DCブラシレスモータ用コントローラ

PRメカナムホイールを制御するサンプル動画あり！開発時間短縮に貢献します！

『DCブラシレスモータ用コントローラ』は、AGV（無人搬送車）や 移動型ロボットなどのモータ制御の開発時間短縮に貢献します。 シングルまたはデュアルチャンネルタイプをそれぞれ「SBLシリーズ」「FBLシリーズ」「GBLシリーズ」でラインアップ、高回転対応機種もございます。 CAN通信にも対応するほか、ホールセンサやエンコーダなど多くのロータ位置検出センサに対応しており、サーボモータ制御も可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アキュレイトシステムズ 伊那事業所

【コーター】小型塗工機、低価格、短納期、試作、選べる塗布方式

PRダイ、グラビア、ロールコート、ロールtoロールの装置を小型、低価格、短…

コアボックスジャパンはコーターやロールプレスなどの二次電池試作設備、 高機能フイルム関連のコーターなどの装置を低価格、短納期で提供します。 また、制御盤設計製作、制御システムの構築を得意とする電気部門があり、様々な装置の制御お任せください。 当社の『コーター』は、小規模な研究施設に適した小型のものから、 生産機まで幅広く対応しています。 塗布方式もお客様のニーズに適した提案をい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コアボックスジャパン

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン＃2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます！高速圧力制御を実感しませんか？ 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コントローラ PACE】 ■高精度、長期安定性、高速反応性と３拍...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】 多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。 【半導体製造装置の流体制御に】 半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

インチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） 寸法：1,120(W) x 800(D) ●プラズマエッチングはメインチャンバー、ロード...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

nch ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モニタ機能。 ・負荷短絡時の保護機能。 ・5KVフ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

がすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途：MEM...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

ドを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ワークステージに4軸機構を搭載し、立体物...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意し...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

搭載により 圧電特性低下に寄与する元素検知可能な製品です。 単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することができます。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 【特長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

グ 装置を納入した事例を紹介させていただきます。 今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロード ロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定稼働を実現しています。 最新の駆動機構によりレイテンシー時間を最小限に押さえて生産性を改善しています。 ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

グ装置です。 サイドスパッタ方式により1ｍを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメンテナンスの簡易性を実現しました。 量産用途に最適なデータロギングシステムや装置制御や管理を容易にする制御インターフェースソフトなど量産用装置に必須な細かな配慮が組み込まれています。 ３００ウェハに代表される大型基板の施策・少量生産に抵抗器やセンサーなどの小型電子部品の大量生産に...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度セン...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えています。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

粉体スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

ラズマを使って薄膜をコーティングする装置です。 バレルスイング動作を基本とした攪拌機構を有し、 RFまたはDCスパッタ法による成膜が可能。 粉体材料の劣化防止や、粉体表面の電気伝導性の制御、 希少材料の薄膜化による省資源化などへの応用が期待できます。 【特長】 ■撹拌機構で均一な成膜 ■化学反応不要 ■高純度で密着性の高い成膜 ※詳しくはPDFをダウンロードしてい...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

ス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる 　膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御　 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

QUICK COATER SC-701HMC IIは、Ni、Cr、W、Ti、Al等、多種金属対応のハイスペックモデルです。 ソフトウェア制御で高精度コントロールが可能。各種金属の薄膜作製を手軽に行なえます。 【特徴】 〇プログラマブルスパッタコーター 〇フルオート/マニュアルの2タイプの操作 〇シャッター標準装備...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。 【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載 〇デバイスの電極膜付けにも使用可能 ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

ムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

ませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。生産ラインの拡張の機会にぜひご相談ください。 ■複数チャンネルの圧力計測・校正に：圧力コントローラ PACE シリーズ ■圧力制御スピード：他社製品の最大5.5倍 ■ポータブルに使うなら：圧力計のDPI800、DPI705Eシリーズ ※イプロスにご登録されている個人情報は、弊社正規代理店にも共有させていただき、ご連...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： 　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195mm 　RF CONTROL UNIT：W370×D310×H158mm 　チャンバーユニット：W370×D540×H400mm 所要電源：AC100V...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『Star.500-EOSS(R)』

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

型スパッタカソードとスパッタアップとの組み合わせによる 　膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■円筒型ターゲットによる長寿命ターゲットライフと 　成膜レート変動の最小化 ■完全に自動化されたプロセス制御　 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

超高精度6軸アライメントステージ「RSTZシリーズ」

X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ター…

ステッピングモーター、AZモーター等 ■テーブルに大口径透過穴を搭載。 ■駆動部をユニット化したことにより、テーブルサイズや形状を自由に設計可能なので、ご要望にぴったりのステージをご提案。 ■制御に必要なDLL/サンプルコードをご提供。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

