空気圧駆動圧力制御弁　AS260【サーボミニコンポ】

PR空気圧駆動　アンプ・圧力センサ内蔵型圧力制御弁

当社の『アンプ・圧力センサ内蔵型圧力制御弁AS260シリーズ』のご紹介です。 ある程度大きな流量を比較的ゆっくりとした応答で圧力制御を行うことに適した とても使い勝手の良いお勧めの新製品です。 精密な遠隔操作が可能な他、ブースタと組み合わせて精密大流量弁とすることもできます。 ■特徴 ・ノズルフラッパ型空気圧サーボ弁、圧力センサ、アンプ（制御基板）を一体化した圧力制御弁 ・電気信号に比例してパ...

メーカー・取り扱い企業： ピー・エス・シー株式会社

後付け電動アシストユニット新製品『E-Drive Optima』

PR傾斜搬送や速度制御が可能に！高機能の電動アシストユニットE-Drive…

『E-Drive』は、最大総重量500kgの補助対応可能な高アシスト性能の 電動アシストユニットです。 今回は新シリーズのE-Drive Optimaが登場。 使い勝手はそのままに、傾斜搬送や速度制御にも対応しました。 負荷の高い重量物用台車の手押し作業でも、 当製品なら手元操作で簡単に操作 可能で、作業者の負担軽減・効率を向上させます。 　 【特長】 ■作業者の負担軽減・...

メーカー・取り扱い企業： テンテキャスター株式会社

Agnitron社 MOCVD装置制御ソフトウエア

最新の制御機能とデータロギング機能を有する、WindowsベースのSC…

MOCVD(有機金属気相成長)装置とプロセスをコントロールするための最新のWindowsベースのSCADAパッケージを備えたMOCVD装置制御ソフトウエアです。最新の制御機能とデータロギング機能を有しており、他のソフトウエアにはないカスタマイズ性、操作性が優れています。Veeco, Thomas Swan, Aixtron社等のレガシーM...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

インチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロード...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシタンスマノメータ（バラトロンゲージ）による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア（オプション）によるリモート制御, データ解析 【主仕様】 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ 発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能 ・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積） 低温低圧条件で緻密で高品質な成膜が可能 ダブルイオン源構造となり、高精度な制御が可能 Real-timeでスペクトル分析機能...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 【特長】 ■実験・研究・評価・試作に好適 ■高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現 ■LIAの多点制御により、より...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意し...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

Agnitron社 MOCVD装置 In-situ温度モニター

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-si…

Agnitron社で開発されたAgniTemp-MOCVD In-situ温度モニターは高精度、高安定性を有する業界最高レベルの温度モニターです。 (1) 圧倒的な温度制御の精度と正確さ (2) メンテナンス後のキャリブレーション時間を短縮 (3) Run to Runの再現性が向上 (4) 様々なアプリケーションに役立つ単波長および二波長反射率オプション 標...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

立体物用プラズマCVD装置

高い汎用性を備えたシンプルな構造！独自のプラズマ制御方式を採用していま…

『立体物用プラズマCVD装置』は、豊富な蓄積データを有し、 独自のプラズマ制御方式を採用しています。 チャンバー容積は1m3。 多段式大量一括処理可能で、高い汎用性を備えたシンプルな構造です。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作可能ですので、 ご用命...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

ICPECVD『SI 500 D』

ICPパワーによるイオン密度の制御！低温成膜、低ダメージ、高コンフォマ…

『SI 500 D』は、ICPパワーによるイオン密度の制御のICPECVDです。 独自のPTSA200ICPソースによる10＾12[イオン/cm3]の高いプラズマ密度により 低温成膜、低ダメージ、高コンフォマリティーを実現 ご用命の際は、当社...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２４シリーズ

特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

セトラ社のモデル２２４は特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサです。 　モデル２２４はパージ効果の高い流線型のセンサチャンバを持ち、ガスの流れによる瞬時の温度変化の条件下でも優れた安定性を実現するように設計されています。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度セン...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えています。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

問い合わせください。 【特長】 ■2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現 ■優れた膜厚分布および再現性を実現 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■広範な膜特性の制御可能 ■豊富な蓄積データ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

日新技研社　単結晶育成装置　総合カタログ

日新技研社〜単結晶育成装置〜総合カタログ　無料配布中！

代のニーズに答える技術集団、日新技研では 次世代の単結晶育成装置を製造・販売しております ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ 　　○酸化物単結晶引上装置 　　○自動直径制御装置 　　○μ-PD装置 　　○超小型単結晶引上装置 　　○SiC-CVD装置 　　○Gap.InP高圧合成装置 　　○高温アニール装置 　　○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や...

