• 水系工業用洗浄剤『VB1000』 製品画像

    水系工業用洗浄剤『VB1000』

    PR水とミネラルのみの水系工業用洗浄剤『VB1000』

    『VB1000』は特殊な製法で作られた水系工業用洗浄剤です その中身は99%以上の水と1%以下のミネラルのみによって構成され、人や環境に悪影響を与えない極めて安全な工業用洗浄剤です。 「分子運動が激しい高いエネルギー性と純水に比べ約25%低い表面張力の高い入り込み性」「㏗=12という高いアルカリ性」「特殊な電気エネルギーによる静電反発効果」の3つの要素で高い洗浄性を発揮します。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イノセンス

  • ミニコート法、流動浸漬法による樹脂コーティング 製品画像

    ミニコート法、流動浸漬法による樹脂コーティング

    PREV向け絶縁粉体塗装に対応。少量試作、部分的なコーティング、下地処理を…

    当社は、ミニコート法や流動浸漬法による樹脂コーティングを手がけており、 バネやクリップ、エアバッグ・シートベルト部品へのコーティングから、 高精度を要求されるEV向けバスバーの絶縁粉体塗装まで幅広く実績があります。 様々なカラーを用意し、少量試作の依頼にも対応可能。 ナイロン、ポリエチレン以外の樹脂材料を用いたコーティングや、 下地処理を含む依頼にも対応可能です。 【こんなお悩...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社みどり化学

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ジー ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能と...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。 ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・希少なターゲットを用いる成膜工程でのコスト削減にも貢献します。 <特長> ■高速・高効率イオンビー...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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