度プラズマスパッタカソードを最大4元装備。量産対応の大型バッチタイプスパッタ装置。 立体形状基板の全面コーティングに対応した基板自公転機構を備え、小型機械部品の生産に最適。 実績豊富な各部機構と制御ソフトに加えデータロギングソフト等優れたインターフェースによって優れた操作性と安定した稼動を実現 オプションで従来型ＰＩＧーＣＶＤ機構を装備可能。ＰＶＤ＋ＣＶＤのデュアルタイプのＤＬＣコーティング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

3源 ◉ 真空蒸着：抵抗加熱蒸着（最大2）、有機材料蒸着（最大4） ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統（標準） + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギン...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。 多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

R&Dやニッチプロセスへの対応に特化　量産用装置では困難な少量生産や試…

先端薄膜プロセス開発・少量生産専用の低コスト型マルチチャンバスパッタリング装置。 膜厚制御性に優れた高効率カソードと豊富なオプション機構により幅広い分野に対応 Ｓｉ半導体の電極・配線膜だけでなく、マイクロ磁気デバイスやＭＥＭＳ用の磁性体膜・絶縁膜・保護膜など各種プロセスに実績 蒸着・...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

・200mmウェハまで対応可能 ・AVP Technology社独自の制御システムへの変更で中古クラスター装置への搭載も可能です。また、他のPVDやエッチングモジュールとの併用も可能です。 ＊詳細はお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

ィング, PGコーティング, AlNヒーター ◉ 各種真空フランジ接続：ICF, ISO(KF/LF), JIS(VG/VF)フランジ ◉ K, C, R熱電対付属 ◉ その他オプション：温度制御ユニット, Inc, グラファイト or SiC基板ホルダー...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

全自動ロールクリーニングシステム　「CMW-SRR/ULT」

クリーンルーム内の使用に最適！全自動でロールを洗浄するシステムです。

ン」 ○CMW-ULTモデルのロール洗浄には「IPA」 ○クリーンヘッド部分の布はクリーンルーム内で使用できる素材を使用 [PLC+5.4” タッチパネルディスプレイ] ○PLCプログラムで制御 ○洗浄液の抽出タイミングや洗浄サイクルをコントロール可能 ○状態をそれぞれ違うアラームでの監視も可能 [5リットル洗浄液タンク] ○クリーンヘッド1台にそれぞれ洗浄液タンクが付属 ○両面...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤンゴージャパン

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

品種少量生産、柔軟な 生産計画へ対応可能です。 【特長】 ■最大5基のカソード搭載により多様なプロセスと高生産性を両立 ■T/S距離調整により長期間の高膜厚均一性を維持 ■独自プラズマ制御(MPスパッタ)技術にてスパッタ薄膜特性を向上 ■ヒーターステージ(1000℃)搭載で高温プロセスが可能 ■開発工程～量産工程まで様々な用途へ活用が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流量を精密に制御 ■成膜方向は試料へのゴミ付着を防止するためにデポアップを採用 ■卓上タイプながら真空シール性の高いSUSチャンバを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異種積層成膜が可能です。 【特長】 ■自動スパッタ機能により、長時間のスパッタリング作業も省力で可能 ■GenCor...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

ロードロック式スパッタリング装置

CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可能です！

ットにも対応し 全面エロージョンが可能です。 当社独自のスパッタカソードや急速昇降温基板加熱機構を搭載し 基板温度900℃を実現。 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜ができます。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■当社独自の急速昇...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

ド(1個)と電極層用カソード(2個)の計3元スパッタも仕様変更可能 (二酸化ケイ素SiO2や窒化ケイ素Si3N4,型式:SPR-015-B) ■排気系をクライオポンプに仕様変更可能 ■膜厚計で制御して積層する仕様変更可能(型式:SPR-015-B) ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

成膜装置 スパッタ装置

幅広い実績を誇ります。

【特徴】 〇ソース源には低価格の1”スパッタガンや2”～4”スパッタガンの成膜レシピ（ＰＣ制御）システムを有する装置まで幅広い実績を誇ります。 〇多数のオプションも備えております。 〇基板ホルダー（オプション各種・回転、ＸＹ、加熱、冷却、シャッター機構の追加等） ●詳しくはお問い合...

メーカー・取り扱い企業： バキュームプロダクツ株式会社

『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

『圧電膜形成スパッタリング装置』は、単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電膜まで連続成膜することが可能な製品です。 プラズマエミッションモニターによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜、圧電特性低下に寄与する元素検知も可能です。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 ※詳しくはP...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社