• 三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ 製品画像

    三明MEMS【露光装置/マスクアライナー/ローコスト】シリーズ

    PR研究開発から、小LOT多品種、量産まで対応する「手動・半自動・全自動」…

     株式会社三明では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「LAシリーズ片面マスクアライナー」や、 両面プロセスのローコストアシストモデル「BAシリーズ正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスの スタンダード量産機である「BSシリーズ両面同時露光マスクアライナー」といった手動型の露光機をはじめ、 小ロット多品種から量産まで対応した半自動の「セミオートマスクアライナー」や全自動の「フルオートマ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三明 本社/静岡市、支店/東京・沼津・中部・大阪、営業所/横浜・北関東・山形・名古屋・北陸・長野・八戸

  • 「JIMA2024 第12回総合検査機器展」出展のお知らせ 製品画像

    「JIMA2024 第12回総合検査機器展」出展のお知らせ

    PRデジタル超音波探傷器、超音波軸力測定制御装置、ポータブルTOFD装置な…

    菱電湘南エレクトロニクス株式会社は、メカトロニクス、高周波技術、超音波探傷技術を活用した システム及び電子機器の設計、製造、販売、保守を行っています。 この度、東京ビッグサイトにて開催される「JIMA2024 第12回総合検査機器展」に出展することとなりました。 超音波探傷器、超音波軸力測定制御装置、ポータブルTOFD装置など デモンストレーションを交えながら展示予定です。 また、新製品のデジ...

    メーカー・取り扱い企業: 菱電湘南エレクトロニクス株式会社 検査計測事業部

  • SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置) 製品画像

    SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置

    サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

    自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 R&D用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード&ソフトの実現...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置) 製品画像

    水素フリーDLCコーティング装置(高密度スパッタADMS装置

     独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成(水素含有量1%以下)優…

    従来に無い水素フリーDLC膜(膜中水素含有量1%以下)を量産装置で実現 成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置(ADMS=アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置) 水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ハイブリッド硬質膜コーティング装置(DLCーCVD+PVD装置) 製品画像

    ハイブリッド硬質膜コーティング装置(DLCーCVD+PVD装置

    CVD-DLCと硬質膜用PVDの複合型コーティング装置。スムースサーフ…

    自動車用のDLC膜に実績豊富なPIG式DLC膜コーティング装置に高密度スパッタカソードADMS機構(アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード)を多元追加。トライボロジー特性に優れたDLC膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • マルチチャンバスパッタリング装置 製品画像

    マルチチャンバスパッタリング装置

    20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

    積極対応。 R&D・ディスクリート・化合物・MEMS・パッケージ・実装工程・マスク・小型FPD 多くの基板に専用機構を用意。 基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード(ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用)に加え特殊基板機構(高温加熱・磁場印加・冷却等)で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステスト...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • SiCコーティング装置(AF-IP装置) 製品画像

    SiCコーティング装置(AF-IP装置

    緻密で耐摩耗性と耐酸化性に優れたSiC(シリコンカーバイド)膜をPVD…

    たイオンプレーティング法のためシンプルで環境負荷の少ないクリーンなプロセスを実現。 膜厚や膜質の制御性も高くCVDに比べ、排ガス処理・メンテナンス性・設置面積・ランニングコストの全てに優れた新成膜装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ICPメタルエッチング装置 製品画像

    ICPメタルエッチング装置

    Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応!デモ機常設!…

    『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの特殊プロセスにも積極対...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置) 製品画像

    横型水素アニール装置(可変雰囲気熱処理装置

    小径ウェハ(4インチ)や化合物半導体のニッチプロセスに対応。結晶プロセ…

    化合物半導体のエピタキシャル層や研磨後のSiウェハのアニールなど特殊な用途に対応した専用アニール装置。 高真空排気後に大気圧まで水素のみで雰囲気置換を実施、高純度還元雰囲気中で高温(1000℃)均一加熱 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置) 製品画像

    ALNコーティング装置(高密度プラズマスパッタADMS装置

    高密度プラズマスパッタで結晶性AlN膜を形成、立体形状への全面コーティ…

    に成膜。 従来の10倍のイオン量の高密度プラズマスパッタを実現。他には無い高反応性スパッタで結晶性AlNを500℃以下の低温で形成 電子デバイスから機械部品まで新たな表面機能を生み出す新薄膜形成装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • PIG式 DLCコーティング装置 製品画像

    PIG式 DLCコーティング装置

    優れた膜の密着性と高面圧耐性を実現!スパッタカソードを標準装備していま…

    『PIG式 DLC膜形成装置』は、独自開発によるPIGプラズマガンを 採用し、極めて平滑で相手攻撃性の低いDLC膜を高速で形成できる 高密度プラズマCVD装置です。 スパッタカソードを標準装備しており、スパッタ膜との...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置) 製品画像

    AlNテンプレート作成装置(配向性AlN膜用スパッタリング装置

    UV-LED用AlNテンプレートをスパッタで。高い結晶性とC軸配向性を…

    標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系(カソード、チャンバ、プロセス)を大きく改善。 R&Dタイプの小型カソード使用装置と量産用の大型カソード1元の2タイプをラインナップ。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 大型プラズマエッチング装置 製品画像

    大型プラズマエッチング装置

    ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイ…

    実績豊富なバッチタイププラズマエッチング装置「EXAM」をベースとし最大Φ600mmもしくは500mm□までステージを拡大。 大型ステージでファインピッチのエッチング・各種有機物のアッシング・表面改質・クリーニングなど幅広いプロセスに対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 水素プラズマクリーニング装置(イオンクリーニングタイプ) 製品画像

    水素プラズマクリーニング装置(イオンクリーニングタイプ)

    H2(水素プラズマの還元力で各種基板表面クリーニング。表面酸化層除去効…

    多用途に実績豊富なプラズマクリーニング装置に新タイプ登場。 従来のプラズマによる表面洗浄機能に加え、水素プラズマによる還元洗浄機能を実現。 今まで以上に表面酸化層の除去能力が向上し、クリーニング後の基板の親水性も大きく向上。 従来と同...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 大気非暴露型多元スパッタ装置 製品画像

    大気非暴露型多元スパッタ装置

    硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット~成膜…

    薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Liの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能(有償) 材料(ターゲット)ソフト...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置 製品画像

    Cuエッチング対応高密度プラズマエッチング装置

    新プラズマ源HCD(ホローカソード放電)電極搭載、各種メタルやCu薄膜…

    度プラズマと独自プロセスで各種メタルだけでなくCu薄膜などの難エッチング材のエッチングに対応。 新開発HCD型ヘッドはスケールアップが容易で矩形基板や大型基板の高精度エッチングが可能。 300mmウェハや積層基板、最大1m□までの基板のメタルエッチングに対応。 近年ニーズが高まっている半導体周辺部材(フォトマスク、高密度実装基板)をカバーする従来のプラズマエッチングにとらわれない新型エッチング装置

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • アークフィラメント式イオンプレーティング装置  製品画像

    アークフィラメント式イオンプレーティング装置 

    緻密な酸化膜厚膜(~10μm)を高速形成。新開発イオン化機構搭載 C…

    トリア膜やSiC膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜(酸化膜・炭化膜)を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。 新たな表面機能を生み出す用途創成型最新PVD装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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