メーカー・取り扱い企業： 日新技研株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

C膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア・プログラムで 　カンタンに半自動・全自動で工程制御が可能 ■コーティング工程中の作業内容を自動記録 ■コーティングの全工程をデータ化 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： パーカー熱処理工業株式会社 川崎事業所

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

・熱電対センサーを炉内に導入、試料温度を直接モニター可能 ・3系統のマスフローガス流量制御系、正確なガス制御が可能 ・コンパクトでしっかりした筐体設計、卓上実験台などに簡単設置 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

乾式除害装置(MAKシリーズ)

大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

横浜研究所の現地分析により、 　フィールドでの排気分析結果に基づいた処理剤設計も可能です。 【低圧損】 　圧力損失の少ない処理剤充填方法を採用し、 　装置内の圧力損失を0.1KPa以内に制御。 　これにより専用排気ブロワーを不要化、ランニングコストを低減します。 【管理性】 　剤破過検知器（ブレイクモニター）のサンプリング位置を 　自動切換することにより、剤交換時期を正確に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

ィング 〇オプションSMIFステーション ＜主なソフトウェア機能＞ 〇レシピエディター：プロセスの実行中にレシピの作成と変更が可能 〇1つの通信プロトコル（Ethercat）でクラスタ全体を制御 〇マルチタスクが可能な、1/20ミリ秒のデータログレート固定ループ制御サイクル 〇リモートアクセス可能なデータロガー、全データエクスポート可能 〇工場ホストへのSECS/GEM統合...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ピラニ真空計　PG-20

小型なボディで装置組込みの省スペース化！

えます。 （特長） 　●（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の測定範囲 　●故障に強い定温度型 　●小型なボディーで省スペース化が可能 （仕様） ・出力信号 ：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V　F.S.　（1V/1桁）　出力インピーダンス1ＫΩ ・使用温湿度 ：5?40℃、?90...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

定温度型ピラニゲージコントローラ　PG-30

熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

（特長） 　・（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の測定範囲 　・故障に強い定温度型 　・小型なボディーで省スペース化が可能 （仕様） ・出力信号 ：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　 　 　 　 　b)アナログ出力　0?5V　F.S.　（1V/1桁）　出力インピーダンス1ＫΩ ・使用温湿度 ：5?40℃、?90...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

緊急除害装置(S-CDシリーズ)

毒性ガス漏洩の緊急時に無害化します。（高圧ガス保安法一般則第55条第1…

法に対応した緊急用乾式除害設備です。 （高圧ガス保安法一般則第55条第１項） ● 特殊高圧ガス（７種）の他、アンモニア、塩素など、各種ガスの仕様に合わせた安全設計 ●排気ブロワーのインバーター制御による省エネ設計 ●ガス漏洩信号など、外部信号入力により緊急運転切替 ●屋内仕様など様々なニーズに対応...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社巴商会 管理部署：企画営業部

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

す。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマに...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

Agnitron社 研究開発(R&D)～量産用 MOCVD装置

Agnitron社にて独自開発された、高性能、高スループット先端化合物…

Agnitron Technology社（アメリカ）は、2008年に設立された中古リファブ、自社開発新品MOCVD装置（有機金属気相成長装置）、MOCVD装置制御ソフトウエア、MOCVD 装置用In-situモニターを製造、販売するサプライヤーです。Agnitron Technology社はお客様のニーズ一を詳細にお聞きし、ニーズに合致した個別装置を提案する...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

RIE、IBE、PECVDチャンバーを一つの真空制御装置に統合など各種カスタマイズも対応可能。 ご要望・お見積もりなど、お気軽にご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を確保できます。 ●装置サイズ(mm): 1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ■接ガス部にインコネルを採用 ■CEマーク対応／RoHS準拠 ■接続継手の選択が可能 ※『730シ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

