフロー装置）

国内実績No.1をもつ真空リフロー装置のスタンダード！ ＜サンプ…

【特長】 １．N2・H2・蟻酸雰囲気でのリフローが可能 ２．H2・蟻酸の濃度コントロールにより良質な半田付けを実現 ３．低酸素濃度（5ppm以下） ４．急速加熱・急速冷却だけでなく、ステップ加熱や徐冷にも対応 ５．バッチ〜中量生産産～大量産まで豊富なラインナップ 【主仕様】 処理寸法：W310×D320×H...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店