薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

『SKF 軸受メンテナンス製品』総合カタログ

PR軸受を長期にわたって安心して使うのに欠かせないメンテナンス製品を多数掲…

当社は軸受および関連製品を多数取り扱っています。 ただいま、軸受の性能を維持するのに役立つ 『軸受メンテナンス製品』を1冊にまとめた総合カタログを進呈中です。 【ラインアップ】 ＜取付けと取外し＞ ■機械式工具　■ヒーター　■油圧式工具 ＜計測機器＞ ■アライメント　■簡易状態監視 ＜潤滑＞ ■潤滑剤　■グリース自動供給ツール　■グリース手動供給ツール ■オイル点検およ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エスケイエフ株式会社

プラズマガン『SG-100』

緻密で溶射効率のよい皮膜が得られる！新設計のノズル電極により長寿命化を…

プラクスエアー/タファー社の『SG-100』は、ノズル内部に材料を供給するため、 緻密で溶射効率のよい皮膜を得ることができるプラズマガンです。 金属から高融点セラミックスまで、各種材料のプラズマ溶射ができます。 また、40KW/80KWのモードがあり、さらに...

メーカー・取り扱い企業： ユテクジャパン株式会社

大気圧プラズマ装置　Plasma Beam RT

2 次元表面の高速、高効率、広範なインラインプラズマ処理に最適なソリュ…

m(幅×高×奥行) 　重量：約15kg 2. プラズマヘッド 　220mm×600mm×364mm(幅×高×奥行) 　重量：約30kg 　プラズマノズル：2個 3. フレキシブル供給チューブ 　PVC プロテクションチューブ×2 本 　直径： 約 19mm 　長さ： 約 3 m 　曲げ半径:：最小 100 mm 4. 処理幅 　120mm 5. プロセスガ...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

大気圧プラズマ処理装置『NJZ-2820』

大気圧で安定したプラズマ処理が可能な大気圧プラズマ処理装置！装置の小型…

【仕様】 使用ガス（標準） 　種類：圧縮空気 　供給圧力：0.3～0.85MPa 　使用流量：10～20L/min 　供給口：φ4チューブ適合継手、またはRc1/4 プラズマ発生電源：2,450MHz / max 150W 入力電圧：単相　A...

メーカー・取り扱い企業： 長野日本無線株式会社

金属粉から樹脂パウダーまで！粉体プラズマ処理機で分散性向上！

一度に大量の粉を処理可能。1バッチでおよそ10kg前後の粉を処理できま…

独自に開発した真空プラズマ技術を用いて今まで少量でしか処理が出来なかった紛体をキロ単位で処理できるようになりました。 1バッチおよそ30分以内で処理完了。 供給装置を取り付けることで自動供給取り出しも可能になります。 最大20kgまで処理できる大型装置を現在開発中。 樹脂、金属、無機、様々なパウダーを処理して親水性、分散性アップ。 粉の濡れ性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

ダメージレスで接着性＆濡れ性向上！大気圧広幅低温プラズマ処理機

デモ機有り！　初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温…

のために既存ラインへの組み込みが容易です。 窒素ガスを媒体とし、酸素や水素等を混合することで様々な用途にご利用いただけます。 ※ヘリウムやアルゴン等の高価なガスは使用しません！ 窒素濃度や供給方法によっては窒素ガス単価をかなり安く抑える事ができ、経済的に表面処理を行う事ができます。 有効処理幅は　60ｍｍ　120ｍｍ　250ｍｍ　380ｍｍ　500ｍｍ 対象製品に応じて長さを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

DLC成膜装置「プラズマイオン注入成膜装置」

３次元・大型・低温処理が可能！独自開発技術採用プラズマイオン注入成膜装…

型・低温処理が可能なDLC成膜装置です。 栗田製作所独自開発装置で特許取得済み（特許第3555928号）です。 プラズマ生成用のバルスRF電源、イオン注入用の高圧バルス電源の出力を一つの電極から供給することにより、基材形状に合わせたプラズマ生成が可能です。 DLCコーティング、ガスイオン注入処理がこの一台で行うことができます。 【特徴】 ○３次元形状成膜が可能 ○装置の大型化が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD

最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…

かであるために、総所有コストが非常に低い。 ・　屈折率、光学的透明度、膜ストレス、密着性、柔軟性、硬度、密度といったフィルム物性を正確にコントロール 　　可能ためのプリカーサー、混合物、ガス供給比、プラズマ出力の操作が容易。 ・　様々な形状、材質のサブストレートに成膜可能。 ・　プラズマ形状を最適化するためのマグネットを追加することも可能。 ・　密着性を向上させるために(...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

3インチカソード3元を装備した標準型スパッタ装置をカスタマイズ。 専用ターゲットとグローブボックスを標準装備。 Ｌｉ系複合酸化物　硫化物等ターゲットも供給。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積（φ１８０）への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

卓上大気圧バリア放電装置

低価格な小型装置！

検が容易 　- 電極（消耗品）を簡便に交換 ●均一性 　- ハンディタイプのコロナ処理よりも均一 ●処理効率 　- 真空プラズマ処理と比べ真空排気が不要 ●ランニングコスト 　- ガス供給なしで使用可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社チェッカーズ

化合物半導体ウエハ用非接触ピンセット

マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を非…

高温化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）をベルヌーイチャック「フロートチャックＳＡＧ（ＩｎＰ）型」（特許）に気体供給のＯＮ－ＯＦＦ操作を行い、化合物半導体ウエハは(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）ＩｎＰウエハはを非接触にて吸引し、所定の位置に脱着を行います。 ベルヌーイチャック「フロートチャックＳＡＧ（ＩｎＰ）型」は...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

大気圧プラズマ装置　Plasma Beam Mini

【低コストでプラズマの導入】試験・研究や少量生産に最適な大気圧プラズマ…

0mm×320mm(幅×高×奥行) 2. プラズマジェネレーター 　最大 ：Φ22mm 　長さ ：185mm 　重さ ：約0.9kg 　ケーブル長さ：約 2m 3. フレキシブル供給チューブ 　Steel / PU ホース 　約2.0m、直径約14mm 4. 処理幅 　3-5mm 5. プロセスガス 　ドライ、オイルフリーの圧搾エアー 　インプット圧力：5...

メーカー・取り扱い企業： テクノアルファ株式会社

大気圧プラズマ装置「AP Plasma　Precise II」

ダメージフリー・パーティクルフリーの大気圧プラズマ装置

い ■Particle発生がない(ダウンストリーム型) ■残渣物が出来ない表面乾燥ができる ■高密度ラジカル発生により、窒素ガスを半減、生産性の向上に寄与 ■添加ガス種の変更により、接着界面に見合う供給結合分子付与の選択が可能 ■パーティクルフリー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社イー・スクエア