・プロセスガス：H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ：Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・500℃～Max1100℃基板加熱 ・高精度プロセスガス圧力APC制御 ・マスフローコントローラー最大4ch ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

造ラインまたはクラスターに統合できるスタンドアロンモジュールとして購入することもできます。 オペレーティングシステムソフトウェアは、直感的でユーザーフレンドリーなHMI一つを介してクラスター全体を制御し、 SECS-II / GEMプロトコルを介してシステムとお客様のファクトリーオートメーション間のスムーズな接続を保証します。 SEMI S2 / S8認定は、システムが業界の厳しい規格と互...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

問い合わせ下さい。 その他ウェットプロセス装置、真空プロセス装置も取り扱いしておりますので、ご覧ください。 『立体物用プラズマCVD装置』 ■チャンバー容積：1m3 ■独自のプラズマ制御方式 ■多段式大量一括処理可能 ■高い汎用性を備えたシンプルな構造 ■様々な製品材質に成膜可能 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 ■圧電に寄与する軸長を...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

【製品】 蒸着膜形成装置 ・各種金属/有機物蒸着膜形成・物性の評価用・薄膜形成・膜厚強度(強化)・温度制御 ・ドーピング・材料研究評価用 【製作例】 ・実験装置設計製作(カスタム仕様)・実験装置改造設計製作(カスタム仕様) ・不活性ガス環境装置・真空乾燥装置(加熱/冷却) ・グローブボック...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コスモ・サイエンス

枚葉式常圧CVD装置『A200V』

装置サイズを可能な限りコンパクト化！安定した成膜処理と低パーティクルを…

『A200V』は、少量多品種から大量生産までカバーするφ150・φ200mm ウェーハ対応の枚葉式常圧CVD装置です。 フェイスダウン式成膜方法の採用により優れた膜厚均一性、パーティクル 制御、埋め込み性能を発揮し、SiH4をベースとしたシリコン酸化膜を成膜。 また、TEOS-O3、SiH4-O3もオプション対応が可能な装置です。 【特長】 ■フェイスダウンポジション ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

スーパータル　シングルウェハーリアクター

電子・半導体業界用！1枚のウェハー製造用ヒーターモジュール

半導体ウェハー枚葉熱処理用ヒーターモジュール □■特徴■□ ■耐熱性に優れた断熱材と二珪化モリブデンヒーターの一体型モジュール ■小スペースに大容量の出力が可能 ■精密な温度制御が可能 ■タイプ：SWR ■直径（インチ）：4・5・6・8・10 ■設置：縦もしくは横置き ■最高発熱体温度：1600度 ■出力：0.9W〜5.6ｋW ■少量からでも対応致します...

メーカー・取り扱い企業： アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー

ガスフィルター用ジャケットヒーター

２００℃の高温でガスフィルターをベーキングする画期的なベーキングヒータ…

使用温度は２００℃です。 ○電源はＡＣ１００Ｖです。 ○消費電力は６０Ｗ〜１００Ｗです。（０.６Ａ〜１Ａ） ○加熱タイマー最大使用時間は１００Ｈｒｓです。(デジタル設定) ○温度調節はＰＩＤ制御です。(デジタル設定) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピー・ジェイ

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

アシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

アシスト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

ーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追加が可能。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

CVDコーティング装置

どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

ティングチャンバーを 　2〜4台を付加することが可能 ○コーティングは規定圧力で行われる ○プロセスシーケンスは予備プログラミング可能な 　自動プロセッサーによって監視され 　さらに制御及び調節装置を装備 ○ガス供給装置を、綿密でコンパクトに装備 ●より詳しい掲載内容につきましては、 　カタログをご覧頂くか、直接お問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 中日本炉工業株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

インチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着などの混...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

FC-R7800シリーズは、高精度の流量制御を行うだけでなく、 メタルシールによる優れた高い気密性を備え、主要なガス制御アプリケーションに適したシステムです。 業界標準またはAera独自の電気系接続部を選択できるため、利便性があり、既存の...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社