【コーター】小型塗工機、低価格、短納期、試作、選べる塗布方式

PRダイ、グラビア、ロールコート、ロールtoロールの装置を小型、低価格、短…

コアボックスジャパンはコーターやロールプレスなどの二次電池試作設備、 高機能フイルム関連のコーターなどの装置を低価格、短納期で提供します。 また、制御盤設計製作、制御システムの構築を得意とする電気部門があり、様々な装置の制御お任せください。 当社の『コーター』は、小規模な研究施設に適した小型のものから、 生産機まで幅広く対応しています。 塗布方式もお客様のニーズに適した提案...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コアボックスジャパン

ハイブリッド・アクチュエータ『HySerpack』※技術資料進呈

PRサーボモータで油圧ポンプを回転させ、油圧ポンプ吐出方向を制御。制御弁、…

当社が開発したハイブリッド・アクチュエータ『HySerpack』は、 制御弁がいらず、推力やロッド位置の制御を高精度で行えます。 サーボモータで油圧ポンプを回転させ、サーボモータの正逆回転によって 油圧ポンプの吐出方向を制御。方向制御弁がいらず、回転速度の制御で、 作業油の吐出量もコントロールできるため、油量制御もいりません。 電動アクチュエータの特長と、油圧シリンダの高剛性を兼ね備...

メーカー・取り扱い企業： 第一電気株式会社

真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸着セル Max1500℃

有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとし…

【主仕様】 ■最高制御温度：800℃、又は1500℃ ■使用環境：真空中・不活性ガス（*O2 は800℃まで） ■ヒーター：タングステンフィラメント ■るつぼ容積：1cc（最大充填量1.5cc） ■るつぼ材質：ア...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

す。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ◆基本仕様◆ ・ヒーター：C/Cコンポジット, PGコートC/Cコンポジット(カーボン炉）, タン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃

真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 15…

【主仕様】 ■最高制御温度：800℃、又は1500℃ ■使用環境：真空中・不活性ガス（*O2 は800℃まで） ■ヒーター：タングステンフィラメント ■るつぼ容積：1cc（最大充填量1.5cc） ■るつぼ材質：ア...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1800℃

PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性…

高真空対応 多彩なヒーター材質オプション。 PVD（スパッタ、蒸着、EB等）、CVDなどの各種真空薄膜実験、高温真空アニール、高温試料解析用基板ステージ、などに応用いただけます。 様々なご要望仕様にカスタムメイド対応致します。 【特徴】 ●セミカスタム製品です。ご要望に応じて設計製作いたします。 ●予備ヒーター素線との交換が容易 ●設置、メンテナンスが容易（M6スタッドボルト、支柱...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️

真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイ…

Graphite, C/Cコンポジットヒーター、SiCコーティング、PGコーティング、タングステン、タンタル、など。 ◎ 製作範囲：ヒーター部（Φ150 x 100mm程度まで）導入フランジ、温度制御ユニット ◎ 用途：各種真空装置プロセスチャンバー内での試料加熱、放電プラズマ生成ユニット熱電子銃（Lab6）用、ガス供給系統配管急速加熱（液体急速気化） その他ご要望に応じ、特注仕様製作致しま...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』

Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで…

◾️ Max2000℃ ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット） ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御） ◾️ ヒーター材質： ・C/Cコンポジット：Φ6〜Φ8inch ・PGコーティング 高純度グラファイト：Φ6〜Φ8inch ◾️ 使用雰囲気： ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、…

全ての操作を行います。 煩わしいバルブ開閉・ポンプ起動操作が不要、焼成作業前の「真空/パージ」サイクルと焼成作業後の「ベント」を1ボタンで自動シーケンスで行います。 ◉MFC最大3系統 自動流量制御（又は手動調整） ◉APC自動圧力コントロール ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用中でも安全にご使用いただけ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃

卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲…

◆装置構成◆ ご予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。 (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類） ◆基本仕様◆ ・ヒーター：C/Cコンポジット, PGコートC/Cコンポジット(カーボン炉）, タン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社