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11件 - メーカー・取り扱い企業
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PRトーチ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0新発売!ダブルワイヤー…
HSG社製ハンディ式ファイバーレーザー溶接機FMW-V2.0 より小型になり、より使いやすくなりました。 ファイバー溶接ですから、スピーディーに溶接ができ、溶け込みが良く、見栄えも綺麗な溶接が可能です。 その上、FMW-V2.0は ★ダブルワイヤー送給装置が標準装備! ★シングルモードだから集光性が優れる! ★軽量トーチで操作性も抜群! ★レーザークリーナー、簡易レーザーカッターとし...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヨコハマシステムズ レーザー事業部
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PR世界有数の高炉メーカーと共同開発した特殊鋼を使用。電動&低ランニングコ…
当社の『二軸破砕機』は、電動+インバータによる高い破砕力と 低ランニングコストを実現した国産破砕機です。 高効率な破砕メカニズムにより、様々な廃棄物の削減に貢献します。 また、破砕後の品をリサイクル材料として再利用することで、 持続可能な循環型社会の実現をサポート。 廃棄物削減を目指す工場やリサイクル業界での利用に適しています。 【特長】 ■電動駆動で高い破砕力を発揮 ■低...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社新居浜鉄工所
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充填層、循環槽、デミスターが一体型のため循環槽や、ミスト分離器を別途設…
被処理ガスは、本体下部ガス入口より導入され、充填層のハイレックスを通過し、上部のガス出口から排出されます。一方、吸収液は、充填層の上部から散布され被処理ガスと向流接触します。この間にガス中の対象物質が液側へ拡散、溶解吸収されます。 【特長】 ■効率除去:設計条件に合った高性能充填物ハイレックスを選定 ■圧力損失、安い動力費: ■コンパクト設計: ■種応用設計に対応:吸収塔のほか、放散...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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20μm以上のミストを99.9%除去可能な高効率排ガス・粉塵処理装置を…
ズ♦ ・99.9%以上の高除去率対応のコンパクト一体型排ガス処理装置 ・ユーティリティーに接続するだけで、即使用可能 ♦パッドスクラバーE730シリーズ♦ ・高効率ハイレックスを採用し、循環層・でミスター一体グリット使用により、低圧力損失で高効率除去ができ、飛沫同伴の心配がない ♦ベンチュリースクラバーE720シリーズ♦ ・大口径スプレーノズルからの洗浄噴霧により、スラリー含有...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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設計除去率が20μm以上の粒子99%以上!処理ガス量290m3/min…
イーテクノが行った、ミストエリミネーター2段式の納入事例を ご紹介します。 食塩ダストを除去対象物質とし、処理ガス量290m3/min、 温度は20℃です。気液接触は水(循環+補給)にて除去。 設計除去率は、20μm以上の粒子99%以上となりました。 【事例】 ■納入先業種:食品 ■設計・設置機器:ミストエリミネーター2段式 ■処理ガス量:290m3/...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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高効率・低圧力損失・低ランニングコストを実現!※納入実績例あり
プ一覧】 ◆スクラーバーユニット EHCUシリーズ:ハイレックスを使用した高性能・高効率・コンパクト設計の一体型。 ◆パックドスクラバー E730シリーズ:充填材にはハイレックスを採用。充填層、循環層、デミスター等を一体化した円筒型スクラバー。 ◆ミストエリミネーター E922シリーズ:20μm以上のミストを99.9%以上回収・除去。高効率・低圧力損失の“e-ブレード”。 ◆ベンチュリース...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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高効率・低圧力損失・低ランニングコストを実現!事例集を無料プレゼント中…
プ一覧】 ◆スクラーバーユニット EHCUシリーズ:ハイレックスを使用した高性能・高効率・コンパクト設計の一体型。 ◆パックドスクラバー E730シリーズ:充填材にはハイレックスを採用。充填層、循環層、デミスター等を一体化した円筒型スクラバー。 ◆ミストエリミネーター E922シリーズ:20μm以上のミストを99.9%以上回収・除去。高効率・低圧力損失の“e-ブレード”。 ◆ベンチュリース...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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大口径スプレーノズル採用で高い集塵効率と補給水低減を実現!
に優れた特性を持ち、納入実績の多い装置です。大口径スプレーノズルからの洗浄液の噴霧により、液とガスを完全混合し高い集塵効率を発揮します。また、 大口径スプレーノズルを使用している為、スラリー含有液も循環使用が可能で補給水を少なくできます。 【特長】 ■FRPを構造材としているため、軽くて強く、しかも優れた耐蝕性を発揮 ■処理風量に応じてサイズが規格化されており、設計及び製作納期の短縮が可...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は4568Nm3/h!気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、…
を ご紹介します。 処理ガス量は4568Nm3/h、温度は60.4℃、白色顔料粉塵を除去対象物質とし、 ばいじん0.2g/Nm3→0.01g/Nm3以下となりました。 気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、ヒューム除去。 循環液中の粒子は沈殿させ回収させます。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:予冷塔+ベンチュリ―スクラバー ■処理ガス量:4568Nm3...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は1160m3/min、塩分回収濃度は200~260g/L。…
処理ガス量は1160m3/min、温度は90℃(スタート時165℃)、濃度17.24g/m3の 食塩ダスト(ダスト量1200kg/h)を除去対象物質としています。 気液接触は食塩カン水(循環+補給)にて、除去し、塩分回収濃度は200~260g/L、 設計除去率は、20μm以上の粒子99%以上となりました。 【事例】 ■納入先業種:食品 ■設計・設置機器:ミストエリミネータ―...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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入口濃度10vol%を出口濃度0.5vol%以下に除去!塩素ガス吸収塔…
吸収塔の納入事例をご紹介します。 入口濃度10vol%を出口濃度0.5vol%以下に除去。処理ガス量は 1800m3/h、除去対象ガスは塩素ガスです。 また、カセイソーダを吸収液とし、循環層は20m3となります。 【事例】 ■納入先業種:化学 ■設計・設置機器:塩素ガス吸収塔 E730シリーズ ■処理ガス量:1800m3/h ■除去対象ガス:塩素ガス ■ガス温度:40...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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処理ガス量は100Nm3!カーボン微粒子を除去対象物質とした環境装置納…
。 【事例】 ■納入先業種:活性炭製造 ■設計・設置機器:予冷塔+ベンチュリ―スクラバー ■除去対象物質:カーボン微粒子 ■出口ガス温度冷却(目的:水蒸気白煙低減) ■気液接触:水(循環+補給)予冷却塔+ベンチュリ―スクラバー ■材質:予冷却塔=耐熱、耐蝕FRP、ベンチュリ―=耐蝕FRP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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【納入事例】予冷塔+ベンチュリ―+デミスター塔+充填塔×2基
酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g/Nm…
イーテクノが行った、予冷塔+ベンチュリ―+デミスター塔+充填塔×2基 の納入事例をご紹介します。 気液接触は水(循環+補給)にて、冷却、ヒューム、除去し、苛性ソーダ水溶液を 液PH制御にて、注入して酢酸吸収。 除去対象物質の酢酸ガスは25000ppm→1ppm以下、ヒューム状昇華物は5g/Nm3 →0....
メーカー・取り扱い企業: イーテクノ株式会社 本社
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