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PR脱炭素関連、新エネルギー関連の研究開発用プロセスポンプ! CO2、水素…
脱炭素社会、新エネルギー開発において、従来のガスポンプでは対処しきれない多くの技術的課題があります。 KNFプロセスポンプは下記の特長を活かして技術的な課題解決に貢献します。 燃料電池及び評価システムをはじめ、脱炭素関連や新エネルギー関連の研究開発企業や研究機関でご利用いただけます。 【主な特長】 ◆コンタミフリー ◆豊富な接ガス材質 ◆加圧特化仕様 許容最大吐出圧 1.2 MPa ポンプ選定...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケーエヌエフ・ジャパン KNF JAPAN
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真空はんだリフロー装置・酸化膜還元装置『RSS-210-S』
PRギ酸・水素還元両対応!最大200mm×200mmの基板に対応可能な卓上…
ギ酸・水素還元両対応卓上型真空はんだリフロー装置です。 業界最小クラスのコンパクトさながら、 大気・窒素・還元雰囲気(ギ酸または水素)、 また真空リフローにも対応。 さらに高速昇温・水冷方式による高速降温を実現しているので 研究開発や試作に適したモデルです。 はんだリフローや金属の酸化膜還元処理の他、ペースト材料の焼結など、様々な アプリケーションにも柔軟に対応します。 【特長】 ■フラック...
メーカー・取り扱い企業: ユニテンプジャパン株式会社
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【完全硬化に約20秒】効率性を格段に向上!防湿絶縁コーティング剤
電子基板コーティングに!UV照射でコーティング剤を短時間硬化し生産性ア…
【特徴】 ◎UV照射により、短時間で硬化できます ◎UV湿気併用硬化型のため、非照射部でも硬化します ◎無溶剤のため、VOCフリーです ◎防湿性・耐硫化水素ガス腐食性に優れます ◎各種信頼性試験で、安定した絶縁性を保持します ◎厚塗り、ポッティング用途にも使えます ※ご希望に沿った粘度調整、着色も対応可能です ※商品名にFがついている商...
メーカー・取り扱い企業: 富士化学産業株式会社
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湿気・粉塵・振動などから基板を守る!無溶剤で安全!薄膜でも高い防湿・防…
【特徴】 ◎UV照射により、短時間で硬化できます ◎UV湿気併用硬化型のため、非照射部でも硬化します ◎無溶剤のため、VOCフリーです ◎防湿性・耐硫化水素ガス腐食性に優れます ◎各種信頼性試験で、安定した絶縁性を保持します ◎厚塗り、ポッティング用途にも使えます 【主な仕様】 主成分:ウレタンアクリレート 粘度:100mPa・s 硬化...
メーカー・取り扱い企業: 富士化学産業株式会社
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