プリント基板 設計・製造サービス

PRプリント基板1枚から製造対応可能！国内はもちろん海外基板メーカーからも…

当社で実施している『プリント基板 設計・製造サービス』をご紹介します。 データを頂ければ、最短日数で片面1日、両面2日、多層4日で製造が可能。（さらに短縮も可能） ご予算に応じて、ご希望の仕様に仕上げます。 他にも当社では実装部品調達・部品実装やシミュレーション対応などの取り扱いも ございます。不明点など何でもお気軽にお問い合わせください。 【主な基板の種類】 ■リジッド基板（2層極薄～高多...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東海

【自動化対応】ルーター式基板分割機『SAM-CT34XJ』

PR〈国内製〉基板の供給・分割・排出を自動化（最大400×300mmに対応…

当社のルーター式基板分割機に、高速・高精度で切断でき、 自動化（マニュアルでの操作も可能）にも対応した『SAM-CT34XJ』が新製品としてラインアップに加わります。 基板の供給・切断・排出を自動で行えるのはもちろん、 カメラで基板を表示しながら簡単にティーチングが可能。 画像処理機能による、切断位置の自動補正にも対応しています。 【特長】 ■ルータービットの高さを自動で切り替...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サヤカ

イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの表面研磨をイオンビームにて行うIBF装置を世界に展開していきます。 【特長】 ■精密光学に用いられる各種基板材料の表面をイオンビームで処理加工しλ/200の超精密研磨が可能！ ■レーザー光学部品をはじめ、天体望遠鏡・DUV・EUV・Ｘ線ミラー等の生産にご使用いただけます。 ■高真空チャンバー内でイオン...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。 半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

直接描画装置『Ledia6』

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可…

『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・ 高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに 信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREEN PEソリューションズ 本社

LVH等の孔検査に最適な光学式外観検査装置　『MIYABI 7』

スルーホールやレーザービア（LVH）検査に多くの実績あり。長年の知見と…

◆スルーホールやレーザービア（LVH）をパターンと同時に全穴検査 ◆あらゆる基板を高精度に検査する新開発の照明系 ◆パッド・ラインを個別に条件設定、欠陥検出精度を向上 ◆フロントソフトウェアセットアップ時間短縮(約15分)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREEN PEソリューションズ 本社

レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

300nm ●長寿命GaNレーザーダイオード採用、405nm(オプション：375nm） ●グレースケールレベル4095階調 ●3つの描画モード（300nm、500nm、900nm) ●対応基板サイズ5mmx5mm～8インチ＊モデルにより異なる ●様々なCADに対応 ●3D構造に特化したソフトウェア装備機種もあり PicoMasterシリーズ ●PicoMaster 100（テ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロック（最大10ホルダー） 研究開発向け電子線描画装置ラインナップ ●Pioneer Two（EBL-SEM hybrid）50mmｘ50mmまで...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

000階調） ■豊富な機能と拡張性により複数用途に対応 ■6つの描画モード（0.3um-4.0um)まで（ピクセルサイズ）切替が可能 ■裏面アライメントも可能な高精度の重ね合わせ ■対応最大基板サイズは9インチ×9インチ ■様々なデータ形式に対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。 ...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

リニアイオンソース『LION』

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

水素を除去し、必要なら酸素追加が可能 ■仰角調節可能な外付けバージョン、フランジ取付けバージョン提供可能 ■頑丈でスケーリング可能な設計 ■高エネルギーで強く集束されたビーム ■様々な種類の基板材料の前処理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

【事業紹介】特殊アプリケーション

特別注文対応チーム！大規模生産に向けた理想的なソリューションを提供

に優れた、 大規模生産に向けた理想的なソリューションを提供します。 【その他の事業（一部）】 ■建材およびモビリティー向けのガラス成膜 ■薄膜太陽電池 ■結晶太陽電池 ■フレキシブル基板 ■モジュール式プロセスシステム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社

内層板用両面同時露光装置　光 ＨＤＥ１１０Ｓ

今までの露光装置とは生産性が違います！

　　◆高生産性 　　　・高スループット：最大5枚／分 　　　・大基板サイズ対応：最大30×24インチ 　　◆高精度露光 　　　・高精度アライメント：新画像処理システム 　　　・安定露光：楔形真空接合方式 　※詳細は『カタログダウンロード』か『お問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 豊和工業株式会社 機械事業部ＣＥ営業グループ電子機械チーム