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PRコンパクト設計のCMP研磨機。研究開発にお勧めです!
卓上CMP研磨機『EJ-380IN-CH-D』は、コンパクトなボディで設置場所を省スペースに抑えます。試料片研磨加工や多種少量部品の研磨等の研究開発用途だけでなく、本格的な精密研磨加工まで幅広いニーズに対応できる卓上ラップ装置です。 <特徴> ・精密鏡面加工の自動化 ・耐薬品性に優れたボディ設計 【使用可能定盤外径 : Φ380 mm】 また、本装置を2024年10月2日...
メーカー・取り扱い企業: 日本エンギス株式会社
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PR研磨加工、ガラス加工、セラミック加工など粉塵環境下の使用に威力を発揮
〇特殊シールとエアパージにより本体内への切粉、研磨粉などの粒子の侵入をシャットアウト 〇エア消費量の小さいパージ構造 (0.3L/min) 〇発熱の小さいシール構造 〇長寿命シール 〇シール部の清掃交換が容易な構造 〇コンパクトな胴厚 〇特許出願済...★炭化ケイ素とアルミナを混濁させたスラリー内で100万サイクル*の耐久試験をクリア * 1サイクルは 正転180°→ 正転180...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社北川鉄工所
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凝集剤の添加をせずに含水率50~80wt%の汚泥脱水が可能!ろ過処理水…
ユアサ逆洗型平膜システムとは、吸引ろ過により平膜表面に汚泥ケーク層を形成させ、逆洗によりケークを剥離、回収する装置です。 シリコン研磨粉回収、レアメタル回収、その他無機系SSの回収にご活用いただけます。 凝集剤未使用で含水率50~80wt%の汚泥脱水が可能で、公称孔径0.25μmの膜採用により、ろ液中SSは1mg/L以下を実...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユアサメンブレンシステム
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