小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

PRクリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定…

『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D39...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイブリッジ 東京営業所

独自の安全機構でガス充満による酸欠事故を防止『グローブボックス』

PR真空装置メーカーの技術・経験を結集！自社設計により柔軟な仕様変更とリー…

当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する 『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。 内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、 グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。 グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。 【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイエルエステクノロジー

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、 外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。 サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。 簡単に試料セットする事ができます。 オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで 製作し価格を下げております。 また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を 上下できる機構を備えています。 【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■試料の取付は、下部よりモーターによる上下機構で交換 ■漏洩マイクロ波検出用...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

太陽電池の生産ニーズに合致した大量生産を可能にするために、大型ディスパージョンヘッド(ガスノズル)と超高速ダブルアーム搬送機構を搭載しています。 また、太陽電池用薄ウェハ対応のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

赤外線反射防止膜用ＤＬＣコーティング装置

高い赤外線透過率をもつＤＬＣ膜をハイレートで基板両面に形成。 安定の…

独自開発高密度プラズマ源（ＰＩＧプラズマ源）を装備 自公転機構によるハイレート全面成膜機構 各種赤外線光学素子の対応した充実のソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

クリーンルーム対応5mm角ウエハ用小型ベルヌーイチャック

排気を上方向に排出する機構を採用。周囲のチップを噴出気体により吹き飛ば…

圧力式エアクッション効果による正圧を生じ、小さく 裁断されたウエハチップを空中に浮遊した非接触（非接触） 状態にてチャックし、所定の場所に搬送します。 　　　　　 　この新機構として吸着パッドの周囲に排気路を変更する 回路を設けており、排気方向を変更します。そのため排気 が周囲のチップを吹き飛ばすことはありません。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置：フロートチャックSAC型

オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…

ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。 新機構：非接触搬送装置「フロ－トチャックSAＣ型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー効果を付加さ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

気体垂直気体噴流方式のベルヌーイチャック

空気噴流によりワークを非接触にて懸垂搬送! ベルヌーイチャック

新機構「気体垂直噴流方式」を採用しております。、気体垂直噴流方式はクッション室にノズルより噴出する気体流を垂直気体噴流させることり、クッション室内の気体流の摩擦損失を減少させ、負圧発生の効果を増し、従来型...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

シャッター

ビューイングポートへの蒸着保護および光・ビームの遮断にご利用ください。

ベローズ式回転導入機を使用した信頼・実績のある機構を採用 超高真空領域まで使用可能 バタフライ式でなおかつシャッター折り曲げ式機構のため、視界が広範囲 回転ロック機構付きで、開度が任意に設定可能 両端コンフラットフランジ（両刃）のため、配管...

メーカー・取り扱い企業： 入江工研株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社DINOVAC

大量生産用連続式常圧CVD装置『A6300S』

SiCトレーを採用！搬送システムで、大量生産を可能にするとともにコスト…

『A6300S』は、毎時120枚のスループットを擁する小口径ウェハ対応 大量生産用連続式常圧CVD装置です。 自動トレー交換装置、ヘッド昇降機構を備え、メンテナンス時間を短縮し 生産可能時間を延伸するとともに、お客様の大量生産のニーズとオペレータの 安全にも配慮しました。 【特長】 ■高い生産性：毎時120枚の処理が可能 ■重...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

【その他の特長】 ■ターボポンプ搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8(MC-100)、6(MC-200) ■チャンバー加熱機構(最大 300℃) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

るつぼｘ8） ・Φ2〜4inchマグネトロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動/自動多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマイオン注入成膜装置

日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です…

易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

『事例』ガス供給ラインバルブの安全対策 ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ半開によるヒヤリハット事例がある方、狭所で…

> 概略 < ・お困りではありませんか？丸ハンドルのダイヤフラムバルブの安全対策 ・バルブを変えて、ヒューマンエラーを防止 ・開閉状態が一目でわかるスプリングリターン機構のクイックターンバルブ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社キッツエスシーティー

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

D装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送機構の改良により高スループットを実現しました。 SiCトレーの採用により重金属汚染は発生しにくくなり、また熱による経年変化が少なく安定したプロセス性能が得られます。 【特徴】 ○高スループット...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社天谷製作所

真空蒸着フィラメント、ボート

少量パックのオンライン販売で必要な分を必要なときに！

真空蒸着装置に使われるフィラメント、ボート。真空機構の部品オーダーメイド部品。液晶、半導体製造プロセスに使われる消耗部品、特注冶工具。...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ビット･テック

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

熱式 チャンバー温度：最高350℃ プロセスレシピの例：Al2O3, SiO2, TiO2, HfO2, ZrO2, Pt, Ru カスタマーレシピ作成モードもあります インターロックと安全機構付き ...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。 米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシス...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-221-Y PLDシステム

PLAD-221-Y PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

チウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

PLAD-161 PLDシステム

PLAD-161 PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

トロンスパッタリングカソード x 最大４源 ・プロセス制御：手動、又は自動連続多層膜・同時成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：基板回転/昇降, 基板加熱（Max500℃、又は800℃）, プラズマエッチングステージ, ドライポンプ , ロードロック機構

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中 】 弊社トランスファーロッ…

への応用が可能です。 本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 駆動部のストッパーを使用することで、任意の距離・角度での位置決めが可能です。 オプションとして、回転止め機構や延長ハンドルを取り付けることが可能です。 また、腐食性ガス対応の仕様もございますので、ご相談下さい。 ＜3機種共通仕様＞ 許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec 許容加...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

PLAD-250R PLDシステム

PLAD-250R PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-261PG PLDシステム

PLAD-261PG PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

エキシマレーザパルス蒸着システム

エキシマレーザパルス蒸着システム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-271PE PLDシステム

PLAD-271PE PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-150Y PLDシステム

PLAD-150Y PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社

PLAD-250E PLDシステム

PLAD-250E PLDシステム

スト（IBAD）蒸着法 に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。 高い雰囲気中ガス（酸素、窒素、アルゴン等）下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。 製品の詳細情報はWebサイトをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： AOV株式会社