• 乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈! 製品画像

    乾湿粉体原料 連続式『混練・造粒機』※納入事例集進呈!

    PR不等速2軸に各々配列の撹拌羽根で、付着性が高い対象物も効率よく混練・造…

     新日南『混練・造粒機』は、2500台以上の実績がある「ダウミキサー」ノウハウをもとに、製品化しました。    混練機『ダウミキサーPX型』は、回転速度が異なる2軸(不等速2軸)にらせん状配列の1条/2条巻の多様なパドル構成(複数特許取得)で、セルフクリーニング効果が常に作用して付着性が高い対象物でも効率よい混練効果と圧密効果が得られます。また、この作用で等速2軸式では避けられない、繰返し応力...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新日南 京浜事業所

  • いまさら聞けない!セラミックスの基本 ※解説資料無料進呈中 製品画像

    いまさら聞けない!セラミックスの基本 ※解説資料無料進呈中

    PRセラミックスの特長や材料から、設計上の注意ポイントまで一挙に解説

    セラミックスは硬い、電気に強い、熱に強い、腐食に強い といった特長がありますが 加工によっては歪みや曲りが起こりやすいことも事実です。 当社は1881年から140年以上続く、セラミックスメーカーです。 お客様の仕様に基づいてさまざまなセラミックス部品を提供してきた経験から、 セラミックスの特長を生かすための「設計上の留意点」もまとめた解説資料を作成しました。 【掲載内容】 ■セラミックスの特長...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社友玉園セラミックス

  • 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置 製品画像

    【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT(SWN…

    1100℃ ・Kタイプ熱電対 ◆Model. nanoCVD-8N(CNT用)◆ ・CNT生成用,常圧プロセス制御 他同上 ※ H2, Ar, N2, Ethanol, CH4等の原料、及び原料供給設備は付属しません。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説 製品画像

    静止空気より優れた断熱性能!高性能断熱材のメリットを解説

    なぜ断熱材『シルサーム』を導入するのか?そのメリットを解説します。

    当社では、静止空気以上の断熱性能を誇る、『シルサーム断熱材』を原料から最終製品まで、一貫して製造しております。 『シルサーム断熱材』の特徴 ■ ヒュームドシリカを原料とした断熱材 ■ ナノ粒子による微細な多孔質構造体 ■ 最高1600℃用途で使用可能 ...

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    メーカー・取り扱い企業: シルサーム・ジャパン株式会社

  • CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』 製品画像

    CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

    フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

    『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ

  • 【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介 製品画像

    【超耐熱】エンジニアリングプラスチック SCM8000のご紹介

    超耐熱・低吸水率・優れた摺動特性を誇るエンジニアリングプラスチックです…

    【SCM8000】は高耐熱性ポリイミドを原料に圧縮成形した超耐熱樹脂です。 高温下、腐食環境、何度も摺動する摩耗懸念の有る箇所に対して、優れた性能を発揮します。 エンジニアリングプラスチックの中では、加工性が良い材料です。 穴あ...

    メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課

  • ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】 製品画像

    ウエハースケール グラフェン合成装置【nanoCVD-WGP】

    Φ3inch、Φ4inch ウエハーサイズ対応プラズマCVD 装置。不…

    【装置構成例】 ・基板:Cu, Ni, 他..(フィルム, フォイル) ・原料:CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.. ・プロセスガス:H2, Ar, N2, etc.. ・基板サイズ:Φ4inch ・150W, 13.56MHz RF電源 ・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 液体ソースプラズマCVD装置 製品画像

    液体ソースプラズマCVD装置

    小型でスペース効率の優れた装置!基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

    当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的...

    メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社

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