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22件 - メーカー・取り扱い企業
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PR【GENIUS】は搬送、製品のバッファリング/アキュームレーション等様…
FlexLink が提供します【GENIUS】高効率プリント基板搬送システムは、製品範囲全体に標準アセンブリ機能を組み込んだ プリント基板ハンドリング ユニットの完全なラインを提供します。 すべてのモジュールは CE マークを取得しています。 【GENIUS】基板搬送システムには完全に独立したモジュール式のスタンドアロン ユニットが組み込まれています。 各モジュールにはオンボード制御システムが搭...
メーカー・取り扱い企業: ジーディー自動機械株式会社 フレックスリンク事業部
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PR〈国内製〉基板の供給・分割・排出を自動化(最大400×300mmに対応…
当社のルーター式基板分割機に、高速・高精度で切断でき、 自動化(マニュアルでの操作も可能)にも対応した『SAM-CT34XJ』が新製品としてラインアップに加わります。 基板の供給・切断・排出を自動で行えるのはもちろん、 カメラで基板を表示しながら簡単にティーチングが可能。 画像処理機能による、切断位置の自動補正にも対応しています。 【特長】 ■ルータービットの高さを自動で切り替...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社サヤカ
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低弾性でFPCの折り曲げが容易。薄型化・軽量化、設計自由度アップに貢献
『感光性カバーレイ(PICC)』は、柔軟性・絶縁性・実装性に優れた フレキシブル基板用のソルダーレジストです。 低弾性で基板が折り曲げやすく、基板設計の自由度アップに貢献するほか、 カバーレイが不要となるため基板全体の大幅な薄型化・軽量化が可能です。 【特長】 ■最...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社タムラ製作所
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ウエーハ製造プロセスのあらゆる部門に適応可能。
ゆる部門に適応可能な簡易型のレジスト塗布、現像装置。 マニュアル装置でありながら、ケミカルフィルタ、レジスト温調、現像液温調、塗布室の雰囲気温調・湿度制御などの各種オプションの搭載も可能です。基板サイズは最大300mmΦまで対応し、不定形基板にも対応可能な自由度の高い、高性能装置です。レジスト系統数や現像液系統数、BSR(バック・サイド・リンス)/EBR(エッジ・ビード・リムーバ)の自由な組...
メーカー・取り扱い企業: リソテックジャパン株式会社
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カバーガラス一体型タッチパネル(OGS)用レジストコーター
セル方式のOGS量産用スプレーコーター。 ガラスキャリアに化学強化済みのガラス基板(個片)を張り合わせ、複数個取りの状態でOC1などのレジストコーティングを自動で行う量産用装置。 レジスト膜厚2um前後で±5%(個片)のユニフォーミティを実現し、OGS量産プロセスの歩留まり向上...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アピロス 本社
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190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ
主な特長 1.定評のある500Wマルチライト光源を搭載しています。 2.基板供給、アライメント、露光、基板排出を自動で行うとともに、ウエハ搬送はクラス最高水準である毎時190枚(2インチウエハ)の処理能力を実現しています。 3.マスクとウエハの平行出しは、補正機能板で露光...
メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社
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フレキシブルプリント基板(FPC)用の高精度片面露光装置
ンを焼きつけます。 装置は、ロール巻出機→クリーンローラ装置→エッジコントローラ装置→露光部→ロール送り部→ロール巻取機によって構成されます。 【主な特長】 平行光光源による高解像度 高精度基板搬送(サーボロール送り、エッジコントローラ) テンション(張力)コントロールが可能 露光部クリーン対応(上部HEPAユニット装備、露光部内面はSUS板)...
メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社
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研究開発向け枚葉式レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』
昇温した有機薬液による化学反応と高圧ジェットの物理的アシスト利用した剥…
【仕様】 ■対応ワークサイズは、2~8インチ(※角基板、12インチはお問合せください) ■ワークは作業者による手載せ ■薬液昇温機能有り ■防爆ガラス等安全仕様有り ■ノズル各種仕様変更可能(※詳しくはお問合せください) ...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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霧化方法・薄膜形成方法など、当社の最新ノウハウを初心者の方にも分かりや…
実装基板への防湿コーティング(コンフォーマルコーティング)、高機能材の精密薄膜形成、バブルフリーの乾燥プロセスなど、スプレーコーティング技術の開発・提供を行っている当社では、ただいま『薄膜スプレーに関する技...
