［環境への取り組み］発泡スチロールの再生原料

PR発泡スチロールを再生利用！環境に配慮したものづくりのお手伝いが可能です…

当社はプラスチック製品の製造・販売企業としての責任を果たすため、 素材の循環と持続可能エネルギーの利用拡大に取り組んでおります。 その一環として、製造過程で発生する発泡スチロールを再びPSペレットへ再生する仕組みを整えました。 再生されたPSペレットの一部は再び発泡スチロールの原料としても生まれ変わり、 発泡スチロール製品として再製品化も可能になりました。 環境に配慮したものづくりの一助として、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社石山

対極型磁選機 無料サンプルテスト実施中！ぜひご利用ください。

PR粉体からの磁性物除去が可能です。１ｍｍ以下の原料サイズに対応しています…

＜機器概要＞ 2.8Tの超強磁力で回収が難しい粉体中の様々な 磁性物の分離・除去を実現します。 2.0～2.8Tの強磁場を作ることができ、微量鉄粉の除去が可能です。 対象原料サイズ：1ｍｍ以下 化学プラント向けに注目されている磁選機です。　 ＜機器構造＞ 電磁石を搭載した2本の回転式ローターを搭載しており、ローター間で業界最大級の2.8Tの磁力を発揮します。 無料サンプルテ...

メーカー・取り扱い企業： 日本磁力選鉱株式会社 本社／エンジニアリング事業部

表面処理の特性予測ソリューション

複数の解析ソフトウェアを駆使した表面処理の特性予測ソリューションを提案…

セス装置の解析と表面状態の特性予測をまとめて提供します！ 【解析対象となる物理現象】 ・結合と活性化 ・成膜 ・スパッタや浸食 ・脱離や洗浄　　　など 【評価可能な表面特性例】 ・原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ・物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ・入射粒子の表面反応予測 ・処理後の表面粗さ評価 ・処理前後の親水性の変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

固体、粉体プロセスのモデリングツール 　『gFORMULATE』

プロセスモデルライブラリ（反応、結晶、湿式及び乾式粉砕、噴霧乾燥、湿式…

ステム全体のパフォーマンス解析が可能です。 ■　溶液晶析解析 ■　固液・固気分離、分級、造粒プロセス解析 ■　 経口吸収解析 当製品は欧米メガファーマの協力を得て開発されました。 原料、ユニット操作および製品性能の数理モデルの使用により、医薬品および医薬品の処方及び製造の最適化のための製剤設計が可能です。インビボ（in vivo）性能および製造可能性を含む品質特性に対して、新しい...

メーカー・取り扱い企業： シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ

【実験できない範囲も解析が可能】表面処理の特性予測ソリューション

専門知識を持った技術者がサポート！各種解析ソフトを組み合わせる事で、表…

【その他の特長】 ＜解析対象となる物理現象＞ ■結合と活性化 ■成膜 ■スパッタや浸食 ■脱離や洗浄　　　など ＜評価可能な表面特性例＞ ■原料ガスやプラズマの入射量やエネルギー、あるいは浸食/成膜速度の評価 ■物質の原子/分子データに基づきその材料特性を評価 ■入射粒子の表面反応予測 ■処理後の表面粗さ評価 ■処理前後の親水性の変...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ウェーブフロント 本社

製造ビッグデータ解析ソリューション『VectorScope』

集めて、知って、未来へ導く！“生産性向上”と“現場力強化”を実現する品…

『VectorScope』は、製造現場に蓄積されている、温度や圧力、原料組成など、 製造に関する様々なデータを独自の合成ベクトル手法で「製造状態」という新たな指標で可視化します。 この製造状態と製品品質との関係性を探ることで、お客さまと共に製造現場の 「生産性...

メーカー・取り扱い企業： 三菱ケミカルエンジニアリング株式会社

【導入事例】GaN製造装置のガスノズルの設計最適化

計算時間を大幅に短縮！プロセスインフォマティクス導入事例をご紹介！

局の電源としても採用が 期待されている、パワー半導体です。薄切りの円盤のウエハとして使われるのが 一般的ですが、最初に製造する状態は円柱形です。 GaNの円柱は、下から空いた穴からGaNの原料となるガスを噴出し、結晶を 成長させます。実際の穴は100個以上で、無限の組み合わせがあります。 シミュレーションをすると、それにかかるのは1条件なんと6時間。1000通りやると 6000...

メーカー・取り扱い企業： アイクリスタル株式会社

【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索

最適条件の探索に！多次元表示チャートの活用事例をご紹介！

詳細化学反応解析プログラムCHEMKINと連成した、 エッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小）となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IDAJ