振動 | イプロスものづくり

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メーカー・取扱い企業

テルモセラ・ジャパン株式会社

超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』

PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…

『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...
メーカー・取り扱い企業：千代田交易株式会社
変成シリコーン系弾性接着剤『ダイアエコピタDX』

PRポリオレフィンなどの難接着素材に対応。有害物質を含まないVOC対策品で…

変成シリコーン系弾性接着剤『ダイアエコピタDX』は、 1液型で、常温で素早く硬化する使いやすい高性能接着剤です。ポリオレフィンをはじめとした難接着素材に対する良好な接着性を実現。高い接着性能と環境性能を実現しており、多用途で活躍します。また、耐寒・耐熱性に優れ、温度に依存せず高い接着強度を維持できます。【特長】 ■ホルムアルデヒド、トルエン、フタル酸エステル系可塑剤を含...

メーカー・取り扱い企業：ノガワケミカル株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）オプション・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）・APC自動制御（キャパシタンスマノメータオプション）・水晶振動子膜厚モニタ・シャッター・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御も可能・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

パッタカソード x 1 ・抵抗加熱蒸着源（最大2）・有機蒸着源（最大2） ◆基板サイズ◆ ・〜Φ4inch/Φ100mm基板ホルダー（特注ホルダー応相談） ◆膜厚センサー◆】・水晶振動子膜厚センサー x 1 ◆真空排気◆ ・ターボ分子ポンプ、ロータリーポンプ ◆付属ソフトウエア◆ ・IntelliLink Windows PCリモート監視ソフトウエア ◆オプション◆ ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

nch ・基板回転・上下昇降・加熱（500℃）・プロセスガス制御：MFC x 1（Ar標準、最大3系統増設：N2, O2）・APC自動制御（キャパシタンスマノメータオプション）・水晶振動子膜厚モニタ・シャッター・寸法：804(W) x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

るつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動多層連続成膜・多元同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル成膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

cるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・その他オプション：基板回転/昇降, 基板加熱（Max500℃、又は800℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動/自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ２・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

cるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8）・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッドｘ4 ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310）多チャンネル薄膜コントローラ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社