メーカー・取り扱い企業: Shimada Appli合同会社 コーティング開発部
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自動レジスト現像装置(枚葉式) デベロッパー Developer
枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…
枚葉式フォトレジスト現像装置です。 パドル現像、スプレー現像(1流体、2流体)など様々な現像プロセスに対応できます。 薄型ウェハや角基板など多数実績がございます! また、厚膜レジスト現像~微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載(オプション:全面露光ユニット) ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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半自動リフトオフ装置(セミオートリフトオフ機)Lift-off
自動機よりも安く、マニュアル装置より使いやすいセミオートタイプのリフト…
ウェハ(基板)をセットするだけで自動で搬送・リフトオフ・リンスを行う装置です。 リフトオフはASAP特殊ノズルによる高圧ジェットによりバリも除去し、メタル剥離を行います。 カセット(キャリア)でセッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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【複数サイズのウエハを段取り替えなしで処理!】複数サイズ兼用装置はダウ…
処理が可能なリフトオフ装置をご提供します。 【複数サイズ兼用の例】 「2・3」、「2・4」、「3・4」、「4・6」、「6・8」インチ 【薄型ウェハにも対応!】 高圧ジェットはウェハ(基板)が薄いと割れるのではないか?という声をよくお聞きします。 弊社では厚さ120umのGaAsのリフトオフの実績もございます(圧力3MPa) デバイスによって圧力調整なども自由に行えます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に…
ターン欠陥などの歩留まり改善やトラブル対策に必須な技術も含まれており、フォトレジスト材料を扱う技術者の一助となるように構成されております。 【本書の特徴】 ➢ 半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないレジスト材料 ➢ フォトレジスト材料、プロセス、評価・解析、処理装置までを幅広く網羅 ➢ デバイス製品規格をクリアできる技術の基礎およびノウハウの習得を目指す ➢ パターン欠陥な...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーエムシー・リサーチ
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高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置
の現像処理が出来ます。 ウエハの搬送は装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し、ローダー、アンローダーも備えています。 【特長】 ○2インチから18インチのウエハ及び300mm□基板が対象 ○ローダーより多関節ロボットを使用 ○各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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塗料ロスが極めて少なく、対応電池パネルやガラスの製造ラインにも対応。
太陽電池パネルやガラスの製造ラインの装置にも対応! ●膜厚均一性が高い ●両面同時塗布 ●塗布効率が向上 ●薄い基板に塗布できる すべてオーダーメイドにてお作りします。 各種装置、製造ラインのメンテナンス、ライン改造に関しても、お問い合わせ下さい。 機器について、部品の手配、消耗品の取扱も行なっておりま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ファイコーポレーション
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簡単操作のCtoCロボット搬送付き現像/エッチング装置。用途によりデベ…
スピン・スプレー方式現像/エッチング装置に搬送ロボットを搭載することにより、セットされた基板カセットから自動的にローダー・アンローダーを行い連続処理を行ないます。...
メーカー・取り扱い企業: アクテス京三株式会社 技術センター
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フレキシブルプリント基板(FPC)用の高精度両面露光装置
両面同時露光により高い生産性を実現します...FPC両面回路形成用露光機で、ロール状両面FCCLに、ドライフィルムをラミネートしたものに対し、両面回路を高精度で露光可能です。 両面同時アライメントを行い露光するため、FPCの裏表露光精度を高めることができます。 また、両面同時露光を行うので、高い生産性が得られます。...
メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社
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今までの露光装置とは生産性が違います!
◆高生産性 ・高スループット:最大5枚/分 ・大基板サイズ対応:最大30×24インチ ◆高精度露光 ・高精度アライメント:新画像処理システム ・安定露光:楔形真空接合方式 ※詳細は『カタログダウンロード』か『お問い合わせ...
メーカー・取り扱い企業: 豊和工業株式会社 機械事業部CE営業グループ電子機械チーム
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低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…
●ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど多彩な薬液の使用実績あり ●Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績 ●GaAs(厚み150um)、InP(厚み150um)、LT(厚み120um)など薄い基板の搬送実績多数! ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現…
自動酸・アルカリ洗浄装置。 対応ワークサイズ φ2~12インチ。角型基板などの特殊サイズもご相談ください。 2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。混合比率を調整することにより反応熱で狙いの温度に昇温することが可能。 【その他特長】 ■...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ダルトン
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試作開発 枚葉式自動レジスト剥離・リフトオフ装置『高田工業所製』
昇温した有機薬液による化学反応と、高圧ジェットの 物理的アシスト利用…
【仕様】 ■対応ワークサイズは、2~8インチ(※角基板、12インチはお問合せください) ■スカラロボットによるワークの自動搬送 ■薬液昇温機能有り ■自動消火システム、防爆ガラス等安全仕様有り ■チャンバー内部の自動クリーニング機能 ■ノズル...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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【枚葉式でDIP並みの膨潤】リサイクル式循環ヒーターにより、高温・高剥…
やメタルの再付着がありません! 厚膜のメタル、酸化膜など、エッチングで困難な厚膜のパターニングに好適な超高圧ジェットリフトオフ装置です。 ●薄型ウェハにも対応! 高圧ジェットはウェハ(基板)が薄いと割れるのではないか?という声をよくお聞きします。 弊社では厚さ120umのGaAsのリフトオフの実績もございます(圧力3MPa) デバイスによって圧力調整なども自由に行えます。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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1流体スプレー方式自動フォトレジスト現像装置(デベロッパー)
厚膜現像や処理時間短縮に効果を発揮する1流体現像装置です。スプレー形状…
1流体スプレー方式の現像装置です。 現像液の圧力でスプレーをするため、スプレーによるミストが飛び散りにくく、また現像スピードを速くすることができます。 大型基板や厚膜の現像に最適です。 スプレーノズルは扇形、円形などの形状と分布や広がり角度や範囲も自由に選択できます。 当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載。 マニュアル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
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高性能のポンプを使用し高精度の塗布を行うウエハレジスト塗布装置
ウエハの搬送は装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し、ローダー、アンローダーはFOUPまたはカセット式が有ります。 【特長】 ○2インチから18インチのウエハ及び300mm□基板が対象 ○ローダーより多関節ロボットを使用 ○各工程を経てアンローダーカセットまで自動で処理 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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